前面、前面上の硬質コーティング、反射層、および硬質コーティングと反射層の間の中間帯を有するプラスチック基材を包含するプラスチックミラーであって、該中間帯が、金属および半金属、金属および半金属の酸化物および窒化物、ならびに炭素からなる群より選択される材料から形成される少なくとも１つの層を包含する、前記プラスチックミラー。 （もっと読む）

【課題】（Ａｌ_yＣｒ_1-y）Ｘコーティング工作物、たとえば鉋がけ工具（Zerspanungswerkzeug）、切削工具および成型工具あるいは機械製造および金型製造のための部品、ならびに工作物上にこのような層を析出するための方法を提供し、その際先行技術にあった問題を回避する。
【解決手段】工作物あるいは部品であって、組成（Ａｌ_yＣｒ_1-y）Ｘの少なくとも１層を含む層システムを有し、Ｘ＝Ｎ、Ｃ、Ｂ、ＣＮ、ＢＮ、ＣＢＮ、ＮＯ、ＣＯ、ＢＯ、ＣＮＯ、ＢＮＯまたはＣＢＮＯでありかつ０．４≦ｙ＜０．６８であり、上記層中の層組成は、実質的に一定であるか、または層厚にわたって連続的あるいは段階的に変化する。 （もっと読む）

【課題】被覆切削工具の提供。
【解決手段】本発明は、基材及びPVD被覆を含む被覆切削工具に関係し、PVD被覆は最外領域Cを含み、最外領域CはSi、及びAl, Y及び周期表の4, 5または 6族から選択される少なくとも二つの追加元素の窒化物, 炭化物 または ホウ化物またはそれらの混合物であり,及び領域CはSi平均含有率の組成勾配がない。領域Cは薄板状の, 非周期の, 多層構造を有し、お互いに異なる組成を有する個々の層X 及び Yを交互に入れ替えている。この被覆は、基材に最も近い領域A,中間領域 Bをさらに含み、ここで:
-領域Aには本質的にSiが無く,
-領域 BはSi平均含有率の組成勾配を含み,ここでSi平均含有率は領域Cに向かって増加していく。
本発明はまた上記の被覆切削工具を製造する方法にも関係する。 （もっと読む）

工具または摩耗部品は、基材を覆って形成されたコーティングを有する。このコーティングは、２つの硬質層の間に可塑性微小層を位置させた少なくとも１つの連続体を含むけれども、このコーティングは、可塑性微小層を硬質層と共に交互に重ねることによって作り出されるこのような連続体をいくつか有することができる。種々の硬質層は相互に組成を異ならせることができ、可塑性微小層もそうすることができる。随意的な接合層を基材と連続体との間に設けることができ、最も外側の硬質層を覆う表面層を任意で設けることができる。種々の層を物理的気相蒸着により単一のチャンバー内で堆積させることができる。
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【課題】厚膜化した２層以上の硬質皮膜における圧縮応力の低減と密着性を確保しつつ、耐摩耗性に優れた硬質皮膜被覆工具を提供する。
【解決手段】超硬合金を基体に圧縮応力を有する硬質皮膜を３〜２０μｍの膜厚で被覆した硬質皮膜被覆工具において、第１硬質皮膜及び第２硬質皮膜が被覆され、第１硬質皮膜は、（Ａｌ_ａＣｒ_{１−ａ−ｂ}Ｓｉ_ｂ）_ｃＮ_ｄ、ａ及びｂは原子％、ｃ及びｄは原子比を表し、５０≦ａ≦７０、０≦ｂ＜１５及び０．８５≦ｃ／ｄ≦１．２５であり、第２硬質皮膜は、（Ｔｉ_１−ｅＳｉ_ｅ）_ｆＮ_ｇ、ｅは原子％、ｆ及びｇは原子比を表し、１≦ｅ≦２０及び０．８５≦ｆ／ｇ≦１．２５であり、第１硬質皮膜と該第２硬質皮膜のＸ線回折における（２００）面の面間隔（ｎｍ）を夫々、ｄ１及びｄ２とした時に、０．９６５≦ｄ１／ｄ２≦０．９９０であることを特徴とする硬質皮膜被覆工具である。 （もっと読む）

【課題】摺動部材の摺動面に成膜する場合などにおいても十分な耐摩耗性を有するＤＬＣ膜およびその成膜方法を提供する。
【解決手段】基材２の表面に形成された中間層３と表面層４とからなる硬質膜１の成膜方法であって、該成膜方法は、基材２上に金属系材料を主体とする中間層３を形成する中間層形成工程と、中間層３の上にＤＬＣを主体とする表面層４を形成する表面層形成工程とを有し、中間層形成工程および表面層形成工程において、中間層３および表面層４は、スパッタリングガスとしてＡｒガスを用いたＵＢＭＳ装置を使用し、上記表面層形成工程は、上記装置内の真空度が０．２〜０．９Ｐａであり、基材２に印加するバイアス電圧が７０〜４００Ｖである条件下で、炭素供給源となるターゲットから生じる炭素原子を、中間層３上に堆積させてＤＬＣを主体とする表面層４を形成する工程である。 （もっと読む）

本発明の対象は、３０ｎｍ以下の物理的厚みの、金属Ｍの酸化物の少なくとも１つの膜で、その表面の少なくとも一部をコーティングした基板を得るための方法であって、前記酸化物膜が、少なくとも１つの銀膜を含む多層の一部ではなく、前記方法が、金属Ｍ、金属Ｍの窒化物、金属Ｍの炭化物、及び酸素が化学量論組成未満の金属Ｍの酸化物から選択される材料の少なくとも１つの中間膜が、スパッタリングによって堆積される工程であって、前記中間膜が、チタン酸化物ベースの膜の上または下に堆積されず、前記中間膜の物理的厚みが３０ｎｍ以下である、工程；並びに前記中間膜が、酸化雰囲気、特に空気に、直接、接する際に、前記中間膜の表面の少なくとも一部が熱処理を用いて酸化される工程であって、前記熱処理の際の前記基板の温度は１５０℃を超えない、工程、を含む方法である。 （もっと読む）

【課題】耐屈曲性に優れた複合フィルムを提供する。
【解決手段】基材フィルムと、該基材フィルム上に設けられた、少なくとも１層の有機層と、少なくとも１層の無機層を有する第一のガスバリアフィルムと、基材フィルムと、該基材フィルム上に設けられた、少なくとも１層の有機層と、少なくとも１層の無機層を有する第二のガスバリアフィルムと、前記第一のガスバリアフィルムと第二のガスバリアフィルムの間に設けられた接着層とを有し、該接着層が、ドライラミネート用の接着剤と金属アルコキシドを含んでいる、複合フィルム。 （もっと読む）

【課題】燃料電池のセパレータの表面を被覆して低い接触抵抗を長期間維持する効果を付与する耐食皮膜として、Ｔｉ，Ｎｂ，Ｚｒ，Ｈｆ，Ｔａから選択される１種以上の金属元素を炭素の２／３倍以下の含有率（ａｔ％）で含有する炭素膜を、チタン基材の表面に形成する生産性に優れた方法を提供する。
【解決手段】−５０〜−３００Ｖのバイアス電圧を基材Ｗに印加し、希ガスおよびその１／３〜２の流量比の炭素含有ガスを主成分とする雰囲気ガス中でアーク放電を行って、前記金属元素からなる蒸発源２を蒸発させ、雰囲気ガスと金属元素のプラズマを生成し、磁界形成手段３で、蒸発源２の蒸発面にほぼ直交して発散ないし平行に進行して基材Ｗ近傍まで到達する磁力線を形成させることにより、前記プラズマを基材Ｗ表面に供給することを特徴とする。基材Ｗ近傍のプラズマ密度を高くすることで、金属の成膜速度を抑えて炭素を主体とする金属含有炭素膜が形成される。 （もっと読む）

【課題】溶接ラインや溶接作業を止めることなく、長時間連続して溶接することができる耐スパッタ特性に優れたガスシールドアーク溶接トーチのシールドノズルを提供する。
【解決手段】ソリッドワイヤーが挿通され、ソリッドワイヤーに電流を供給するコンタクトチップを包容するように配設された筒状のガスシールドアーク溶接トーチのシールドノズル５であって、シールドノズル母材５ａ表面に、密着性セラミック被膜の母材表上被膜層５ｂを形成し、母材表上被膜層５ｂの上層に、硬質セラミック被膜の表面被膜層５ｄを形成する。なお、母材表上被膜層５ｂと表面被膜層５ｄの間に、密着性セラミックと硬質セラミックの混合物からなる中間被膜層５ｃを形成することが好ましい。 （もっと読む）

【課題】高硬度材の高速切削加工で、すぐれた耐酸化性と潤滑性を備えることにより、耐チッピング性、仕上げ面精度の向上を図った表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】ＷＣ超硬合金、ＴｉＣＮ基サーメット、ｃＢＮ基超高圧焼結材料からなる工具基体の表面に、ＴｉＮ、ＴｉＣＮ、（Ｔｉ，Ａｌ）Ｎ層の少なくとも一層からなる硬質被覆層を蒸着形成した表面被覆切削工具において、上記硬質被覆層の最表面に、１００〜５００ｎｍの膜厚の非晶質二酸化珪素膜を形成する。 （もっと読む）

本発明は、摩耗および腐食からの保護が改善された、基板上のコーティングシステムに関する。本発明に従い、基板をダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）層でコーティングする。このＤＬＣ層を、ＤＬＣコーティング材料と異なる材料を用いたさらなる層でコーティングすることにより、ＤＬＣ層のピンホールを閉じる。
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【課題】金属からなる基材層とその表面に配置された導電性炭素層とを有する導電部材において、その優れた導電性を十分に確保しつつ、耐食性をより一層向上させうる手段を提供する。
【解決手段】本発明の導電部材の製造方法は、乾式成膜法において、金属基材上に中間層を形成する工程と、中間層上に導電性炭素層を形成する工程とを有し、中間層形成時における負のバイアス電圧を少なくとも低い値から高い値へ変化させることを有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】少なくともＡｌ／Ｃｒ比に関して調節可能な均質または変更可能な層組成を有しかつ少なくとも特定の用途においては従来公知の層を設けた工作物よりも高い耐摩耗性を有する工作物を提供する。
【解決手段】工作物あるいは部品であって、組成（Ａｌ_yＣｒ_1-y）Ｘの少なくとも１層を含む層システムを有し、Ｘ＝Ｎ、Ｃ、Ｂ、ＣＮ、ＢＮ、ＣＢＮ、ＮＯ、ＣＯ、ＢＯ、ＣＮＯ、ＢＮＯまたはＣＢＮＯでありかつ０．２≦ｙ＜０．７であり、上記層中の層組成は、実質的に一定であるか、または層厚にわたって連続的あるいは段階的に変化する。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、加工時や使用時に生じる熱による寸法変化が起こりにくく、且つ変質しにくく、したがって、長期にわたり高く安定したガスバリア性を保持することができる透明ガスバリア性フィルムを提供することを目的とする。
【解決手段】 プラスチックフィルムを加熱処理し、特定の熱収縮率となるように収縮させてプラスチック基材フィルムとし、該プラスチック基材フィルムの少なくとも一方の面に蒸着膜を設けて蒸着フィルムとし、さらに、該蒸着フィルムを加熱処理して、特定の熱収縮率となるように収縮させることを特徴とする透明ガスバリア性フィルムを提供する。 （もっと読む）

【課題】表面硬度と耐傷性と耐腐食性とに優れ、かつ美しい彩度を有する装飾部材を提供することにある。
【解決手段】本発明の装飾部材は、基材上に硬質被膜を被覆した硬質装飾部材であって、前記硬質被膜上に密着層と複数層の誘電体多層膜とをこの順に積層した構成を備えることを特徴とする。これにより、本発明の装飾部材では基材表面硬度と耐傷性が向上し、硬質被膜と誘電体多層膜との密着性が十分に確保されているので、誘電体多層膜が硬質被膜から剥離するのを抑止しさらに耐傷性が向上する。また、密着層の上に複数層の誘電体多層膜を形成することで、透明感と高い彩度を呈する装飾部材を提供できる。さらに、最表層にあたる誘電体多層膜は絶縁膜であるので、耐孔蝕性や耐腐蝕性が向上する。 （もっと読む）

【課題】面圧が２．０ＧＰａ以上と高面圧下で使用される部材（特には、摺動部材）の表面に形成した場合であっても、優れた耐久性を発揮する積層皮膜を提供する。
【解決手段】金属元素の炭化物、ほう化物、および炭ほう化物よりなる群から選択される１以上の化合物からなり、ナノインデンテーション法で測定される硬度（以下、「ナノインデンテーション硬度」という）が２０ＧＰａ以上３５ＧＰａ以下で、かつ膜厚が５μｍ以上１０μｍ以下である中間層２と、前記中間層上に形成され、ナノインデンテーション硬度が２５ＧＰａ以上３５ＧＰａ以下で、かつ膜厚が０．３μｍ以上１．０μｍ以下であるダイヤモンドライクカーボン膜３とを備えていることを特徴とする積層皮膜。 （もっと読む）

【課題】反りの発生を低減させることができるIII族窒化物半導体層の製造方法を提供すること。
【解決手段】III族窒化物半導体層の製造方法は、下地基板１０上に、炭化チタン、炭化ジルコニウム、炭化ハフニウム、炭化バナジウムまたは炭化タンタルから選択されるいずれかの炭化物層１１を形成する工程と、炭化物層１１の上部にIII族窒化物半導体層１２を成長させる工程と、III族窒化物半導体層１２中で亀裂を生じさせて、前記下地基板１０を除去し、III族窒化物半導体層を得る工程とを含む （もっと読む）

【課題】手間を要さずにIII族窒化物半導体基板を得ることができるIII族窒化物半導体基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】下地基板１０上に、第一の膜１１である炭素膜を形成する工程と、第一の膜１１上に炭化チタン層１２を形成する工程と、炭化チタン層１２を窒化する工程と、窒化された炭化チタン層の上部にＧａＮ半導体層をエピタキシャル成長させる工程と、ＧａＮ半導体層から、下地基板１０を除去して、ＧａＮ半導体基板を得る工程とを実施する。 （もっと読む）

【課題】手間を要さずにIII族窒化物半導体基板を得ることができるIII族窒化物半導体基板の製造方法を提供する。
【解決手段】下地基板１０上に、炭化アルミニウム、炭化チタン、炭化ジルコニウム、炭化ハフニウム、炭化バナジウムまたは炭化タンタルから選択されるいずれかの炭化物層１２を形成する工程、炭化物層１２上に、第一膜として炭素膜１３を形成する工程、炭化物層１２を窒化する工程、窒化した炭化物層１２の上部にIII族窒化物半導体層をエピタキシャル成長させる工程、III族窒化物半導体層から、下地基板１０を除去して、III族窒化物半導体層を含むIII族窒化物半導体基板を得る工程を実施する。 （もっと読む）