【課題】 本発明は、基板をほぼ垂直に起立した状態で有機物を蒸着して有機薄膜を形成して大型基板に適用可能で、かつ、均一な厚さの有機薄膜を形成することができる有機物蒸着装置を提供するためのものである。
【解決手段】 本発明の有機物蒸着装置は胴体を成し、基板を地面に対し、７０゜ないし１１０゜の角度を維持するようにするチャンバと、前記基板上に蒸着する有機物を受け入れる少なくとも一つの有機物格納所からなる有機物格納部と、前記基板上に蒸着する有機物を噴射する有機物噴射ノズル部と、前記有機物噴射ノズル部と有機物格納部とを連結させる連結ラインと、前記有機物格納部、有機物噴射ノズル部及び連結ライン中の少なくとも前記有機物噴射ノズルを垂直方向に移動させることができる移送装置を備えてなる。 （もっと読む）

【課題】コストを低減すると共に、歩留まりを向上させる。
【解決手段】非滑面領域１８ｂ近傍で電離したアルゴンイオンは、ターゲット９表面の非滑面領域１８ｂに衝突し、ターゲット９からスパッタ粒子を放出させて非滑面領域１８ｂを削る。非滑面領域１８ｂから放出され、ガラス基板１３に向かずに中央部の滑面領域１８ａに向かい、滑面領域１８ａに衝突したスパッタ粒子は、滑面領域１８ａが、その表面粗さが、少なくともアンカー効果が無視できる所定値以下の値とされているために、滑面領域１８ａに再付着せずに、このまま落下する。したがって、滑面領域１８ａに堆積して突起部を形成して、ある程度の大きさに成長した後に落下したり、異常放電の原因となることもない。 （もっと読む）

組織の結合または貫通する厚さの勾配を有しないかまたは最小であることにより特徴付けられるモリブデンスパッタリングターゲットおよび焼結体。微細な、均一な粒度および均一な組織を有するモリブデンスパッタリングターゲットは高い純度であり、性能を改良するためにミクロ合金化できる。スパッタリングターゲットは丸い円板、正方形、長方形、または管状であってもよく、基板に薄膜を形成するために、スパッタすることができる。セグメント形成法を使用することにより、スパッタリングターゲットの大きさは６ｍ×５.５ｍｍまでであってもよい。薄膜を電子部品、例えば薄膜トランジスター、液晶ディスプレー、プラズマディスプレーパネル、有機発光ダイオード、無機発光ダイオードディスプレー、電界発光ディスプレー、太陽電池、センサー、半導体装置および調節可能な仕事関数を有するＣＭＯＳ（相補的金属酸化物半導体）のゲート装置に使用される。
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【課題】 膜が非常に薄いときに発生する膜界面での電子散乱などによる高抵抗化効果を抑制することで、低い抵抗値の紫外線から可視光の範囲で透明なことを特徴とする薄い電極膜の作製を可能とする。
【解決手段】 ３０ｎｍ以下の層状構造をもつ金属層とその金属のバルク値の平均自由行程に近い厚みの層状構造の導電性透明酸化物半導体を積層する構造によって、電導電子の散乱と連続的な層状部分の厚みの減少による膜の抵抗値の上昇効果を抑制することで低抵抗化を図るとともに、金属膜の光の反射を抑え紫外線から可視光の範囲で高い透明度の電極膜を提供する。 （もっと読む）

【課題】細い管状体の管内壁面に適確容易かつ安価にて均等な膜厚にアルミニウムを真空蒸着させること。
【解決手段】管状体１の内壁面にアルミニウムを真空蒸着するアルミニウム真空蒸着方法において、前記管状体１の内部にアルミニウム蒸着源５を線状に配置する一方、前記管状体１の外周囲に巻回配置した誘導加熱コイル６に通電してアルミニウム蒸着源を加熱蒸発させて前記管状体の内壁面にアルミニウムを蒸着させる。 （もっと読む）

【課題】薄膜原材料の利用効率を高めることで、高品質の薄膜を高い生産性で成膜する真空成膜装置を実現することを目的とする。
【解決手段】真空成膜チャンバ内に配置したリング状のハース３に収容した薄膜原材料４にエネルギービームを照射し、薄膜原材料４を加熱蒸発させることで基板上に薄膜を成膜する真空成膜装置において、前記ハース３における薄膜原材料４の形状として、エネルギービームが照射される箇所８を通り前記ハース３と同心の円上において薄膜原材料４の量が最大となる形状としたことを特徴とするものである。 （もっと読む）

【課題】誘電体保護膜の製造方法の工夫により、ＰＤＰとしての寿命、閾値電圧、書き込み速度等を良好に維持しながら、ＰＤＰの生産性の向上を実現する。
【解決手段】ガラス基板上に電極と誘電体層とが形成された基板１０１を搬送しながら基板１０１の誘電体層上に誘電体保護膜を形成する方法において、誘電体保護膜製造装置２００を構成する成膜室２０２内に基板１０１の搬送方向に沿って誘電体保護膜を成膜するための上流側蒸着ハース２０５、下流側蒸着ハース２０６を配置し、上流側蒸着ハース２０５、下流側蒸着ハース２０６の蒸発レートを基板１０１の搬送方向の入り口側から出口側にかけて段階的に変化させて誘電体保護膜を成膜する方法からなる。 （もっと読む）

【課題】 成膜材料の混合を行うに際して成分割合の調整を容易に行うことができ、成膜領域のずれを防ぐ。
【解決手段】 真空成膜装置の成膜源１０が、複数の成膜材料をそれぞれ収容する複数の材料収容部１１Ａ，１１Ｂと、各材料収容部１１Ａ，１１Ｂ内の成膜材料を加熱する加熱手段１２Ａ，１２Ｂと、成膜材料の原子流又は分子流を成膜材料毎に放出する放出口１３Ａ，１３Ｂと、材料収容部１１Ａ，１１Ｂと放出口１３Ａ，１３Ｂとを気密に連通する放出流路１４_１Ａ，１４_２Ａ，１４_３Ａ，１４_１Ｂ，１４_２Ｂ，１４_３Ｂとを備え、同一成膜材料を放出する単数又は複数の放出口１３Ａ，１３Ｂを一方向に延設し、該一方向に延設された放出口１３Ａ，１３Ｂの外縁を直線で結んで形成される帯状の放出領域Ｓ_１Ａ，Ｓ_１Ｂが平面的に少なくとも一部で互いに重なり合うように、放出口１３Ａ，１３Ｂを配置している。 （もっと読む）

【課題】 良質の膜を形成可能な蒸着装置及び蒸着方法を提供する。
【解決手段】 有機ＥＬ薄膜の材料である有機材料１が装入されたルツボ容器１０内には、有機材料１の気化面に接するように発熱体１２が配置されている。発熱体１２は、電磁誘導により発熱する磁性体材料からなる材料を含んで形成されており、加熱制御装置３０がコイル２０に所定の電流を供給することにより誘導加熱される。これにより、有機材料１の気化面が発熱体１２により直接加熱され、有機材料１は安定して気化し、これにより良質の膜が形成される。 （もっと読む）

【課題】ロングスロースパッタやリフロースパッタ等の新スパッタ方式でスパッタリングした際に発生する新たな不良モード（巨大ダストや大きな凹部）の発生を抑制することを可能にしたスパッタリングターゲット用インゴットの製造方法を提供する。
【解決手段】Ｙ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｎｄ、Ｓｍ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｅｒ、Ｓｃ、Ｃｕ、Ｓｉ、Ｐｔ、Ｉｒ、Ｒｕ、Ｐｄ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｔｃ、ＲｅおよびＢからなる群から選ばれる少なくとも1種の元素を0.01〜20質量％の範囲で含み、残部が実質的にＡｌからなるインゴットを、大気溶解法、真空溶解法、急冷凝固法で作製するにあたって、ＡｒおよびＫｒから選ばれる少なくとも1種の元素を含むガスを使用して、スパッタリングターゲット用インゴットを作製する。 （もっと読む）

本発明は、面平行な小板を製造する方法に関し、方法は、ａ）キャリヤーに分離剤を蒸着させて分離剤５層を生成する工程と、ｂ）少なくとも１つの生成物層を分離剤層に蒸着させる工程と、ｃ）分離剤層を溶剤中に溶解させ、面平行な小板の形態で少なくとも１つの生成物層が存在する懸濁液を生成する工程を含み、分離剤が、アントラセン、アントラキノン、アセトアミドフェノール、アセチルサリチル酸、ショウノウ酸無水物、ベンズイミダゾール、ベンゼン−１，２，４−トリカルボン酸、ビフェニール−２，２−ジカルボン酸、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン、ジヒドロキシアントラキノン、ヒダントイン、３−ヒドロキシ安息香酸、８−ヒドロキシキノリン−５−スルホン酸一水和物、４−ヒドロキシクマリン、７−ヒドロキシクマリン、３−ヒドロキシナフタレン−２−カルボン酸、イソフタル酸、４，４−メチレン−ビス−３−ヒドロキシナフタレン−２−カルボン酸、ナフタレン−１，８−ジカルボン酸無水物、フタルイミドおよびそのカリウム塩、フェノールフタレイン、フェノチアジン、サッカリンおよびその塩、テトラフェニルメタン、トリフェニレン、トリフェニルメタノール、ならびにこれらの物質の少なくとも２種からなる混合物、特にペンタエリスリトール（Ｃ（ＣＨ_２ＯＨ）_４）、トリメシン酸（＝１，３，５ベンゼントリカルボン酸）、ＤＬ−アラニン、ＤＬ−バリン、２，６−２０ジアミノプリン、アスコルビン酸、１，３，５−ベンゼントリカルボン酸、ｏ−アセチルサリチル酸、ジフェン酸、テレフタル酸、ピロガロール、シアヌル酸、ヘキサメチルテトラミン（ウロトロピン）、フマル酸、および４−アセチル安息香酸、ならびにこれらの物質の少なくとも２種からなる混合物からなる群より選択される。 （もっと読む）

【課題】 擬似位相整合型波長変換素子を用いて基本波光を高調波光に変換する波長変換レーザ装置におけるレーザの生成効率を改善する。
【解決手段】 光共振器７内に配置する擬似位相整合型波長変換（ＱＰＭ）素子４の両端面４ａ、４ｂの反射率を下げるために、各端面４ａ、４ｂに酸化シリコンと窒化シリコンとの混合物を材料とする薄膜を形成する。その混合物の混合比率は、使用する波長におけるＱＰＭ素子の基体の屈折率と入射（又は出射）媒質である空気の屈折率とから求まる所定の屈折率になるように制御する。それによって、端面４ａ、４ｂでの反射率を従来よりも１桁以上改善した０．０１％以下にまで抑制することが可能である。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、少なくとも一つの一定の方向へ曲がる炭素ナノチューブのマトリックス構造及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明の炭素ナノチューブのマトリックス構造は基板、該基板の表面に形成された少なくとも一つの触媒塊、及び該触媒塊に成長された炭素ナノチューブのマトリックスを含み、該触媒塊の厚さは第一端部から第二端部へ漸進的に減らし、該第一端部から該第二端部への範囲中で、ある位置の厚さが好ましい厚さに寄って、該炭素ナノチューブのマトリックスは該好ましい厚さの位置から離れた方向へ曲がる。本発明は前記炭素ナノチューブのマトリックス構造の製造方法も提供する。 （もっと読む）

燃料電池用の高安定性で廉価なバイポーラ板が開示される。この高安定性バイポーラ板は、バイポーラ板基板およびバイポーラ板基板上に与えられる耐食性の被覆を含む。バイポーラ板の耐食性を向上させる方法も開示される。 （もっと読む）

【課題】 金属吸着法を用いて均一な単原子ステップを有する固体結晶表面を形成する方法を提供する。
【解決手段】 固体結晶の両端に直流電圧を印加して所定の温度に加熱する段階と、直流電圧印加を保持しつつ、所定の温度に加熱された固体結晶の表面に金属原子を所定の蒸着速度で蒸着することで、固体結晶の表面に当該固体結晶を構成する原子の単原子ステップを形成する段階と、を含む固体結晶表面の形態制御方法。 （もっと読む）

導電性スパッタリング材を用いて、スパッタリング法により、金属酸化物膜と酸化ケイ素膜との多層膜を基板の上に高速成膜して、膜の応力が緩和された多層膜付き基板とそのような低応力の多層膜付き基板を製造する方法の提供。基板上に、少なくとも金属酸化物膜と酸化ケイ素膜とを１回以上繰返し積層してなる多層膜付き基板であって、該金属酸化物膜の少なくとも１層が化学量論的組成より酸素が不足している金属酸化物ＭＯ_Ｘをターゲット材に用いてスパッタリングを行うことにより成膜されてなる酸素不足が解消された金属酸化物膜であり、かつ該多層膜の応力が−１００ＭＰａ〜＋１００ＭＰａであることを特徴とする多層膜付き基板。
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【課題】 長期に亘って成膜材料の補給を必要とせずに真空蒸着装置を連続運転することが可能であり、かつその間、成膜材料を常に一定の供給速度でリングハースへ安定して供給することができる成膜材料供給装置を提供すること。
【解決手段】 成膜材料供給室１０内において、例えば２週間程度は成膜材料の補給を必要としない量のＭｇＯペレットを収容し得る成膜材料ホッパー１１と、成膜材料ホッパー１１から排出されるＭｇＯペレットを計量して一定量のＭｇＯペレットを収容する計量ホッパー２１と、計量ホッパー２１から排出されるＭｇＯペレットを受けてそのまま成膜室２０内へ導く漏斗状ホッパー３１と、成膜室２０内において、漏斗状ホッパー３１からの受けるＭｇＯペレットをリングハース５０へ一定の速度で供給し、供給量が所定の値になると計量ホッパー２１から補給される回転円筒フィーダ４１とからなる成膜材料供給装置。 （もっと読む）

【課題】 製膜後の透明導電膜について、煩雑な工程を経ることなく、表面改質を行うことが可能であり、かつ、表面改質処理後の廃液を簡便な方法で処理し得る透明導電膜の製造方法を提供する。また、透明導電膜と異方導電性フィルム接着剤との間で、高い接着強度及び低い接触抵抗を長期間維持することが可能であり、かつ耐久性に優れた透明導電膜を製造する方法を提供する。
【解決手段】 透明基材上に設けられ、酸化亜鉛を含む透明導電膜について、酸性水溶液を用いて、その表層部を除去することを特徴とする透明導電膜の製造方法、及びその製造方法で製造された透明導電膜を含む透明導電基板である。酸性水溶液を用いて、透明導電膜の表面改質処理を行うことにより、全体として均一な化学組成を有し、かつ、その表面が粗面化された透明導電膜を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】 簡易な構成で、熱負荷によるガラス基板の割れなどを誘発することなく、１枚のガラス基板から複数枚のパネルを省エネルギーのもとに調製することを可能にする、基板への蒸着被膜の形成方法および当該方法を実施するための搬送トレイを提供すること。
【解決手段】 搬送トレイを、四角形状の枠体と、枠体の対向する枠辺と枠辺の間に、その両端を枠体の各枠辺と弾性部材を介して連結することでテンションを付加して架設した薄体状部材とから構成し、複数本の薄体状部材を、基板が搬送トレイに載置されている状態を形成するための保持部材として機能させるとともに、基板における２つ以上の蒸着被膜形成領域を画定するためのマスク部材として機能させる。 （もっと読む）

【課題】 製膜後の透明導電膜について、煩雑な工程を経ることなく、かつ、廃液処理の必要がない簡便な方法で、表面改質処理を行うことができる透明導電膜の製造方法を提供する。また、透明導電膜と異方導電性フィルム接着剤との間で、高い接着強度及び低い接触抵抗を長期間維持することが可能であり、かつ耐久性に優れた透明導電膜を製造する方法を提供する。
【解決手段】 透明基材上に、スパッタリング法により酸化亜鉛を含有する透明導電膜を製膜するステップと、前記透明導電膜の製膜後、反応性イオンエッチング法により前記透明導電膜の表層部を除去するステップと、を含む透明導電膜の製造方法、及びその製造方法により得られた透明導電膜を含む透明導電基板である。上記方法により、透明導電膜の表面改質処理を行うことで、全体として均一な化学組成を有し、かつ、その表面が粗面化された透明導電膜を得ることができる。 （もっと読む）