【課題】放射線像変換パネルを蒸着で作製するときに突沸（スプラッシュ）による画像欠陥がない輝尽性蛍光体プレートを作製することを可能とする放射線像変換パネルの製造方法および該パネルの製造装置を提供する。
【解決手段】内部に基板を備えた真空チャンバーと、前記基板に対向する開口部を有し、蒸着原料を収容するボート、前記ボートを加熱する加熱装置とを備えた蒸着装置を用い、気相堆積法により前記基板上に輝尽性蛍光体層を成長させる。前記ボート５は、該ボートの加熱により発生し、該ボート中に収容された蒸着原料１１の表面から前記基板に向けて直線的に飛行する蒸着原料粒子をカットする仕切板９を備える。 （もっと読む）

【課題】 充分な耐熱性や耐食性を有した低抵抗なＡｇ合金膜と、そのＡｇ合金膜の基板に対する密着性を高いレベルで確保できる新規な積層配線膜を提供する。
【解決手段】 基板上に形成される積層配線膜であって、０．１〜０．５原子％のＳｉおよび／またはＺｒ、０．１〜０．５原子％のＣｕを含有し、残部実質的にＡｇからなるＡｇ合金膜と該Ａｇ合金膜を覆う被覆膜からなり、該被覆膜はＭｏあるいはＭｏを５０原子％以上含有するＭｏ系膜である積層配線膜である。 （もっと読む）

本発明は、熱処理を行わなくても実用に値する光触媒部材を提供することを目的とする。
本発明の光触媒部材は、基材表面に下地層を介して光触媒層が形成されたものである。前記下地層は結晶性ジルコニウム化合物、とりわけ単斜晶系ジルコニウム化合物を主成分とし、前記光触媒層は結晶相から構成され、例えば正方晶系酸化チタンを主成分とする。そして、前記基材は耐熱性の低い要素を含むものである。
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【課題】連結ホールが形成された鉛直状態のトレイと、連結ホールと係合される連結アームが形成されたホルダープレートを具備し、トレイ及びトレイホルダーの曲がりが防止されたトレイ及びトレイホルダー用整列システムを提供する。
【解決手段】基板及びマスクが固着されることができ、連結突起を具備する複数の連結ホール１１０が形成されて鉛直状態で移送されるトレイ１００と、このトレイ１００と連結されるように前記連結ホール１１０に挿入され得る連結アーム２１０であって、前記連結ホール１１０に挿入された状態で前記連結突起に係合し得る連結溝が形成された連結アーム２１０、及び前記連結アーム２１０が設けられたホルダープレート２９０を含むトレイホルダー２００とを含んでなる。 （もっと読む）

【課題】 放射線像取得方法において、被写体の放射線像が記録された蓄積性蛍光体シートに励起光を走査して取得される上記放射線像を示す画像信号の品質の低下を抑制する。
【解決手段】 被写体の放射線像１Ｈが記録されている蓄積性蛍光体シート２１上への励起光Ｌｅの走査を、蓄積性蛍光体シート２１の縁部のうち、被写体の放射線像１Ｈが記録されている縁部２１Ｔから行なうようにし、上記励起光Ｌｅの走査により蓄積性蛍光体シート２１から発生した輝尽発光光を検出して被写体の放射線像１Ｈを示す画像信号を取得する。 （もっと読む）

【課題】 マスクにおける撓み発生を防止ないし抑制し、高精度な蒸着等のマスク成膜を容易に行うことができる成膜方法を提供する。
【解決手段】 本発明の成膜方法は、マスク１を介して被成膜基板４に膜パターンを形成する成膜方法であって、成膜材料の供給源１２側から、前記マスク１と、前記被成膜基板４と、該被成膜基板４との接面が平坦な第１部材５とを順に配設し、前記マスク１と前記第１部材４を磁力吸引しながらマスク成膜を行うことを特徴とする。 （もっと読む）

透明性、エッチング特性に優れた低抵抗の透明導電膜、その原料スパッタリングターゲット、並びに基板上に当該透明導電膜を成膜した非晶質透明電極基板及びその製造方法を提供する。少なくとも酸化インジウム及び酸化亜鉛からなる透明導電膜であって、Ｒｅ、Ｎｂ、Ｗ、Ｍｏ及びＺｒから選ばれた１種又は２種以上の第三金属を含み、下記▲１▼式及び▲２▼式を満たす非晶質透明導電膜である。
０．７５≦［Ｉｎ］／（［Ｉｎ］＋［Ｚｎ］）≦０．９５・・・▲１▼ １．０×１０^−４≦［Ｍ］／（［Ｉｎ］＋［Ｚｎ］＋［Ｍ］）≦１．０×１０^−２・・・▲２▼ ここで、［Ｉｎ］、［Ｚｎ］又は［Ｍ］は、それぞれＩｎの原子数、Ｚｎの原子数又は第三金属の原子数を示す。この非晶質透明導電膜、エッチング時の加工性に優れた非晶質であり、低い比抵抗を有し、且つ移動度が大きい。
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【課題】表面抵抗が小さく、表面エネルギーが大きい透明導電フィルムを提供することができる。
【解決手段】基材フィルム２と基材フィルム２の表面に形成したＩＴＯからなる透明導電層３とを有する透明導電フィルム１。透明導電層３における基材フィルム２と反対側の表面３１には、ＩＴＯ以外の金属酸化物からなる金属酸化物層４が形成されている。金属酸化物層４は、ＳｉＯ₂、ＴｉＯ₂、ＺｎＯ、ＳｎＯ₂、ＳｉＯＮ、ＴｉＯＮのいずれか一種以上からなることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】 鉛直配置されたマスクフレーム上にシャドウマスクを隣接させ、引張力を加えた状態で、マスクフレームに溶接をして付着することにより、鉛直方向への垂れを予め反映してマスク付着後のパターンの変形を防止し、整列可否を予め確認可能にしたシャドウマスクの付着方法を提供する。
【解決手段】 マスクフレームを鉛直配置する段階と、シャドウマスクを前記マスクフレーム上に付着する段階と、からなることを特徴とするシャドウマスクの付着方法が提供される。また、前記シャドウマスクを前記マスクレーム上に付着する段階は、前記シャドウマスクを前記マスクフレーム上に隣接させる段階と、前記シャドウマスクに外力を加える段階と、前記マスクフレーム上に外力が加えられた前記シャドウマスクを接合させる段階と、からなる。 （もっと読む）

耐酸化性物品の製造方法が開示される。該方法は、（ａ）支持体上へ白金族金属の層を沈着させることによって白金族金属沈着化支持体を形成させ、次いで（ｂ）白金族金属沈着化支持体層上へ、Ｈｆ、Ｙ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｚｒ及びこれらの混合物から選択される反応性元素を沈着させることによって該白金族金属沈着化支持体上へ表面改質領域を形成させる工程を含む。この場合、該表面改質領域は、白金族金属、Ｎｉ、Ａｌ及び反応性元素を、γ−Ｎｉ＋γ’−Ｎｉ_３Ａｌ相組成が形成されるような相対濃度で含有する。
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【課題】 安定的な薄膜形成を可能として、かつ装置コストを抑えることができる薄膜形成装置を提供する。
【解決手段】 薄膜形成装置は、複数の成膜室２１〜２４を例えばＺｎＯ膜上のＡＬ膜、Ａｇ膜の積層、あるいはＡｇ膜のみの複数回に分けての成膜に利用することができる。仕切り扉３３ａ，３３ｂをともに開いておくとき、フィルム基板１０を一回だけ搬送すれば、第１成膜室２１と第２成膜室２２ではフィルム基板１０の表面側に成膜でき、同時に第３成膜室２３と第４成膜室２４では裏面側に成膜を施すことができる。仕切り扉３３ａ，３３ｂの一方だけを開いておけば、送りロール４から中間ロール１８に至る搬送経路と、中間ロール１８から巻き取りロール５に至る搬送経路とに切り換えて使用することができる。 （もっと読む）

【課題】 メンテナンス作業を短時間で容易に行うことができる成膜装置及び蒸着装置を提供する。
【解決手段】 本発明に係る成膜装置は、チャンバー上部１ａとチャンバー下部１ｂを有する外部チャンバー１と、前記外部チャンバー１内に配置され、前記チャンバー下部１ｂに取り付けられた内部チャンバー６と、前記内部チャンバー６内に配置され、被成膜基板１６が保持される基板保持部４ａと、具備し、前記チャンバー上部１ａと前記チャンバー下部１ｂは分離自在に形成されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】輝尽性蛍光体層の蒸着開始前に浮遊物が支持体上に付着することを防止して、高鮮鋭な放射線画像変換パネルを製造する放射線画像変換パネルの製造装置及び放射線画像変換パネルの製造方法を提供する。
【解決手段】真空容器３と、真空容器３内に設けられ、支持体２に蒸着させる輝尽性蛍光体を収容するるつぼ１０，１０と、るつぼ１０，１０に対向し支持体２を支持する支持体ホルダ４と、るつぼ１０，１０の開口を覆う被覆位置からるつぼ１０，１０からの輝尽性蛍光体の蒸発を妨げない退避位置まで移動可能なシャッタ板１２を備える蒸発源シャッタ１１，１１と、支持体ホルダ４に支持された支持体２の表面を覆う被覆位置から支持体２にかからない退避位置まで移動可能なシャッタ板７を備える支持体シャッタ９と、を備える。 （もっと読む）

【課題】この発明は、蒸着材の膜厚を均一に成膜できる成膜装置を提供することを課題とする。
【解決手段】成膜装置３０は、基板２１の被蒸着面２１ａに離間対向した開口部をそれぞれ有し走査方向Ｓと直交する蒸着源２２の並び方向Ｌに沿って並設された矩形筒状の複数の区画部材２３を有する。各区画部材２３の開口部には、６角形の開口３２を有する遮蔽部材３１が設けられている。遮蔽部材３１の各開口３２は、隣接する辺が外側に折り曲げられている。これにより、被蒸着面２１ａに投影される蒸着領域は、部分的に重なることになる。 （もっと読む）

【課題】 複数のマスク部２を備えたメタルマスク１の４辺を複数のクランプ１８で引張ってゆがみやたるみの無い状態に引き伸ばす際に、メタルマスクのコーナー部を挟んで配置されたクランプ同士の干渉を避けてコーナー部まで所定の寸法精度で引き伸ばすことを可能とする。
【解決手段】 メタルマスク１のコーナー部を挟んで配置されるクランプ１８を、引張力付加方向に直角な方向に移動可能としておき、メタルマスクがコーナー部をはさんで隣接したクランプ１８、１８で互いに直角なＡ方向、Ｂ方向に引っ張られた際、クランプ１８がそのメタルマスクの移動に追従して移動することで、クランプ同士の干渉を避け、メタルマスク１をコーナー部まで支障なく引き伸ばし可能とする。 （もっと読む）

【課題】 ＥＬパネルを構成する透明基板とマスク板とをアライメントするときに、透明基板の撓みによって透明基板とマスク板とを接触することを防止し、高精度にアライメントを行う。
【解決手段】 透明基板１とマスク板２とのアライメントは、夫々の角隅部に形成されたアライメントマーク１Ｍ及び２Ｍをカメラ５により観察して行われるが、カメラ５の被写界深度内で行うために、両アライメントマークはできる限り近接させた状態でアライメントを行う。このとき、透明基板１の中央部分に撓みが生じて透明基板１とマスク板２とを接触させないために、予め透明基板１を反自重方向に向けて僅かに凸形状に湾曲させた状態で、透明基板１とマスク板２とを近接させる。 （もっと読む）

【課題】低屈折率誘電体層の成膜レートがより高められた、生産性に優れる光情報記録媒体を提供する。
【解決手段】高屈折率誘電体層と低屈折率誘電体層とが積層された複合型の誘電体層を備える光情報記録媒体であって、この低屈折率誘電体層に強磁性遷移金属を含有するＳｉ酸化物を用いることで、生産性に優れる光情報記録媒体を提供することができる。 （もっと読む）

【課題】保護膜、該保護膜形成用の複合体、該保護膜の製造方法及び該保護膜を備えたプラズマディスプレイ装置を提供する。
【解決手段】希土類元素よりなる群から選択された一つ以上を含むマグネシウム酸化物を含み、希土類元素の含有量がマグネシウム酸化物１質量部当たり５．０ｘ１０^−５質量部から６．０ｘ１０^−４質量部である保護膜、保護膜形成用の複合体、保護膜の製造方法及び保護膜を備えたプラズマディスプレイパネルである。これにより、放電遅延時間を短縮させ、放電遅延時間の温度依存性を低下させ、Ｘｅの含有量増加とシングルスキャン要求に適している保護膜となる。 （もっと読む）

【課題】 本来の形状寸法を維持しつつ、できるだけ多数回、蒸着マスクの使用を可能にすることのできる蒸着マスクのクリーニング方法を実現する。
【解決手段】 堆積物が付着した蒸着マスク１に対し、蒸着マスク１における堆積物が付着した面の振動を誘起するレーザービーム１５を照射し、蒸着マスク１から堆積物を剥離する。 （もっと読む）

【課題】剥離がなく耐スパッタ性の高い保護膜を実現し高輝度で長寿命なＰＤＰを提供する。
【解決手段】前面ガラス基板１１上に表示電極１２と誘電体層１３と第一の保護膜１４と第二の保護膜１５とを備えた前面板１０と、背面ガラス基板２１上にアドレス電極２２と下地誘電体層２３と隔壁２４と蛍光体層２５とを備えた背面板２０とが、放電空間３０を介して対向配置され、第一の保護膜１４の膜密度と第二の保護膜１５の膜密度とを異ならせている。 （もっと読む）