【課題】輝尽性蛍光体層の膜厚と鮮鋭性の分布が均一な放射線画像変換パネルを提供する。
【解決手段】シート状の支持体１１に輝尽性蛍光体層を成膜する、放射線画像変換パネルの製造方法において、真空容器２内で、支持体１１を保持し、毎分１〜１００回転で支持体１１を回転させながら輝尽性蛍光体層を成膜することにより放射線画像変換パネルを製造する。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、円板型の対向ターゲットを使用することにより、薄膜形成時に発生する高いエネルギーを有する粒子の基板衝突による膜の損傷を防止し、前記円板型の対向ターゲットの周りに複数の基板を回転させて薄膜を形成することにより、大量生産に適合したスパッタリング装置及びこれを用いた有機電界発光表示装置の製造方法を提供するためのものである。
【解決手段】 本発明は、胴体をなすチャンバーと、前記チャンバーの内壁に沿って複数の基板を装着できる基板装着部と、を備えるチャンバー部と、所定の距離を置いて対向配置されて拘束空間を形成する一対の対向スパッタリングターゲットと、前記一対のターゲットの各々の背面に設けられて前記拘束空間に磁界を発生させる磁界発生手段と、を備えてなされる。 （もっと読む）

【課題】 優れた反射特性・電気特性をもつ酸化亜鉛層を安価に形成することができ、これを光起電力素子に組み入れることにより、効率の高い素子を安価に供給する。
【解決手段】 基体上に少なくとも酸化亜鉛層と半導体層を積層させて形成した光起電力素子であって、該酸化亜鉛層は、１．０×１０¹⁸ｃｍ^-3以上５．０×１０¹⁹ｃｍ^-3以下の塩素原子を含有している。 （もっと読む）

【課題】マスクを用いた気相堆積法による成膜時の基板温度をより正確に管理し、これにより、これら薄膜の位置精度を向上させること。
【解決手段】本発明の方法は、絶縁基板ＳＵＢとその上に形成され且つ表示素子ＯＬＥＤを含んだ構造体とを具備した表示装置を製造する方法であって、真空中で、マスクを用いた気相堆積法により、前記絶縁基板ＳＵＢ上に、前記構造体の一部として前記マスクのパターンに対応したパターンを有する薄膜を形成する工程を含み、前記薄膜を形成する前及び／又は前記薄膜を形成している間、金属基板とその一主面を被覆し且つ前記金属基板よりも赤外線吸収率がより高い赤外線吸収層とを備えた冷却板を、前記赤外線吸収層が前記絶縁基板ＳＵＢと向き合うように配置することにより、前記絶縁基板ＳＵＢを冷却することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 設計値に近い光学特性を有する多層光学薄膜の製造方法を提供する。
【解決手段】 電圧調節装置７を中心とするスパッタ電圧調節系は、真空容器全圧比較部２５を中心とする真空容器全圧調節系に対してカスケード制御を行っている。プレスパッタリングが開始されると、上述の制御系が一斉に作動を開始する。そして、真空容器全圧変動検出部３１で検出される真空容器１内の全圧の変動値が所定値以下となったとき、成膜のためのスパッタリングが開始される。又、最初から真空容器全圧変動検出部３１による圧力変動値の検出を行わず、プレスパッタリングが開始されてから所定時間は、無条件にプレスパッタリングを続行し、この所定時間経過後に、真空容器全圧変動検出部３１による圧力変動値の検出を行って、変動値が所定値以下となったとき、成膜のためのスパッタリングを開始するようにしてもよい。 （もっと読む）

【課題】 高いバリア性と透明性を有する水蒸気バリアフィルムを提供すること。
【解決手段】 基材フィルム上に少なくとも２層の無機ガスバリア層を有する水蒸気バリアフィルムにおいて、２層の無機ガスバリア層の間に少なくとも１層のアルカリ土類金属一酸化物からなる吸湿性層を設ける。 （もっと読む）

【課題】磁気抵抗変化率（ＭＲ比）等の磁気特性に優れたＧＭＲ及びＴＭＲ膜を高い歩留まりで製造可能な磁気抵抗膜の製造方法及び製造装置を提供する。
【解決手段】 磁化固定層、非磁性中間層、及び磁化自由層を含む磁気抵抗膜のうち、非磁性中間層及び磁化自由層を構成する少なくとも１つの薄膜を、スパッタ装置を用い基板近傍の圧力を８．０×１０^−３Ｐａ以下として形成する。スパッタ装置は、カソードと基板ホルダとが配置された真空容器と、真空容器の排気口に連結された第１の排気装置と、ターゲットの表面近傍へのガス導入機構と、を備え、ターゲット表面近傍とその外側の中間空間との間で圧力差をつける第１の圧力調整手段と、中間空間と基板の表面近傍との間で圧力差をつける第２の圧力調整手段と、中間空間を排気する第２の排気装置とを設けたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 耐衝撃性が向上した反射防止膜を有する光学物品及び光学物品の製造方法を提供する。
【解決手段】 蒸着装置内に配置したプラスチック製の光学基板の表面に、水素またはフッ素を含有するガスを分解するための高周波電力値を所定値に設定して、ＳｉＯ₂の金属酸化物からなる薄膜、あるいはＴｉＯ₂の金属酸化物からなる薄膜を、少なくとも１層以上形成した反射防止膜が、３０原子％〜５０原子％の少なくとも水素または／及びフッ素を含有することにより、反射防止膜を有する光学物品の耐衝撃性の向上を図る。 （もっと読む）

【課題】 寸法安定性に優れた基材フィルムを使用し、高いガスバリア性を安定して維持し、かつ、良好な透明性、および、防湿性、耐衝撃性、耐熱水性、密接着性等を備えたバリア性フィルムおよびそれを使用した積層材を提供することを目的とするものである。
【解決手段】 基材フィルムの一方の面に、無機酸化物からなる蒸着層とガスバリア性複合ポリマ−層とからなる複合ガスバリア層を積層したバリア性フィルムにおいて、上記の基材フィルムとして、該基材フィルムに荷重０．０５〜０．１５Ｎ／ｍｍを負荷し、かつ、昇温速度５℃／ｍｉｎで２５〜２００℃まで昇温すときに、縦方向および横方向の寸法変化率が、それぞれ−５．０〜−２．０％、−１．０〜＋１．０％の範囲内にある二軸延伸ポリエステル系樹脂フィルムを使用することを特徴とするバリア性フィルムおよびそれを使用した積層材に関するものである。 （もっと読む）

【課題】 耐酸化性、耐久性、耐摩耗性、潤滑性に優れ、しかも低コストで製造可能な積層体、特にガラスレンズ用金型など、高温環境においても不活性な表面状態が維持されることが要求される分野に適した積層体を提供する。
【解決手段】 基材１上にＢ及びＮを含有する硬質皮膜２が形成された積層体であって，該硬質皮膜中のＢとＮの組成比が原子比で０．８≦Ｂ／Ｎ≦２の範囲にあり、さらに同硬質皮膜中にその原子濃度が１〜２５at％のＣを含有することを特徴とする潤滑性、耐摩耗性に優れた積層体。 （もっと読む）

【課題】 用いるマスクが大型の場合にも精度良く目的の膜パターンを得ることができるマスクを提供する。
【解決手段】 本発明のマスクは、開口部７を有するベース部材２と、該ベース部材２上であって前記開口部７を覆う位置に配設され且つ所定パターンのマスク開口部４を備えるマスク部材３とを有し、前記マスク開口部４は、形成したい膜の面積よりも小さい開口面積を有してなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 優れた耐焼付き性、耐亀裂性、耐溶損性を有した、高寿命の鋳造用部材を提供する。
【解決手段】 熱間ダイス鋼もしくは高速度鋼を母材とする、少なくとも作業面に被覆層を有した鋳造用部材であって、該被覆層の母材直上層には、Ｃｒを主体とする窒化物、酸窒化物、炭窒化物の１種以上からなるａ層が存在し、該ａ層の上にはＶが主体の窒化物、酸窒化物、炭窒化物の１種以上からなるｂ層があり、ｂ層直上にはＣｒおよびＴｉのいずれか１種以上を主体とする金属層であるｃ層が存在し、更に該被覆層の最表層には、Ｏが原子％で２５％以下である硫化物のｅ層があり、かつｃ層とｅ層との間には、ＣｒおよびＴｉのいずれか１種以上を原子％の総量で１０％以上含有する硫化物のｄ層が存在し、かつｄ層においては、Ｃｒおよび／またはＴｉの総量がｃ層側からｅ層側に向かい連続あるいは段階的に減少している鋳造用部材である。 （もっと読む）

【課題】
６％を越える高透過率（９〜１５％）をもち、且つハーフトーン膜部のサイドエッチングを抑制できしかも石英面を平滑な水平面にすることができるハーフトーン型位相シフトマスク及びその製造法を提供する。
【解決手段】
本発明によるハーフトーン型位相シフトマスクは、石英ガラス基板上に、位相差が１３５°以下となるような膜厚をもつＭｏＳｉ系のハーフトーン位相シフト膜を設け、磁気中性線放電プラズマによるドライエッチングで石英ガラス基板を垂直性よく且つ面内均一性よく掘り込んで構成される。また、本発明によるハーフトーン型位相シフトマスクの製造法は、石英ガラス基板上に、反応性スパッタリング法によりＭｏＳｉ系のハーフトーン位相シフト膜を位相差が１３５°以下となるような膜厚に成膜し、続いてクロム膜をマスクとして、磁気中性線放電プラズマによるドライエッチングによりプロセスガスに側壁保護効果をもつガスを添加して、石英ガラス基板をエッチング処理することから成る。 （もっと読む）

【課題】 電子ビーム蒸着法をはじめとする真空蒸着法を使用して基板上にＭｇＯ膜を成膜するためにターゲット材として使用する単結晶ＭｇＯ焼結体であって、得られたＭｇＯ膜の密度及び耐スパッタ性を低下させることなく、優れた膜特性、例えば、ＰＤＰ用保護膜として使用した場合の放電特性などを向上させること。また、その単結晶ＭｇＯ焼結体をターゲット材として得られたＰＤＰ用保護膜を提供することである。
【解決手段】 粒径２００μm以上の粒子を含有するとともに、Ｘ線回折法により測定した（２００）面のＸ線強度及び（１１１）面のＸ線強度を、それぞれａカウント毎秒及びｂカウント毎秒としたとき、２０＜ａ／ｂ＜３００であることを特徴とする単結晶ＭｇＯ焼結体、及び、この単結晶ＭｇＯ焼結体をターゲット材として使用し、電子ビーム蒸着法、イオン照射蒸着法、又はスパッタリング法により製造したＰＤＰ用保護膜である。 （もっと読む）

【課題】 圧電素板に励振電極を形成する際に用いる圧電素板の電極形成用の蒸着枠で、蒸着作業の効率改善と蒸着ズレを改善することを目的とする。
【解決手段】 目的を実現するために本発明は、圧電素板を複数個収納し保持するスペーサ板と、該スペーサ板に収納した該圧電素板単位に形成すべき電極形状に対応するマスク孔を配置した第１と第２のマスク板とで構成され、少なくとも前記第１と第２のマスク板の前記スペーサに接する面に樹脂材料膜を形成したことにより課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】 先鋭化ファイバーのような線的な構造あるいは立体的な微細加工に対して無電解により再現性よく金属コーティングを行うことができるようにする。
【解決手段】 触媒金属としてパラジウムを酸素含有アルゴン環境下でスパッタにより被めっき物の表面に付与する。 （もっと読む）

【課題】レンズに複数種の薄膜を形成する加工装置のサイクルタイムを短縮して、生産性を向上させる。
【解決手段】レンズの加工条件を設定する処理６３１３と、複数の蒸着原料のうちから加工条件に応じた蒸着原料を選択する処理６３１４と、レンズに形成される薄膜を測定する光学式膜厚計を加工条件に応じて設定する処理６３１５、６３１６と、蒸着原料を加熱する加熱源の制御条件を設定する処理６３１８と、設定された制御条件で加熱源を起動する処理６３２５と、加熱源により前記蒸着原料を気化させて前記レンズに薄膜を形成する処理と、を含み、薄膜を形成する処理の開始以前に、蒸着原料を選択する処理６３１４と、光学式膜厚計を設定する処理６３１５、６３１６とを並列的に行う。 （もっと読む）

本発明は、基板上で金属M1の炭化物からナノロッドを合成する方法に関する。該発明の方法は、(a)基板上での、金属M1の酸化物のナノ結晶および金属M1とは異なる少なくとも1種の金属M2の酸化物のナノ結晶の層(M1金属酸化物ナノ結晶は、この層に分散している)を蒸着させるステップ、(b)金属M1およびM2の酸化物ナノ結晶を対応する金属に還元するステップ、および(c)金属M1のナノ結晶を選択的に成長させるステップよりなる。本発明は、また、基板上で前記材料のナノ結晶から金属M1の炭化物のナノロッドを成長させる方法、かくして得られた基板、およびそれらの用途、例えば化学的または生物学的機能性を含むミクロシステム、特にバイオセンサー、例えばフラットテレビまたはコンピュータスクリーンなどのための電子放射源の製造における用途にも関する。 （もっと読む）

【課題】 感度（輝度）、鮮鋭性共に良好な放射線画像変換パネル及びその製造方法。
【解決手段】 ＣＦＲＰ板又はＣＦＲＰコンポジット上の金属板（基板）上に少なくとも気相堆積法により形成された輝尽性蛍光体層を有する放射線画像変換パネルにおいて、蒸発ルツボ内液温度を制御して輝尽性蛍光体層の表面の突起数を０〜３００個とする。 （もっと読む）

【課題】蒸着材料の溶融時におけるスプラッシュの発生を防止し、歩留りを向上させるようにした蒸着用るつぼを提供する。
【解決手段】上方および下方に開放し、蒸着材料からなる焼結体ペレット２を収容する空洞部６を有する蒸着用るつぼ１０の外周面に、るつぼの上面１０ａと下面１０ｂを接続するガス抜き用切欠部１１を形成する。るつぼ１０をハース３のるつぼ用凹部４に装着すると、ガス抜き用切欠部１１は、るつぼ用凹部４の内壁面と接触せず、るつぼ用凹部４を開放空間とする。 （もっと読む）