【課題】 誘電体保護膜としての特性を維持しながら、酸化物薄膜中の遊離酸素を無くし、誘電体保護膜中に存在する水や酸素の拡散を抑制する。
【解決手段】 光ディスクなどの誘電体保護膜を形成する誘電体材料として、酸化ニオブと、酸化ケイ素又は酸化チタンとの混合酸化物薄膜を使用する。好適な例では、スパッタリングによる酸化物薄膜の形成において、酸化ニオブを主成分として酸化ケイ素を１〜３０重量％添加されてなるターゲットを使用する。また、上記の酸化物薄膜は好ましくは窒素雰囲気中で成膜される。酸素を欠損させたターゲットを使用し、微量に窒素を添加してスパッタリングを行うことにより窒素含有酸化物薄膜を作製する。これにより、完全な酸化物と同等の特性を持ちながら、還元作用が少なくバリヤ性の高い薄膜を作製することができる。 （もっと読む）

【課題】ナーリンク処理と同等な効果を低価格で極めて安価な基材に対しても適用できる方法および基材を提供するばかりではなく、通常のオフライン成膜においても最適化されたインライン成膜と同等な効果をもたらことが可能な基材を提供することを目的とする。
【解決手段】高分子樹脂基材の両端部に真空中で（メタ）アクリル化合物を凝集させた後、電子線あるいはプラズマを照射し、上記アクリル化合物を硬化させ活性エネルギー線硬化樹脂層を形成した保護フィルムの形成方法などを提供する。 （もっと読む）

【課題】 水素含有炭素膜が形成されている基板からの剥離を有効に防止できるなどの新たな特性を有する水素含有炭素膜を提供する。
【解決手段】 炭素と水素とを含む水素含有炭素膜であって、水素含有炭素膜中における水素の含有量が５０原子％よりも多く６５原子％よりも少なく、水素含有炭素膜の密度が１．３ｇ／ｃｍ³よりも大きく１．５ｇ／ｃｍ³よりも小さい水素含有炭素膜である。また、水素含有炭素膜中における水素の含有量が０原子％よりも多く５０原子％よりも少なく、水素含有炭素膜の密度が１．４ｇ／ｃｍ³よりも大きく１．９ｇ／ｃｍ³よりも小さい水素含有炭素膜である。 （もっと読む）

【課題】 耐固体粒子エロージョン性を大幅に向上させることができ、回転部材に対しても疲労強度を低下させることなく耐酸化性を備える耐固体粒子エロージョン性表面処理皮膜とそれを適用した蒸気タービン、または軸流圧縮機などの回転機械を提供する。
【解決手段】 耐固体粒子エロージョン性表面処理皮膜を、基材表面に形成した窒化硬質層と、同窒化硬化層の上に物理蒸着法により形成した１層以上の物理蒸着硬質層とを有し、前記窒化硬質層の厚さが３０μｍ以上、且つ前記物理蒸着硬質膜の厚さが総厚として１０μｍ以上であるように構成して、固体粒子衝突時の基材の変形と、基材上層の窒化硬質層と物理蒸着硬質層を含む皮膜の割れを防止し、耐固体粒子エロージョン性を確保し、耐固体粒子エロージョン性表面処理皮膜の寿命を増大可能とし、且つ耐酸化性と疲労強度を向上させた。 （もっと読む）

【課題】 膜厚傾斜量や基板形状が異なる複数種類の膜厚傾斜膜を効率的に製造するための製造方法および成膜装置を提供する。
【解決手段】 基板ホルダと蒸発源の中間位置に、独立して作用する二種類以上の膜厚調整機構を有し、少なくても一種類が基板ホルダ内の膜厚分布を均一化する機能を、更に他の膜厚補正機構が各被成膜基板に所定の膜厚傾斜を与える機能を有する構造にするとともに、各被成膜基板に所定の膜厚傾斜量を与える機能を有する膜厚補正機構が、基板ホルダと同一形状を有する傾斜量調整マスクホルダと、それにセットして使用される傾斜量調整マスク板により構成される事を特徴とする成膜装置を使用して膜厚傾斜膜を製造する。 （もっと読む）

【課題】高感度で均一かつ耐久性に優れた放射線画像変換パネルを得ることのできる放射線画像変換パネルの製造装置及び放射線画像変換パネルの製造方法を提供する。
【解決手段】放射線画像変換パネルの製造装置１は、真空容器２と、真空容器２の内部に設けられ支持体５に輝尽性蛍光体を蒸着させる蒸発源４と、蒸発源４に対向し所定の曲率半径を有する曲面を備えた支持体ホルダ６と、蒸発源４に対して支持体ホルダ６を回転させることによって蒸発源４から輝尽性蛍光体を支持体５に蒸着させる支持体回転機構１０と、支持体ホルダ６の曲面に当接された支持体５の両端部を挟持し、支持体５に張力が発生するように支持体ホルダ６に固定される固定部材７ａ，７ｂとを備える。固定部材７ａ，７ｂのうち支持体５の少なくとも一端を挟持するものは、スプリング８を介して支持体ホルダ６に固定する。 （もっと読む）

【課題】耐久性、光物性に優れ、信頼性の高い生産工程により、清浄性／保守特性の優れたガラスコーティングおよびその方法を提供する。
【解決手段】 前記コーティングは、２つのフィルム：シリカ（例えば、二酸化ケイ素）を含む第１のフィルムおよびチタニア（例えば、二酸化チタン）を含む第２のフィルムを含む。好ましくは、両フィルムは、特定の厚み範囲内で提供される。また、そのようなコーティングの堆積方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】バリア性の高いバリア膜の形成方法を提供する。
【解決手段】
本発明に用いるターゲット４５ａ、４５ｂは、ＣｒとＡｌとを含有するフェロシリコンを主成分としており、そのようなターゲット４５ａ、４５ｂは耐久性が高いので、ターゲット４５ａ、４５ｂ割れに起因するピンホール等の欠陥が成膜される薄膜に発生し難い。また、耐久性が高いので、樹脂フィルム１１の長い成膜領域に成膜を行う場合であっても、ターゲット４５ａ、４５ｂを交換する必要がない。 （もっと読む）

【課題】大型の基板上に高精度のパターンを形成可能なメタルマスクの製造方法およびメタルマスクを提供する。
【解決手段】単位マスク本体１２に所定の張力をかけて仮張り用枠体１１の開口部１１’を覆う状態で張設し、仮張り用枠体１１の開口部１１’の周縁に、単位マスク本体１２を固着する工程と、単位マスク本体１２側を支持枠体１３に向けた状態で、単位マスク本体１２が支持枠体１３の一開口部１３’を覆うように、仮張り用枠体１１を支持枠体１３上に配置する第２工程と、単位マスク本体１２にかかる張力を維持したまま、支持枠体１３の一開口部１３’を覆う状態で、一開口部１３’の周縁に単位マスク本体１２を固着する第３工程と、支持枠体１３の一開口部１３’の周縁に固着された単位マスク本体１２から、仮張り用枠体１１を離す第４工程とを有することを特徴とするメタルマスクの製造方法およびメタルマスクである。 （もっと読む）

【課題】 多数のスリットを有する開口部を複数個配置した金属薄板１１を、ゆがみやたるみの無い状態で枠に固定する技術を提供する。
【解決手段】 金属薄板１１の各辺を複数のクランプ２７で把持し、そのクランプ２７で金属薄板１１を引っ張ると共に各クランプによる引張力を調整することで金属薄板１１をゆがみやたるみのない平坦な状態に保持し、同時に枠１３を金属薄板１１に加える引張力とは反対方向に同じ大きさの力で押圧して弾性変形させておき、この状態で金属薄板１１を枠１３にスポット溶接機４０で溶接、固定し、金属薄板１１及び枠を開放した際に、金属薄板１１に残っている引張力を枠１３の復元力で相殺させ、枠１３が金属薄板１１に引っ張られて変形することを防止し、枠１３で金属薄板１１をゆがみやたるみのない状態に保持可能とする。 （もっと読む）

【課題】 全長が２０００ｍｍ以上の等方的組織である焼結Ｍｏ系ターゲット材を安定的に製造する方法を提供する。
【解決手段】 全長が２０００ｍｍ以上の焼結ターゲット材の製造方法であって、Ｍｏ原料粉末を圧縮成形した圧密体を還元雰囲気中で焼結した相対密度７５〜９０％の一次焼結体を作製し、次いで全長が２２００ｍｍ以上になるように複数の該一次焼結体を加圧容器に積層装入して脱気封止した後に熱間静水圧プレスにより加圧焼結することで相対密度９８％以上の焼結体ターゲット材を得る焼結Ｍｏ系ターゲット材の製造方法である。 （もっと読む）

セレン化銀のスパッタ堆積方法、及びスパッタ堆積されたセレン化銀膜の化学量論、ノジュール型欠陥の生成及び結晶構造の制御方法。該方法は、約0.3mTorr〜約10mTorrの圧力でのスパッタ堆積プロセスを用いて、セレン化銀を堆積させることを含む。本発明の一視点によれば、ＲＦスパッタ堆積プロセスを、好ましくは、約2mTorr〜約3mTorrの圧力で用いることができる。本発明のもう一つの視点によれば、パルスＤＣスパッタ堆積プロセスを、好ましくは、約4mTorr〜約5mTorrの圧力で用いることができる。本発明のもう一つの視点によれば、アルファセレン化銀とベータセレン化銀の両方を含むセレン化銀膜を、約10mTorrの圧力及び約250W未満のスパッタ電力の下でスパッタ堆積させることができる。
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【課題】排気ガスの浄化に有効に働かない触媒金属量を少なくして、触媒活性を向上しながら、コスト低減を図る。
【解決手段】ハニカム状触媒担体２のセル壁４に無機酸化物粒子を含有するコート層を形成し、触媒活性金属の蒸気を不活性ガス中で凝縮させ、この触媒活性金属のクラスター微粒子を不活性ガス流によって上記触媒担体に衝突させることによって、触媒活性金属をクラスター微粒子として上記コート層に表層部に付着させ、触媒層５を形成する。 （もっと読む）

【課題】 触媒を構成する金属粒子の粒径が小さくなり過ぎることによって、反応系や反応物に対して粒径を最適化できないなどの不都合を回避する。
【解決手段】 導電性粉体２の表面に、触媒活性を有する金属粒子４と、この金属粒子の触媒活性を向上させる添加物粒子３とを物理蒸着例えばスパッタリングによって析出担持させ、更に析出担持と同時に或いは前後して加熱すなわちアニール処理を施す。 （もっと読む）

【課題】 成膜速度に優れ、且つ、良好な光学特性を実現できる酸化Ｎｂ薄膜の製造方法を提供する。
【解決手段】 ニオブメタルをターゲットとして、スパッタリング法により基材表面に酸化ニオブ薄膜を成膜する際に、プラズマエミッションモニタリング（ＰＥＭ）法により反応性ガスの導入量を調整し、前記ニオブメタルから発生するプラズマの強度を制御する。具体的には、反応性ガス導入後、反応性ガスの導入量によってプラズマ発光強度をスパッタリング開始時のプラズマ強度に対して５〜１５％の範囲に制御することが好ましい。 （もっと読む）

【課題】 赤、緑、青の発光色を用いるフルカラーのフラットパネルディスプレイを作製する場合において、ＥＬ材料の利用効率を高めることによって製造コストを削減し、且つ、ＥＬ層成膜の均一性やスループットの優れた製造装置の一つである蒸着装置を備えた製造装置を提供する。
【解決手段】本発明は、所望の蒸着領域に対して小さい開口を有するマスクを用い、該マスクを精密に移動させることによって、所望の蒸着領域全体に蒸着を行うことを特徴の一つとしている。また、マスクを移動させることに限定されず、マスクと基板とが相対的に移動すればよく、例えば、マスクを固定して基板をμｍレベルで移動させてもよい。 （もっと読む）

黒鉛中に１以上の加熱区画を生み出すための電気加熱回路を形成するように加工されると共に、Ｂ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｇａ、高融点硬質金属、遷移金属及び希土類金属からなる群から選択される元素の窒化物、炭化物、炭窒化物又はオキシ窒化物或いはこれらの複合体及び／又は組合せの１種以上からなる連続したオーバーコート層で封入された黒鉛物体を含んでなる黒鉛ヒーターであって、電気加熱回路を形成するための加工に先立ち、Ｂ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｇａ、高融点硬質金属、遷移金属及び希土類金属からなる群から選択される元素の窒化物、炭化物、炭窒化物又はオキシ窒化物或いはこれらの複合体及び／又は組合せの１種以上からなる層で黒鉛物体が被覆される黒鉛ヒーター、並びにかかる黒鉛ヒーターの形成方法。
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【課題】 明るさおよび色調を調整する必要がある新しい意匠のニーズにも対応でき、優れた耐食性および耐薬品性を有する塗膜を得ることができる耐食光輝性顔料を、提供する。
【解決手段】 Ｃｒ合金、Ｔｉ合金、Ｎｉ合金およびＡｌ合金から選ばれた少なくとも１種類であり金属外観を有する金属外観膜と、Ｂｅ、Ｍｇ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｗ、Ｍｎ、Ｙ、Ｌａ、ＣｅおよびＵから選ばれた少なくとも１種類の金属の窒化膜またたは炭化膜であり有色である有色金属化合物膜とが積層される。あるいは、Ｃｒ合金、Ｔｉ合金、Ｎｉ合金およびＡｌ合金から選ばれた少なくとも１種類であり金属外観を有する金属外観膜と、Ｂｅ、Ｍｇ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｗ、Ｍｎ、Ｃｕ、Ａｕ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｙ、Ｌａ、ＣｅおよびＵから選ばれた少なくとも１種類の金属であり有色である有色金属膜とが積層されたフレーク状金属片を含有される。 （もっと読む）

【課題】マスキングパターン部の大型化による蒸着パターンの歪曲を減らし，蒸着パターン間のトータルピッチの調整が容易な有機電界発光表示装置の薄膜蒸着用のマスクフレーム組立体を提供する。
【解決手段】開口部を有するフレームにその長手方向の両端部が固定された少なくとも二つの単位マスクを備える有機電界発光表示装置の薄膜蒸着用のマスクフレーム組立体において，各単位マスクは，複数個の蒸着用開口部を備え，各単位マスク間には，蒸着用開口部と同一な幅の第１ギャップが備えられたことを特徴とする薄膜蒸着用のマスクフレーム組立体である。 （もっと読む）

【課題】 画質の良好な放射線画像を与える放射線像変換パネルの製造方法を提供する。
【解決手段】 蒸着装置内にて、蛍光体材料を含む蒸発源を加熱することによって発生する蛍光体成分を基板上に蒸着堆積させることにより蛍光体層を形成する工程を含む放射線像変換パネルの製造方法において、基板上の任意の箇所における蛍光体成分の堆積速度の時間変化率が０．０３乃至２μｍ／秒²の範囲にあることを特徴とする。


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