【課題】耐付着性に優れる被覆金型およびその製造方法を提供する。
【解決手段】表面に硬質皮膜を被覆した金型であって硬質皮膜はその金型基材側に被覆したＴｉまたはＴｉの窒化物、炭化物、炭窒化物の何れかからなるａ層と、金型表面側に被覆したＡｌ_ｘＣｒ_ｙＳｉ_ｚの窒化物（但し、ｘ、ｙ、ｚは原子比、ｘ＋ｙ＋ｚ＝１００、ｘ＞ｙ、３≦ｚ＜２０）からなり硬度が３５ＧＰａ以上であるｂ層と、ａ層とｂ層の間に配置され、ａ層側からｂ層側に向かってＴｉ比率が減少するＴｉと、前記ａ層側から前記ｂ層側に向かって前記ｂ層のＳｉ比率に近づくように増加するＳｉとを含むＡｌ_ｖＣｒ_ｗの窒化物（但し、ｖ、ｗは原子比、ｖ＞ｗ）からなる中間層とを有し、
表面粗さがＲａ０．１μｍ以下、Ｒｚ０．８μｍ以下、ロックウエルを用いて押圧した場合に、圧痕の外周から径方向に生ずる剥離における最大サイズが５０μｍ以下である耐付着性に優れる被覆金型。 （もっと読む）

【課題】本発明はかかる事情に鑑みてなされたものであり、耐摩耗性に優れた硬質皮膜形成部材および硬質皮膜の形成方法を提供する。
【解決手段】基材１上に硬質皮膜４を備えた硬質皮膜形成部材１０（１０ａ）であって、硬質皮膜４は、組成がＴｉ_ａＣｒ_ｂＡｌ_ｃＳｉ_ｄＹ_ｅ（Ｂ_ｕＣ_ｖＮ_ｗ）（ただし、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、ｕ、ｖ、ｗは所定量の原子比）を満足するＡ層２と、組成がＴｉ_ｆＣｒ_ｇＡｌ_ｈ（Ｂ_ｘＣ_ｙＮ_ｚ）（ただし、ｆ、ｇ、ｈ、ｘ、ｙ、ｚは所定量の原子比）を満足するＢ層３とを備え、厚さが０．５μｍ以下の中間層５を介してまたは中間層５を介さずにＢ層３の上にＡ層２が積層され、Ａ層２の厚さが０．５〜５．０μｍであり、Ｂ層３の厚さが０．０５〜３．０μｍであることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 切削工具や冷間および温熱間における鍛造、プレス加工といった金属の塑性加工に使用される工具において耐久性に優れる被覆工具およびその製造方法を提供する。
【解決手段】基材表面に皮膜を被覆した被覆工具であり、該皮膜は、硬度が３０ＧＰａ以上であるＡｌＣｒ系の窒化物または炭窒化物の硬質皮膜と、該硬質皮膜と基材の界面にある中間皮膜からなり、該中間皮膜は膜厚が２〜４０ｎｍ、結晶粒子の平均幅が４０ｎｍ以下のＴｉの金属、またはＴｉの窒化物、炭化物、炭窒化物の何れかからなる被覆工具である。 （もっと読む）

【課題】耐久性に優れた表面被覆部材及びその製造方法を提供する。
【解決手段】表面被覆部材は、鋼系部材もしくは超硬合金部材からなる基部にＰＶＤ法によりＴｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、ＡｌおよびＣｒの少なくとも１種以上の窒化物、炭化物または炭窒化物からなる第１層と、第１層上に被覆されたＡｌ−Ｃｒ系窒化物の第２層と、または第１層上に被覆された傾斜層であるＡｌ−Ｃｒ系窒化物の第２層を有する。表面被覆部材の製造方法は、鋼系部材もしくは超硬合金部材からなる基部にＰＶＤ法によりＴｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、ＡｌおよびＣｒの少なくとも１種以上の窒化物、炭化物または炭窒化物からなる第１層を被覆し、第１層上にＡｌ−Ｃｒ系窒化物の第２層を被覆し、または第１層上に傾斜層であるＡｌ−Ｃｒ系窒化物の第２層を被覆することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】表面が曲面形状または凹凸 形状を有する基板上に、平滑性の高い被エッチング層と熱反応型レジスト材料を積層した積層体を設けることを目的の一つとする。
【解決手段】曲面形状または凹凸形状の基板上に、フロン系ガスを用いたドライエッチング処理に用いられ、且つ元素群Ｔａ、Ｍｏ、Ｎｂから少なくとも１種類を含む元素及びその酸化物、窒化物、硫化物、炭化物、セレン化物、シリサイドのいずれかから選択されるドライエッチング材を含むドライエッチング層と、前記ドライエッチング層の上に熱反応型レジスト層とを積層する。 （もっと読む）

【課題】薄膜と被成膜基材との密着性を十分に確保できる被成膜基材への薄膜の成膜方法を提供する。
【解決手段】本発明の一態様は、プラスチック又はプラスチックにＳｉＯ_２及びＡｌ_２Ｏ_３の少なくとも一方を分散させた材料からなる被成膜基材２の表面に酸素プラズマ処理、オゾン処理及び紫外線照射処理のいずれかの処理を施した後に、前記被成膜基材２の表面上に、プラズマＣＶＤ法、スパッタ法及び蒸着法のいずれかの方法により薄膜を成膜することを特徴とする被成膜基材への薄膜の成膜方法である。 （もっと読む）

【課題】基材と被膜との密着性を良好に保ち、過酷な切削条件に耐え得る表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】本発明の表面被覆切削工具は、基材と、該基材上に形成された被膜とを備えるものであって、基材は、硬質粒子と該硬質粒子を結合する結合相とを含み、被膜に接する硬質粒子は、被膜に接する側の表面に凹凸が形成されており、表面被覆切削工具の表面に対する法線を含む平面で切断したときの断面において、基材は、被膜に接する側の表面に位置する長さ５０μｍの基準線における面粗度Ｒ_maxが１μｍ以上１０μｍ以下であり、基準線における硬質粒子の凹凸を構成する凹部を挟む両端の凸部の先端を結ぶ線分Ａの長さＬは、１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下であり、線分Ａに平行でかつ凹部の最深部に接する線分Ｂと、線分Ａとの距離Ｄは、１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】成形用部材の圧造の繰り返しに対する耐久性を有する成形用工具、この成形用工具を製造する成膜装置および成膜方法を提供すること。
【解決手段】成形対象部材を圧造し、成形対象部材を所定形状に成形する成形用工具１であって、所定形状に対応する凸形状をなして表面が硬質膜で覆われ、基端面からの突出角度が異なる複数の斜面からなる側面部（第１斜面１１ｂおよび第２斜面１１ｃ）と、側面部の先端に位置する頭頂部１１ａとを有する成形部１１と、成形部１１の土台をなす基部１２と、を備え、側面部における硬質膜の最小膜厚の最大膜厚に対する膜厚比を０．７以上とすることによって、圧造の繰り返しに対する耐久性を向上する。 （もっと読む）

【課題】金属及びケイ素を含む光半透過膜や遮光膜における波長２００ｎｍ以下の露光光
に対する耐光性を向上させ、フォトマスクの寿命を改善できるフォトマスクブランクの製
造方法を提供する。
【解決手段】波長２００ｎｍ以下の露光光が適用されるフォトマスクを作製するために用
いられるフォトマスクブランクであって、
透光性基板１上に薄膜２を備え、
前記薄膜２は、遷移金属、ケイ素及び炭素を含み、ケイ素炭化物及び／又は遷移金属炭
化物を有する材料からなることを特徴とするフォトマスクブランク。 （もっと読む）

【課題】離型性の低下が抑制されたクロム系硬質被膜をＰＶＤ法で製造する。
【解決手段】真空チャンバ１０ａ内の被成膜物２１，２２にバイアス電圧を印加しつつクロム蒸発源１３ａ，１４ａと陽極１３ｂ，１４ｂとの間にアーク放電を発生させることにより被成膜物２１，２２の表面にクロム層を形成する。真空チャンバ１０ａ内に窒素を供給しつつクロム蒸発源１３ａ，１４ａと陽極１３ｂ，１４ｂとの間にアーク放電を発生させることによりクロム層の上に窒化クロム層を形成する。真空チャンバ１０ａ内に窒素及び炭素を供給しつつクロム蒸発源１３ａ，１４ａと陽極１３ｂ，１４ｂとの間にアーク放電を発生させることにより窒化クロム層の上に炭窒化クロム層を形成する。真空チャンバ１０ａ内に炭素を供給しつつクロム蒸発源１３ａ，１４ａと陽極１３ｂ，１４ｂとの間にアーク放電を発生させることにより炭窒化クロム層の上に非晶質の炭化クロム層を形成する。 （もっと読む）

【課題】被処理材のプラズマダメージを低減できるプラズマ雰囲気下で、被処理材上に成膜原料を効率的に成膜できる成膜方法及び成膜装置を提供することにある。特にガスバリア膜の成膜方法及び成膜装置を提供する。
【解決手段】プラズマ雰囲気下でイオン化した成膜原料を被処理材１上に堆積させる成膜方法であって、磁力線２が被処理材１の成膜面３から離れる方向９に向く磁場環境を形成し、その磁場環境で被処理材１の成膜面３に成膜原料を堆積させる。このときの磁力線２の向きは、磁石のＮ極からＳ極に向かう磁力線の向きであって、プラズマを構成する荷電粒子４を成膜面３から離れる方向９にはね返す向きである。そうした磁力線２は、永久磁石又は電磁石のＮ極を成膜原料が供給される側に近い側に配置し、Ｓ極を遠い側に配置する等して実現できる。 （もっと読む）

【課題】摩擦調整剤を含有した潤滑油が共存した摺動環境において従来技術よりも良好な低摩擦性と高い耐摩耗性とを兼ね備えた摺動部品を提供する。
【解決手段】モリブデン化合物を含有する潤滑油が共存する環境下で使用される摺動部品１であり、該摺動部品を構成する基材３の最表面に表面硬度が1800以上のビッカース硬度の硬質保護層２０が形成された摺動部品であって、前記硬質保護層は、炭素、窒素および金属元素を主成分とし、かつ窒素を含有する炭素非晶質体と前記金属元素の化合物結晶体との複合体により構成され、前記化合物結晶体は金属炭化物、金属窒化物および金属炭窒化物のうちの少なくとも１つである。 （もっと読む）

【課題】薄膜自体に膜応力がある場合においても、マスクブランクの平坦度が所望の平坦度となり、マスクのパターン位置精度や、パターン転写の際、パターン位置ずれやパターン欠陥が発生することがないマスクブランクの製造方法および転写用マスクの製造方法を提供する。
【解決手段】電子デバイス用基板の主表面上に薄膜を形成してマスクブランクを製造するマスクブランクの製造方法であって、
前記薄膜を形成する側の主表面の表面形状が凸形状である基板に対し、クロムを主成分とする材料からなり、引張応力を有する前記薄膜をスパッタリング法で形成することにより、前記薄膜の成膜前よりも主表面の平坦度が高いマスクブランクを得ることを特徴とするマスクブランクの製造方法および転写用マスクの製造方法。 （もっと読む）

【課題】高速高送りターニング切削加工において、硬質被覆層がすぐれた耐チッピング性と耐摩耗性を発揮する表面被覆切削工具およびその製造方法を提供する。
【解決手段】工具基体表面に、Ｔｉ化合物層あるいは（Ｔｉ，Ａｌ）Ｎ層を下部層として形成し、その上に、ダイナミックオーロラＰＬＤ法により、（００１）面配向のＹＳＺからなる密着層、結晶構造がコランダム構造からなり（０００１）面配向の（Ｃｒ，Ａｌ）_２Ｏ_３あるいはＣｒ_２Ｏ_３からなる中間層、ＭＯＣＶＤ法により結晶構造がコランダム構造からなり（０００１）面配向のα−Ａｌ_２Ｏ_３からなる上部層、をそれぞれ形成した表面被覆切削工具。 （もっと読む）

【課題】高速高送りミーリング切削加工において、硬質被覆層がすぐれた耐チッピング性と耐摩耗性を発揮する表面被覆切削工具およびその製造方法を提供する。
【解決手段】工具基体表面に、Ｔｉ化合物層あるいは（Ｔｉ，Ａｌ）Ｎ層を下部層として形成し、その上に、ダイナミックオーロラＰＬＤ法により、（００１）面配向のＹＳＺからなる密着層、結晶構造がコランダム構造からなり（０００１）面配向の（Ｃｒ，Ａｌ）_２Ｏ_３あるいはＣｒ_２Ｏ_３からなる中間層、ＭＯＣＶＤ法により結晶構造がコランダム構造からなり（０００１）面配向のα−Ａｌ_２Ｏ_３からなる上部層、をそれぞれ形成した表面被覆切削工具。 （もっと読む）

【課題】従来の表面被覆層よりも耐摩耗性に優れると共に摩擦係数が低くて摺動性に優れる硬質皮膜、硬質皮膜被覆材および冷間塑性加工用金型を提供する。
【解決手段】（Ｖ_ｘＭ_１−ｘ）（Ｂ_ａＣ_ｂＮ_{１−ａ−ｂ}）からなる硬質皮膜であって下記式（１Ａ）〜（４Ａ）を満たすことを特徴とする硬質皮膜等。〔但し、上記Ｍは４ａ、５ａ、６ａ族の元素、Ｓｉ、Ａｌの１種以上であり、下記式において、ｘはＶの原子比、１−ｘはＭの原子比、ａはＢの原子比、ｂはＣの原子比、１−ａ−ｂはＮの原子比を示すものである。〕
０．４≦ｘ≦０．９５−−−−式（１Ａ）、０≦ａ≦０．２−−−−式（２Ａ）、
０≦１−ａ−ｂ≦０．３５−−−−式（３Ａ）、０．６≦ｂ≦１−−−− 式（４Ａ） （もっと読む）

【課題】デジタルカメラ、デジタルビデオカメラ、プロジェクターなどに用いられるシャッター羽根または絞り羽根や、カメラ付き携帯電話や車載モニターの固定絞りとして用いられ、耐熱性、高遮光性、低反射性に優れた耐熱遮光フィルムとその製造方法を提供する。
【解決手段】表面に微細な凹凸を形成した２００℃以上の耐熱性を有する樹脂フィルム基材（Ａ）の少なくとも一方の面に、５０ｎｍ以上の膜厚を有する硬質性の遮光性薄膜（Ｂ）がスパッタリング法で形成された耐熱遮光フィルムであって、遮光性薄膜（Ｂ）は、炭化チタンと金属成分とを主成分とし、該金属成分はニッケル、チタン、タングステン、モリブデン、鉄、アルミニウム、又はマグネシウムから選ばれる一種以上の金属成分を３〜７質量％含有する金属炭化物膜（Ｂ１）、及び該金属炭化物膜上の酸素を含む金属炭化物膜（Ｂ２）からなり、非晶質相を含まず完全な結晶相だけで構成された積層膜。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、基材表面に低ダメージのマグネトロンプラズマを容易に形成することを可能とし、かつ前記マグネトロンプラズマで反応性を高めることにより高品質かつ高速で化合物薄膜を形成できるスパッタ成膜装置およびスパッタ膜の製造方法に関する。具体的には、基材およびスパッタ膜が磁性体であっても、スパッタ用電源以外のプラズマ用電源を用いなくとも、基材表面で高密度のプラズマを生成して反応性を高めることが可能であり、高品質かつ高速でスパッタ膜を形成できるスパッタ成膜装置およびスパッタ膜の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】
真空に排気可能な容器内に、平板型マグネトロンカソードと基材保持機構とが対向して配置されているスパッタ成膜装置において、前記マグネトロンカソードと前記基材保持機構との間に、前記マグネトロンカソードの放電面を囲んで環状の磁性体が配置されていることを特徴とする、スパッタ成膜装置。 （もっと読む）

【課題】帯電防止性および耐久性の良好な光学物品の製造方法を提供する。
【解決手段】光学基材１の上に、直にまたは他の層を介して透光性の第１の層を形成することと、第１の層の表面に、遷移金属カーバイド、遷移金属シリサイド、遷移金属ゲルマニドの少なくともいずれかを含む透光性薄膜３３を物理的蒸着により形成することとを有する。透光性薄膜を物理的蒸着により形成することは、炭素、ケイ素、ゲルマニウムのいずれかを含む第１の化合物群に含まれる少なくとも１種を含む第１の気体をイオン化することを含む。 （もっと読む）

前面、前面上の硬質コーティング、反射層、および硬質コーティングと反射層の間の中間帯を有するプラスチック基材を包含するプラスチックミラーであって、該中間帯が、金属および半金属、金属および半金属の酸化物および窒化物、ならびに炭素からなる群より選択される材料から形成される少なくとも１つの層を包含する、前記プラスチックミラー。 （もっと読む）