【課題】 良好な強誘電体特性が得られる電極膜、圧電素子、強誘電体キャパシタ及び半導体装置を提供することにある。
【解決手段】 電極膜は、基体の上方に形成される白金族金属を含み、ＣｕＫ_α線を用いたθ−２θ法によるＸ線回折において求められるピークに対応する回折角２θが、電極膜の熱処理後のピークに対応する回折角以上の大きさである。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、金属粒子表面に貴金属粒子を添着させてなる金属複合粉末の製造方法を提供するものである。
【解決手段】 かゝる本発明は、例えば平均粒径が約５０ｎｍ以上である球状の金属粒子２０をスパッタ装置１０内でローリングさせつつ、スパッタ法により貴金属粒子を添着させる金属複合粉末の製造方法にあり、これにより、平均粒子径が約５〜１０ｎｍである貴金属粒子が添着される金属複合粉末が得られ、優れた触媒作用や抗菌作用などを期待することできる。 （もっと読む）

【課題】 蒸着時の再現性の低下や有機材料に発生する問題を解決する。
【解決手段】 有機発光素子用の被処理基板上に有機層を蒸着させるための蒸着用ルツボ１２であって、蒸着処理の際に有機材料が配される底部１１と、蒸着処理の際に気化した有機材料が排出される開口部１３と、該開口部から該底部が見えなくなるように、該底部と該開口部との間に設けられた少なくとも１つの屈曲部１４とを備えてなるルツボ、ならびに蒸着装置および蒸着方法が提供される。 （もっと読む）

【課題】堆積膜の形成面の全域に亘って高品質な堆積膜を得ることができる反応性スパッタリング方法及び反応性スパッタリング装置を提供すること。
【解決手段】処理容器内にターゲットと基体を配置し、スパッタリング粒子と、処理容器内に供給した反応ガスとの反応物を基体上に堆積させる反応性スパッタリング方法として、前記ターゲットから前記基体上に前記スパッタリング粒子が飛来する空間に、前記基体の堆積膜の形成面に接触することなく、前記基体の堆積膜の形成面を実質的に複数の領域に区切るように仕切り板を配置し、前記仕切り板によって囲まれたそれぞれの空間内に前記仕切り板によって区切られた領域のそれぞれに向けて配置した反応ガス供給ノズルから、前記スパッタリング粒子の堆積速度に応じた流量の反応ガスを、前記仕切り板によって区切られた領域のそれぞれに設置した前記基体の堆積膜の形成面に供給する。 （もっと読む）

【課題】生産性が高く、かつ、高品質の光学膜を形成可能な成膜装置を提供する。
【解決手段】本発明の成膜装置１には、ＡｌとＣｒとを含有するフェロシリコン材料のターゲット（第一のターゲット）２１ａ、２１ｂが用いられており、従来の多結晶シリコンターゲットに比べて機械的強度が高いので、厚みの厚い第一のターゲット２１ａ、２１ｂに高密度電力を投入しても、割れやクラックが生じにくい。このように、第一のターゲット２１ａ、２１ｂの寿命は長いので、第一のターゲット２１ａ、２１ｂを煩雑に交換する必要はなく、また、ターゲットのクラックに起因するスプラッシュが起こり難く、透明膜にスプラッシュが混入することもないので、高品質の光学膜が得られる。 （もっと読む）

【課題】常温・常圧下に極微小空間に低エネルギーで安定発生させることができる低温マイクロプラズマ発生機構（トーチ）を備えたマイクロプラズマ反応装置を提供する。
【解決手段】試料ガス導入管が接続されたプラズマトーチ外管の内部にプラズマガス導入管が接続されたプラズマトーチ内管を設けてなる筒状のプラズマトーチ、前記プラズマトーチ内管の出口部近傍の外周に設けられたプラズマガス励起用高周波コイル、および原料モノマーガス供給手段を備えたマイクロプラズマ反応装置。 （もっと読む）

【課題】光記録ディスク（ＣＤ−ＲＷ，ＤＶＤ−ＲＡＭ）などの光記録媒体のＡｇ合金反射膜および半透明反射膜並びにそれら反射膜を形成するための銀合金スパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】Ｃａ：０．００５〜０．１質量％、Ｇａ：０．１〜０．６質量％を含有し、さらにＰｒ、Ｃｅ、Ｇｄ、Ｔｂの内から選ばれる１種または２種以上を合計で０．０５〜０．２質量％を含有するか、またはＩｒ：０．００５〜０．２質量％かつＰｄ：０．０１〜０．５質量％、Ｒｅ：０．００５〜０．２質量％かつＰｄ：０．０１〜０．５質量％もしくはＩｒおよびＲｅの合計：０．００５〜０．２質量％かつＰｄ：０．０１〜０．５質量％を含有し、残部がＡｇおよび不可避不純物からなり、前記Ａｇは９９質量％以上含有している成分組成からなる。 （もっと読む）

【課題】
運用の初期から安定した状態で薄膜が形成される成膜装置を提供する。
【解決手段】成膜室７１にて薄膜被形成物の表面に電子ビームを用いて薄膜が蒸着されて形成され、このとき、成膜室７１内に水蒸気が導入され、同成膜室７１内の水分が同電子ビームによって酸素と水素とに解離され、同成膜室７１内の水素分圧が所定の制限範囲に保たれるように水蒸気の流量が制御される。このため、水素分圧に所定の制限範囲が設定される成膜が、成膜装置の稼動初期から終了まで安定して行われる。また、水蒸気発生装置７２や質量分析器７６など、成膜室７１に容易に後付けできる部品を用いて水素発生量を制御するようにしたので、真空室などを設けることなく、成膜装置が容易に改造される。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、高分子樹脂からなるフレキシブル基材上に酸化ケイ素膜や窒化ケイ素膜などの無機化合物層を設け、その無機化合物層の表面に密着力の優れた活性エネルギー線又はプラズマ照射により硬化する有機化合物からなる有機保護膜を真空中で形成する積層体の製造方法を提供するものである。
【解決手段】基材上に、無機化合物層、有機化合物層を設けてなる積層体の製造方法であって、前記有機化合物層が２種以上の（メタ）アクリル化合物を真空中で逐次凝集させた後、活性エネルギー線又はプラズマを照射し、硬化させることにより設けることを特徴とする積層体の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】蛍光体層を真空蒸着で形成し、かつ、蒸着レートおよび膜厚を正確に制御できる放射線像変換パネルの製造方法を提供する。
【解決手段】成膜中にレーザ変位計２０ａ〜２０ｆ等を用いて蛍光体層の膜厚を測定し、その測定結果に応じて、加熱制御手段２４によりルツボ５０ａ〜５０ｆの発熱を調整して、ルツボ毎の蒸着レートを制御する。 （もっと読む）

本発明は、成膜室に接続された減圧手段により減圧して、成膜室で蒸発源から有機化合物材料を蒸発させて成膜する際、有機化合物材料の粒子よりも小さい粒子、即ち原子半径の小さい材料からなるガス（シラン系ガス等）を微量に流し、有機化合物膜中に原子半径の小さい材料を含ませる新規な成膜方法を提供する。
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【課題】真空紫外領域での光吸収を低減させ、赤外領域から真空紫外領域までの広い光波長範囲にわたって良好な光学特性を発揮する薄膜の成膜方法を提供すること。
【解決手段】この成膜方法は、ラドンガス、キセノンガス、クリプトンガス、又はアルゴンガスのうち少なくともいずれか１以上のガスを選択する第１のガス選択ステップと、ネオンガス又はヘリウムガスのいずれか１以上のガスを選択する第２のガス選択ステップと、第１ガス選択ステップにより選択されたガスと第２ガス選択ステップにより選択されたガスとをその混合比を調整して混合する混合ステップと、その混合ガスをスパッタリングガスとして用いて基材表面にスパッタリングにより薄膜を成膜する成膜ステップとを有している。 （もっと読む）

有機エレクトロルミネセンス（電子発光）表示装置の製造方法において、第１の方向においても第２の方向と同様に第１の導体を延在させる層配置が基板に適用される一方、電圧の影響下で発光する有機エレクトロルミネセンス接続が導体の交差部間に設けられ、基板はプラスチックから作られ、その基板には、少なくとも形成すべきいくつかの層のために境界を形成する表面構造が設けられる。本発明はまた、有機エレクトロルミネセンス表示装置を製造する本発明に係る方法における用途を意図する基板を提供するものであり、その基板は、プラスチックから作られ、その基板には、少なくとも形成すべきいくつかの層のために境界を形成する表面構造が設けられる。本発明はさらに、本発明に係る方法により得られる有機エレクトロルミネセンス表示装置を提供する。
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【課題】 画像品質を劣化させ表示欠陥となるディフェクト（異物）の発生の少ない良好な品質の反射防止膜を形成できる液晶表示素子の製造方法を提供する
【解決手段】 アクティブマトリクス基板上に絶縁層と、絶縁層上に複数の画素電極をマトリクス状に形成し、一方、ガラス基板２１上にＩＴＯ膜２２、少なくともＳｉＯ₂膜からなる反射防止膜２３を順次形成し、複数の画素電極と反射防止膜２３を所定の間隔を有して対向配置させ、この間隔に液晶２４を封入した液晶表示素子の製造方法において、ＳｉＯ₂膜は、真空チャンバー内にカソード３と、カソード３を取り囲むアノード２と、基板ホルダ９とを有するスパッタリング装置１５を用いて、カソード３上に外周部が面取りされたＳｉからなるターゲット１を載置し、ターゲット１に対向する側の基板ホルダ９に保持されたガラス基板２１上に、酸素雰囲気中でターゲット１をスパッタリングすることにより形成する。 （もっと読む）

【課題】輝尽性蛍光体層の輝度分布が均一な放射線画像変換パネルを提供する。
【解決手段】真空容器２内で、シート状の支持体１１を保持し、回転させながら輝尽性蛍光体を蒸着させて、輝尽性蛍光体層を成膜する放射線画像変換パネルの製造方法において、蒸着工程における支持体１１の任意の二箇所の温度を支持体温度Ｔ₁及びＴ₂とすると、支持体温度Ｔ₁及びＴ₂が、｜Ｔ₁−Ｔ₂｜≦１０℃を満たすように支持体１１を加熱する。 （もっと読む）

【課題】輝尽性蛍光体の結晶性を均一とし、鮮鋭性の高い放射線画像が得られる放射線画像変換パネルの製造装置及び放射線画像変換パネルの製造方法を提供する。
【解決手段】放射線画像変換パネルの製造装置１において、真空容器２と、真空容器２の内部に設ける支持体ホルダ５と、支持体ホルダ５に保持される支持体４とを設け、輝尽性蛍光体を蒸発させて支持体４に輝尽性蛍光体を蒸着させる蒸発源８ａ，８ｂを、支持体４に垂直な中心線を中心とした円の円周上に配置する。 （もっと読む）

【課題】基板に形成される蛍光体層を構成する成分組成の均一化を図り、この蛍光体層からなる放射線画像変換パネルの輝度の均一化を図ることができる蒸着装置及び放射線画像変換パネルを提供すること。
【解決手段】内部に基板７を備えた真空チャンバ２と、内部に原料を備えるとともに開口部８が形成され、開口部８が基板７に対向するように配置されたボート３と、ボートを加熱する加熱装置とを備えた蒸着装置１において、ボート３の開口部８の最小寸法に対する最大寸法の比率が１≦最大寸法／最小寸法≦３となるように形成し、この蒸着装置１を用いて放射線画像変換パネル１３を形成する。 （もっと読む）

【課題】マスク部材単体にしわ・たるみ等が発生し易い場合であっても、製造過程でそのしわ・たるみ等を除去することができ、これにより微細蒸着パターンへの対応を可能にしつつ形成パターンのパターン位置精度を高く保てるようにする。
【解決手段】薄膜金属からなるマスク部材４と、紗状のスクリーンメッシュ部材３と、方形状の枠部材２とを備え、前記スクリーンメッシュ部材３を介して前記マスク部材４が前記枠部材２内に張設されるコンビネーションマスクについて、前記スクリーンメッシュ部材３と前記マスク部材４とを仮固定する仮固定工程と、前記マスク部材４が仮固定された後の前記スクリーンメッシュ部材３に張力を与える張設工程と、前記スクリーンメッシュ部材３に張力を与えた後、仮固定されている前記マスク部材４を前記スクリーンメッシュ部材３に本固定する本固定工程と、を経て製造する。 （もっと読む）

【課題】支持体に形成される輝尽性蛍光体層の面内発光強度分布に優れた放射線画像変換パネルの製造方法を提供すること。
【解決手段】気相堆積法により回転させながら支持体上に輝尽性蛍光体層を形成させる放射線画像変換パネルの製造方法であって、前記支持体の周縁部における周速Ｓ（ｍ／ｍｉｎ）が、０＜Ｓ≦１５．０を満たすようにする。 （もっと読む）

【課題】輝尽性蛍光体層の膜厚と鮮鋭性の分布が均一な放射線画像変換パネルを提供する。
【解決手段】シート状の支持体１１に輝尽性蛍光体層を成膜する、放射線画像変換パネルの製造方法において、真空容器２内で、支持体１１を保持し、毎分１〜１００回転で支持体１１を回転させながら輝尽性蛍光体層を成膜することにより放射線画像変換パネルを製造する。 （もっと読む）