【課題】 成膜速度に優れ、且つ、良好な光学特性を実現できる酸化Ｎｂ薄膜の製造方法を提供する。
【解決手段】 ニオブメタルをターゲットとして、スパッタリング法により基材表面に酸化ニオブ薄膜を成膜する際に、プラズマエミッションモニタリング（ＰＥＭ）法により反応性ガスの導入量を調整し、前記ニオブメタルから発生するプラズマの強度を制御する。具体的には、反応性ガス導入後、反応性ガスの導入量によってプラズマ発光強度をスパッタリング開始時のプラズマ強度に対して５〜１５％の範囲に制御することが好ましい。 （もっと読む）

【課題】開口を封止して中空構造部分を形成する場合であっても、当該開口の確実な封止を可能とし、その中空構造部分による機能実現の確実化を図ることのできる機能素子を提供する。
【解決手段】開口４を封止することで形成される中空構造部分２を有した機能素子１において、前記開口４を物理蒸着によって成膜される封止膜６で封止する。そして、前記封止膜６は、前記物理蒸着の際の成膜温度または成膜後のアニール温度が、当該封止膜６の成膜材料のリフロー温度以上に昇温することにより形成する。これにより、前記封止膜６の成膜材料が溶融して表面張力による流動を起こすようにして、前記開口４内への封止膜６の成膜材料の充填を容易にする。 （もっと読む）

【課題】 ターゲット材料の多数のタイルを含むターゲットを提供する。
【解決手段】 特に、ターゲット材料を大きな長方形パネルにスパッタ堆積するためのスパッタリングターゲット(80)において、複数のターゲットタイル(32)が二次元の非長方形アレイにおいてバッキングプレート(34)に接合され、タイルは３つ以下のタイルの間隙(84)で合流し、従って、接合中及び繰り返しの熱サイクル中に過剰な不整列に対してタイルをロックする。長方形タイルは、食い違った行、或いはヘリングボーン又はジグザグパターンで配列されてもよい。六角形及び三角形タイルも、本発明の多数の効果を発揮する。扇形状のタイル(154)は、中心に食い違ったオフセット(156)をもつ円形ターゲット(150)において配列されてもよい。 （もっと読む）

【課題】 異常放電の少ない薄膜形成方法を提供する。
【解決手段】 真空槽１１に設けられた排気口１１ｄからの排気と、成膜プロセスゾーン２０への少なくとも反応性ガスを含むスパッタガスの導入とを行いながらターゲット２９ａ，２９ｂに対するスパッタによって薄膜を形成する薄膜形成方法である。成膜プロセスゾーン２０へのスパッタガスの導入は、排気口１１ｄから近い位置に設けられた第１のスパッタガス導入管２ａからのスパッタガスの導入と、排気口１１ｄから遠い位置に設けられた第２のスパッタガス導入管２ｂからのスパッタガスの導入とで行う。第１のスパッタガス導入管２ａから導入するスパッタガス全体に占める反応性ガスの流量の割合を、第２のスパッタガス導入管２ｂから導入するスパッタガス全体に占める反応性ガスの流量の割合よりも多くしてスパッタガスを導入する。 （もっと読む）

交流(ac)の厚膜誘電体エレクトロルミネセントディスプレイで使われるチオアルミネート(thioaluminate：チオアルミン酸)ベースの発光体の動作安定性を改善するための、新規なラミネートが提供される。新規な構造は、発光体薄膜層の底部に直接隣接および接触して提供された、希土類活性なアルカリ土類チオアルミネート発光体薄膜層と、酸化アルミニウムまたは酸窒化アルミニウム層とを有する。本発明は、特に、発光体膜を形成し活性化するために高い処理温度の影響を受けやすい厚い誘電体層を使用するエレクトロルミネセントディスプレイで使われる発光体に適用できる。 （もっと読む）

【課題】 光学薄膜の膜厚測定精度を向上させることができる成膜装置及び成膜方法を提供すること。
【解決手段】制御部８は、受光部２２Ｃから伝送された電圧データをデジタルデータに変換して出力するＡ／Ｄ変換回路（Ａ／Ｄ変換部）２３と、得られたデジタルデータを基板の回転周期に対応して平均化する平均化回路（演算部）２５と、予めシミュレーションで求められた成膜を停止する条件値として入力される条件設定値と平均化回路２５から出力されるデジタルデータとの比較を行い、予め設定した範囲で一致したときに一致信号を出力する比較演算器２６と、比較演算器２６から出力された一致信号によってシャッター１８ａ、１８ｂを動作させる成膜制御部２７とを備えている。 （もっと読む）

【課題】幅広い後加工条件で後加工でき、透明性に優れるために内容物の透視が可能で且つこれにより包装された内容物の検査に際して金属探知器が使用でき、さらに高い屈曲耐性と高温高湿下での高いガスバリア性を併せて持ち、そしてこれらの諸特性が後加工後も劣化することがない、高いガスバリア性を有する包装材料の提供を目的とする。
【解決手段】無機酸化物からなるガスバリア性蒸着薄膜層４と、モノマー、オリゴマーまたはそれらの混合物を真空蒸着し、硬化させてなるガスバリア性被膜層５と、無機酸化物からなるガスバリア性蒸着薄膜層６と、モノマー、オリゴマーまたはそれらの混合物を真空蒸着し、硬化させてなるガスバリア性被膜層７の４層を順次積層してなる多層部が、透明プラスチック材料からなる基材３の少なくとも片面に積層して設けられていることを特徴とする、高ガスバリア性を有する透明積層体１。 （もっと読む）

【課題】 合成樹脂成形物の表面に有機化合物が吸着されることを抑制する技術を開発すること。
【解決手段】 プラズマを用いた薄膜形成技術により、合成樹脂成形物の表面に金属、珪素またはそれらの酸化物の薄膜層を形成すれば、有機化合物の合成樹脂成形物への吸着を抑制することができる。 （もっと読む）

【課題】 電子ビーム法をはじめとする真空蒸着法を使用して基板上にＭｇＯ膜を成膜するためにターゲット材として使用する単結晶ＭｇＯ焼結体であって、得られたＭｇＯ膜の密度及び耐スパッタ性を低下させることなく、優れた膜特性例えばＰＤＰ用保護膜として使用した場合の放電特性などを向上させること。また、その単結晶ＭｇＯ焼結体の製造方法、ならびに、その単結晶ＭｇＯ焼結体をターゲット材として得られたＰＤＰ用保護膜を提供することである。
【解決手段】 ＭｇＯに対するＳｉ及びＣａの含有率が、ＳｉＯ_２及びＣａＯ換算でそれぞれ０．０１〜３．０質量％であり、かつ、Ｍｇ１００質量部に対する前記Ｓｉの含有量をｘ質量部、前記Ｃａの含有量をｙ質量部としたときに、０．０１≦ｙ／ｘ≦１．５であることを特徴とする単結晶酸化マグネシウム焼結体、及び、この単結晶酸化マグネシウム焼結体をターゲット材として使用し、電子ビーム蒸着法、イオン照射蒸着法、又はスパッタリング法により製造したプラズマディスプレイパネル用保護膜である。 （もっと読む）

【課題】 基板への膜の形成直後に即座に検査することにより、膜の不良を早期に検出できるとともに、長期間、安定して正確な検出精度を得ることが可能な真空処理装置を提供する。
【解決手段】 受渡ホルダ６０によって、基板２が成膜処理室側に受け渡され、スパッタリングによる成膜処理が施された後、再びロードロック室３０側に戻される。支持部材５１を上昇させることにより、受渡ホルダ６０上の基板２を、支持部材５１と搬送ホルダ４２との間に挟持し、機械的チャック４２ａによって基板２の中心孔を係止する。光学式透過率センサの発光部７１から出射したレーザ光を、窓部４２ｂ，５１ａ，１ｂを介して受光部７２が受光することによって、基板２上の膜の透過率が検出され、その結果に応じて、不良品として廃棄されるか、その後のディスク製造工程に進むかが判定される。 （もっと読む）

【課題】安価で加工が容易な材料を用いて作成された蒸着用容器を用いて、蒸着材料の蒸着を行っても詰まりを生じさせず、安定して蒸着を行うことが可能な蒸着用容器および蒸着装置を提供する。
【解決手段】蒸着用容器のフタの側面に蛇腹構造を設ける。または、蒸着用容器のフタを蒸着源の開口部分より大きくして、加熱部に直接接するようにする。このような構成によれば、フタの開口部付近が冷えにくい構造となり、容器の胴部とフタとで温度差が生じにくくなる。従って、開口部で蒸発した材料が詰まることがなく、長時間に渡って安定して蒸着を行うことが可能となり、蒸着レートの安定化、生産性の向上を実現することができる。 （もっと読む）

【課題】酸化数が精密に制御されたＣｕ_２Ｏ膜を高速にて成膜する方法及びこの成膜方法によって得られたＣｕ_２Ｏ膜を光吸収層として用いた太陽電池を提供する。
【解決手段】カバー２６内部に透明基板１を導入し、アルゴン中に酸素を含有させた混合ガスをカバー２６内に導入する。ターゲット電極２０Ａ，２０Ｂに一定の周期で交互にパルスパケット状の電圧を印加して、グロー放電を形成させる。これにより、ターゲット２１ａ，２１ｂから粒子がスパッタされ、基板１上にＣｕ_２Ｏ膜よりなるｐ層３が形成する。コリメータ３０ａ，３０ｂを介して得られたプラズマの発光スペクトルが電気信号となりＰＥＭ３１ａ，３１ｂに取り込まれる。このＰＥＭ３１ａ，３１ｂを用いてプラズマ中の銅の発光強度が常に一定になるように酸素ガスの導入流量を制御する。 （もっと読む）

【課題】 処理される流体に含まれる分子や粒子等が効率よく透過可能な無機多孔質膜を有する無機多孔質体、及びそのような多孔質体を製造する方法の提供。
【解決手段】 無機多孔質体は、多孔質基材表面に略膜厚方向に配向した複数の孔を有する無機多孔質膜を備える。その孔の平均孔径は好ましくは２〜２００ｎｍにある。この多孔質体を得る方法は、無機質材料を含むターゲット及び多孔質基材を用意する工程と、１〜２００Ｐａの雰囲気圧下にターゲット及び多孔質基材を配置し、周波数が５〜５００Ｈｚの範囲内にあるパルスレーザを該ターゲットに照射して該無機質材料の蒸気を発生させ、多孔質基材の表面上に該蒸気を堆積させて多孔質膜を形成する工程と、を含む。多孔質膜形成工程は、基材温度が１０００℃以下に設定された略一定の温度条件下において行うことが好ましい。パルスレーザの照射回数は２０００００回以下であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】ディスプレイ基板とマスクのアライメントプロセスを迅速/正確に行い、表示品位の高い大画面ディスプレイを提供する。
【解決手段】複数の画素パターンを有する基板１１０と、画素パターンに対応する穴部を有するマスク５０を準備する第１工程と、マスクと基板とを位置合わせし、両者を固定する前の状態における穴部と画素パターンとの位置関係を測定する第２工程と、マスクと基板との位置関係を固定し、この状態における穴部と画素パターンとの位置関係を測定し、この位置関係と第２工程において測定した位置関係との間の位置ずれ量を算出する第３工程と、同一のマスクを他の基板に対して位置合わせを行う際に、前記位置ずれ量をフィードバックし、マスクと該他の基板との位置関係を補正する第４工程と、蒸着源より蒸着物をマスクの穴部を介して画素パターン上に被着させることにより、画素パターン上に蒸着物層１１４を形成する第５の工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】 物理蒸着法によって触媒を製造する場合に、触媒の担体上に金属粒子を担持析出させた後、物理蒸着装置からの触媒の取り出し時に、触媒に対する酸素の吸着及び酸化を低減する。
【解決手段】 物理蒸着法によって導電性粉体よりなる担体例えばカーボン担体上に金属粒子を担持析出させた後、物理蒸着装置２内外の圧力差を解消するためのパージ処理を、二酸化炭素や水蒸気等の、担体による吸着力が高く、触媒に対して不活性な気相吸着媒体によって行う。 （もっと読む）

【課題】 輝尽性蛍光体層と支持体との剥離がなく、高輝度である放射線画像変換パネルの提供。
【解決手段】 支持体上に輝尽性蛍光体層を有する放射線画像変換パネルにおいて、少なくとも１層の輝尽性蛍光体層が気相法（気相堆積法ともいう）により形成され、該輝尽性蛍光体層と支持体との間にＳｉＯｘ（ｘ＝１．３〜１．７）を有する接着層を有することを特徴とする放射線画像変換パネル。 （もっと読む）

【課題】組成が精密に制御された複数の金属を含む酸化物よりなるｐ型透明酸化物膜を高速にて成膜する方法及びこの成膜方法によって得られたｐ型透明酸化物膜を光吸収層として用いた太陽電池を提供する。
【解決手段】カバー２６内部に透明基板１を導入し、アルゴン中に酸素を含有させた混合ガスをカバー２６内に導入する。ターゲット電極２０Ａ，２０Ｂに一定の周期で交互にパルスパケット状の電圧を印加して、グロー放電を形成させる。これにより、銅よりなるターゲット２１ａ及びアルミニウムよりなるターゲット２１ｂから粒子がスパッタされ、基板１上にＣｕＡｌＯ_２膜よりなるｐ層３が形成する。コリメータ３０ａ，３０ｂを介して得られたプラズマの発光スペクトルが電気信号となりＰＥＭ３１ａ，３１ｂに取り込まれる。このＰＥＭ３１ａ，３１ｂを用いてプラズマ中の銅及びアルミニウムの発光強度が常に一定になるように酸素ガスの導入流量を制御する。 （もっと読む）

【課題】配向性カーボンナノチューブ（CNT）のパターン化された柱形状集合体の製造法及びこれを用いた低電圧で均一な電子放出可能な電界放出型冷陰極の製造法を提供する。
【解決手段】基礎基板表面上に複数個の触媒担体被膜を任意の位置にパターン形成する工程、該触媒担体被膜を含む該基礎基板表面に触媒作用を持つ金属元素あるいは化合物を焼成担持する工程、該基礎基板表面上に炭素化合物を供給し熱分解する工程により、該触媒担体被膜上に配向性CNTが集合してなる柱形状の集合体を形成させることにより、配向性CNTのパターン化された柱形状集合体を製造する。また、前記柱形状集合体を作製する工程(1)、電極基板表面に導電性バインダー形成させる工程(2)、該柱形状集合体の先端と該導電性バインダーの表面とを接着後、該導電性バインダーと接着した柱形状集合体を残して、該基礎基板を剥離して柱形状集合体を電極基板に転写する工程(3)により電界放出型冷陰極を製造する （もっと読む）

【課題】高湿度環境下であっても抵抗値の経時的変化を十分に防止できる透明導電材料、透明導電ペースト、透明導電膜及び透明電極を提供する。
【解決手段】酸化インジウムを含有する透明導電材料であって、（１）この透明導電材料を１ｗｔ％含む混合液のｐＨを３以上、好ましくはｐＨを４〜９とするものであるか、（２）この透明導電材料を１ｗｔ％含む混合液のｐＨを３未満とするものであり且つハロゲン元素濃度が０．２質量％以下であるか、（３）この透明導電材料を１ｗｔ％含む混合液のｐＨを１以上とするものであり且つハロゲン元素濃度が１．５質量％以下である透明導電材料である。 （もっと読む）

【課題】 微粒子の表面に被覆した超微粒子又は薄膜からなるマイクロカプセル及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明に係るマイクロカプセルの製造方法は、重力方向に対して略平行な断面の内部形状が多角形である真空容器１内に微粒子を収容し、前記断面に対して略垂直方向を回転軸として前記真空容器１を回転させることにより該真空容器１内の微粒子３を攪拌あるいは回転させながらスパッタリングを行うことで、該微粒子３の表面に該微粒子より粒径の小さい超微粒子又は薄膜を被覆させ、前記被覆した超微粒子又は薄膜の母体となっている前記微粒子３を取り除くことを特徴とする。なお、微粒子３を取り除く際は、溶解、気化、抽出等の方法を利用することが好ましい。 （もっと読む）