【課題】 可撓性があり、衝撃応力に強く、かつ、水分や酸素に対してより高い遮蔽性を有するパッシベーション膜を形成する。
【解決手段】 エレクトロルミネッセンス素子の製造方法において、パッシベーション膜は、ターゲット材料として炭素を用い、ＡｒガスとＯ_２ガスとＮ_２ガスとを含む混合ガスをスパッタガスとして真空チャンバーＷ内に供給し、スパッタ法により成膜するようにしてあり、そのスパッタ法によるパッシベーション膜の成膜条件を、Ａｒガスの供給流量を５〜１００ｓｃｃｍ（８．４５×１０^−３〜１．６９×１０^−１Ｐａ・ｍ^３／ｓ）、Ｏ_２ガスの供給流量を０〜５０ｓｃｃｍ（０〜８．４５×１０^−２Ｐａ・ｍ^３／ｓ）、Ｎ_２ガスの供給流量を０〜４０ｓｃｃｍ（０〜６．７６×１０^−２Ｐａ・ｍ^３／ｓ）、真空チャンバーＷ内の真空度を０．０１〜１０Ｐａとしてある。 （もっと読む）

プラズマ処理プラントのためのプラズマ増幅器は、加工物（８）の処理、特にコーティングのために、グロー放電プラズマを増幅及び／または点火するためのデバイス（１、４）を備え、このデバイスには導電材料から作製された少なくとも１つの中空体（２、５）が備わっている。前記中空体は、少なくとも規定された圧力範囲及び電圧範囲で電気信号が中空体に印加されるとき、中空体の内側の放電に点火するための幾何学的条件が満たされるように構成される。中空体は少なくとも１つの開口を有し、これを通って、電荷担体が、プラズマの点火及び動作を促進するかまたは既存のプラズマを増幅するためにデバイスの周囲へ放電することができる。デバイスは、加工物と実質的に同じ電位が中空体に印加されるように、中空体を加工物と電気的に接触させる手段を備える。
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【課題】機械産業、自動車産業などに用いられる高速切削工具及びダイ用材料に適用されて材料の機械的な特性、特に、硬度及び靭性を高められる固溶体粉末、この固溶体粉末の製造方法、この固溶体粉末を用いるセラミック、このセラミックの製造方法、この固溶体粉末を含むサーメット粉末、このサーメット粉末の製造方法、このサーメット粉末を用いるサーメット、及びこのサーメットの製造方法を提供する。
【解決手段】周期表４、５及び６族の金属からＴｉを含んで選ばれる少なくとも２種の金属成分の炭化物、炭窒化物またはこれらの混合物を含む固溶体粉末であり、前期固溶体粉末のマイクロ構造は完全固溶相である固溶体粉末及びその焼結体であるセラミック。及びその製造方法。また、前記セラミックのコーティング方法。 （もっと読む）

工作物あるいは部品であって、組成（Ａｌ_yＣｒ_1-y）Ｘの少なくとも１層を含む層システムを有し、Ｘ＝Ｎ、Ｃ、Ｂ、ＣＮ、ＢＮ、ＣＢＮ、ＮＯ、ＣＯ、ＢＯ、ＣＮＯ、ＢＮＯまたはＣＢＮＯでありかつ０．２≦ｙ＜０．７であり、上記層中の層組成は、実質的に一定であるか、または層厚にわたって連続的あるいは段階的に変化する。さらにその製造方法。
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【課題】 潤滑性非晶質炭素系被膜がすぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆超硬合金製切削工具を提供する。
【解決手段】 表面被覆超硬合金製切削工具が、炭化タングステン基超硬合金または炭窒化チタン系サーメットからなる超硬基体の表面に、マグネトロンスパッタリング装置にて、カソード電極（蒸発源）としてＳｉターゲットを用い、窒素とＡｒの混合ガス、または炭化水素の分解ガスとＡｒの混合ガスからなる反応雰囲気で磁場中成膜された、Ｓｉ炭化物層およびＳｉ窒化物層のいずれか、または両方からなり、かつ０．１〜３μｍの平均層厚を有する密着接合層を介して、オージェ分光分析装置で測定して、Ｗ：５〜２０原子％、Ｓｉ：５〜２０原子％、を含有し、透過型電子顕微鏡による観察で、炭素系非晶質体の素地に、結晶質Ｓｉ炭化物微粒が分散分布した組織を示し、かつ１〜１３μｍの平均層厚を有する潤滑性非晶質炭素系被膜を蒸着形成してなる。 （もっと読む）

【課題】反射防止性能を有するだけでなく、吸収が少なく、耐摩耗性及び帯電防止効果に優れた良好な光学部材を提供すること。
【解決手段】プラスチック基材と、真空蒸着で形成された多層反射防止膜とを有する光学部材であって、該多層反射防止膜中の少なくとも１層が、炭化金属、窒化金属、及び炭・窒化金属から選ばれる1種以上の無機物質よりなる帯電防止層である光学部材とする。 （もっと読む）

【課題】 耐摩耗性、耐欠損性に優れた表面被覆切削工具およびその製造方法を提供することである。
【解決手段】 すくい面と逃げ面との交差稜線を切刃として具備する基材の表面に、所定の硬質膜を少なくとも１層被覆した表面被覆切削工具であって、切刃部における前記硬質膜表面の面粗度は、原子間力顕微鏡で測定した最大高さ（Ｒｚ）が１．０μｍ以下であり、前記硬質膜表面の酸素量は４０原子％以下である表面被覆切削工具であり、前記硬質膜を物理蒸着法により少なくとも１層被覆した後、前記硬質膜の表面に対して、所定のセラミック砥粒溶液と圧縮空気との混合物を、前記硬質膜の切刃の向きに対して０〜４５°の角度θで衝突させるように前記混合物の吐出角度を制御する製造方法である。 （もっと読む）

切削工具のための、工作物の耐摩耗性を改善するための多層構造を備える多層硬物質被覆に、ＸがＮ、Ｃ、Ｂ、ＣＮ、ＢＮ、ＣＢＮ、ＮＯ、ＣＯ、ＢＯ、ＣＮＯ、ＢＮＯ、ＣＢＮＯのいずれか一種の元素、望ましくはＮまたはＣＮである、少なくとも一つの（Ａｌ_ｙＣｒ_１−ｙ）Ｘ層（０．２≦ｙ≦０．７）、及び／または、一つの（Ｔｉ_ｚＳｉ_１−ｚ）Ｘ層（０．０１≦Ｚ≦０．３）が含まれている。該硬物質被覆はさらに、一つの（ＡｌＣｒＴｉＳｉ）Ｘ混合層、その次にさらに一つの（Ｔｉ_ＺＳｉ_１−Ｚ）Ｘ層、その次にさらに一つの（ＡｌＣｒＴｉＳｉ）Ｘ混合層、その次にさらに一つの（Ａｌ_ｙＣｒ_１−ｙ）Ｘ層からなる、少なくとも一つの層パッケージを備えている。
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【課題】ステンレス鋼からなる装身具で、耐食性が優れ、ニッケルの溶出が極めて少なく、耐傷付き性に優れた白色被膜を有する装飾品を提供すること。
【解決手段】 本発明に係る白色被膜を有する装飾品は、ステンレス鋼からなる装飾品用基材と、該基材表面に形成された下地層と、該層表面に乾式メッキ法で形成された耐摩耗層および該耐摩耗層表面に乾式メッキ法で形成された最外層とから構成され、前記最外層がプラチナ−パラジウム合金からなり、発色層がステンレス鋼色調を有する硬質白色被膜であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ステンレス鋼からなる装飾品で、耐食性が高く、ニッケルの溶出が極めて少なく、耐傷付き性に優れた白色被膜を有する装飾品を提供すること。
【解決手段】ステンレス鋼からなる装飾品用基材と、該基材表面に湿式メッキ法で形成されたバリアー層と、該バリアー層の表面に乾式メッキ法により形成された下地層と、該下地層の表面に乾式メッキ法により形成された耐摩耗層、および該耐摩耗層の表面に乾式メッキ法により形成された最外層からなる発色層とから構成されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 イオンビームスパッタやマグネトロンスパッタ法で形成された、異なる２種類の膜材料界面で相互拡散や相互反応のない多層膜が形成可能なスパッタリングターゲットの提供。
【解決手段】 炭化硼素を主成分としたターゲットにアルカリ金属又はアルカリ金属の化合物を１種又は２種以上含む炭化硼素（Ｂ４Ｃ）ターゲットで、前記アルカリ金属又はアルカリ金属の化合物は、リチウム（Ｌｉ）又はリチウム化合物を１種又は２種以上含む炭化硼素（Ｂ４Ｃ）ターゲットであるスパッタリングターゲット。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ素子特性の劣化が抑制され、ダークエリアの発生が小さい有機電界発光素子を提供する。
【解決手段】基板上に、第１電極と、有機化合物層と、第２電極と、を備える有機電界発光素子であって、第１電極と第２電極との間に、第１電極と第２電極との絶縁を確保するための絶縁層として、アモルファスカーボン系材料を含む膜、またはプラズマ重合膜を備える有機電界発光素子である。これにより、有機ＥＬ素子特性の劣化が抑制され、ダークエリアの発生が小さくなる。 （もっと読む）

金属基体２と、その上にある、少なくとも１つの機能層および／または少なくとも１つの装飾層８より形成される被覆とを有する金属製品は、前記少なくとも１つの機能層および／または少なくとも１つの装飾層８の上に、厚さ１０ｎｍ〜１０μｍのクリアラッカー層９を備える。
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基板(1)表面上の少なくとも主要層(3)、埋込層(4)、及び外部表面層(5)を有する硬質被覆層システム。表面層(5)はAlCrZを有し、ZはN、C、B、CN、BN、CBN、NO、CO、BO、CNO、BNO又はCBNOを表す。新規な被覆三層システム及び対応する被覆された工具と部品で、埋込層は次の材料又はその組合せの何れか１つを有する:金属窒化物、炭化物又は炭窒化物、金属ケイ素窒化物、炭化物又は炭窒化物であり、金属はIVB、VB又はVIB族の遷移金属、又は少なくとも１つの金属又は炭素、好ましくはダイアモンド状炭素層を有する材料の多層、又は材料、又は材料の組合せか多層。主要層は、窒化物、炭化物又は炭窒化物、又は窒化物、炭化物又は炭窒化物材料の多層を有する。主要層は、直接又は差し挟む付着層を介し加工製品上に堆積できる。付着層は上記遷移金属又は金属窒化物、好ましくはAlCr、AlTi、Cr、Ti、AlCrN、AlTiN、TiN又はCrNが可能である。
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【課題】密着性が優れ、耐酸化性、耐摩耗性、特に潤滑特性、耐欠損性に優れた硬質皮膜を提供すること、及びその被覆方法を提供することである。
【解決手段】物理蒸着法により被覆される硬質皮膜において、該硬質皮膜は４ａ、５ａ、６ａ族、Ａｌ、Ｂ、Ｓｉから選択される１種以上の金属元素と、Ｓを含みＣ、Ｎ、Ｏから選択される１種以上の非金属元素によって構成され、該硬質皮膜は柱状組織構造を有し、該柱状組織構造の結晶粒はＳ成分に組成差を有する多層構造を有し、少なくとも該多層構造における層間の境界領域で結晶格子縞が連続している領域があり、各層の厚みＴ（ｎｍ）が０．１≦Ｔ≦１００、であることを特徴とする硬質皮膜であり、その被覆方法は、アーク放電型イオンプレーティング法とマグネトロンスパッタリング法の蒸着源を同一チャンバー内で同時に放電させることにより形成する。 （もっと読む）

【課題】 金属製管状体の材質であるステンレス鋼管状体の接合部を加熱することなく、低温で一体化させる技術を提供する。
【解決手段】 本発明の金属製管状体は、内径1.0ｍｍ以下の金属製管状体の表面にチタンまたはアルミニウムの窒化物、炭化物、酸化物およびこれらの複合化合物の少なくともいずれか一つを含む皮膜を物理蒸着法により形成することを特徴とする。
この結果、本発明の金属製管状体は、ステンレス鋼管状体の接合部だけでなく、管状体全体を低温で皮膜が形成でき、管状体の熱変形は小さく、歪ができない。また、密着性に優れ、しかも高密度であるため、液体が接合部から漏れ出ることがない。 （もっと読む）

【課題】 従来技術のＤＬＣに比べて摩擦係数を低くし、高密着性で、耐摩耗性を有し、且つ成膜速度を向上させ、サイクルタイムを短縮させるＤＬＣ及びその製造方法を提供する。また、低摩擦係数で、耐摩耗性及び密着性に優れた保護膜を有する摺動部材及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 固体カーボンターゲットを使用せず、炭化水素と不活性ガス導入雰囲気中で金属ターゲットのみをスパッタリングしつつ炭化水素を解離して基材上に形成されたダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）皮膜であって、炭素／金属元素の原子比が５〜５０であることを特徴とする金属複合ダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）皮膜。 （もっと読む）

【課題】 耐面圧性を含め密着性の高い硬質炭素膜を実現する。
【解決手段】 基材１０上に、当該基材１０と相性の良い中間層としての金属膜１２が、スパッタリング処理によって形成される。そして、この中間層１２上に、シリコンを含有する高濃度シリコン含有硬質炭素膜（高濃度層）１４が、プラズマＣＶＤ処理によって形成される。さらに、この高濃度層１４上に、当該高濃度層１４よりも少なめのシリコンを含有する低濃度シリコン含有硬質炭素膜（低濃度層と言う）１６が、同プラズマＣＶＤ処理により形成される。そして、高濃度層１４および低濃度層１６が、一連の硬質炭素膜１８を成す。このように硬質炭素膜１８に含まれるシリコンの量が基材１０から遠くなるに連れて減少することで、当該硬質炭素膜１８の耐面圧性を含めた密着性が向上する。 （もっと読む）

【課題】従来のTiN 皮膜、TiC 皮膜、TiCN皮膜、(Al,Ti)(N,C)系皮膜の中で最も耐摩耗性に優れている(Al,Ti)(N,C)系皮膜よりも耐摩耗性に優れ、高速切削の場合に対応可能な耐摩耗性を有する硬質皮膜を提供する。
【解決手段】（１）結晶質の硬質皮膜であって、AlとＸ（Ｘ：Cr、Ｖの一種）の複合窒化物、複合炭化物、複合ホウ化物、複合炭窒化物、複合ホウ窒化物、複合炭ホウ化物または複合炭窒ホウ化物よりなり、そのAlとＸの組成が、（ Al_1-yＸ_y ）〔但し、Ｘ：Cr、Ｖの一種、０＜ｙ≦０．３〕で示される組成からなることを特徴とする硬質皮膜、（２）前記硬質皮膜において膜厚が0.1 〜20μm であるもの等。 （もっと読む）

【課題】 微細なフォトマスクパターンが高精度で形成されたフォトマスクおよびこれを提供するためのフォトマスクブランクを提供すること。
【解決手段】 光学的に透明な基板１１の一方主面に形成されたハーフトーン位相シフト膜などの光学膜１５上に遮光性膜１２が設けられており、この遮光性膜１２が第１の遮光性膜１３と第２の遮光性膜１４を順次積層させて構成されている。第１の遮光性膜１３はフッ素系のドライエッチング（Ｆ系ドライエッチング）では実質的にエッチングされない膜であり、その主成分がクロムである酸化物、窒化物、酸窒化物、などの膜である。さらに、第２の遮光性膜１４はＦ系ドライエッチングが可能な珪素含有化合物を主成分とする、珪素や珪素と遷移金属（例えば、モリブデン（Ｍｏ））の酸化物、窒化物、または酸化窒化物などの膜である。 （もっと読む）