【課題】蒸着方法及びそのための蒸着装置を提供する。
【解決手段】薄膜が蒸着される基板を準備するステップと、蒸着材料を加熱して基板に蒸着させる複数個の加熱容器が一列に備えられたラインソースを準備するステップと、ラインソースを回転させつつ、蒸着材料を基板に蒸着させるステップと、を備えることを特徴とする蒸着方法及びそのための蒸着装置である。 （もっと読む）

【課題】従来試みられることのなかった新規な方法で担体に触媒材料を担持してなる水素貯蔵及び発生用触媒構造体、並びに該触媒構造体を用いた水素の貯蔵及び発生方法を提供する。
【解決手段】担体表面にガスフロースパッタリング法により触媒材料をコーティングしてなる水素貯蔵及び発生用触媒構造体、並びに、該触媒構造体と、芳香族炭化水素とを用いることを特徴とする水素の貯蔵方法、及び上記触媒構造体と、芳香族炭化水素の水素化誘導体とを用いることを特徴とする水素の発生方法である。 （もっと読む）

気化した有機材料の基板表面への堆積を制御する方法は、加熱装置を用意して有機材料を気化させ；基板表面に堆積させるために気化した有機材料を通過させる少なくとも1つの開口部を有するマニホールドを用意し；加熱装置とは独立に作動し、第1の状態では、開口部を気化した有機材料が通過するのを制限するのに有効で、第2の状態では、開口部を気化した有機材料が通過するのを容易にするのに有効な制御装置を用意し；加熱装置と制御装置の一方または両方をマニホールドと連続した状態にする操作を含んでいる。
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【課題】有機ＬＥＤの製造において蒸着処理を精度よく行う。
【解決手段】蒸着のための貫通孔５４，６０，．．．を備えた蒸着マスク１０の上面には、嵌合部として台形上の凸部１５０，１５２が設けられている。また、基板１００の下面には、対応する凹部１６０，１６２が設けられている。蒸着は両者を嵌合した状態で行う。これにより、熱膨張にともなう位置ずれを防止することができる。嵌合部は、基板１０に製作されるパネルの周囲に設置してもよいし、複数の有機発光素子からなるピクセルの周囲に設置してもよい。 （もっと読む）

【課題】 成膜速度を向上させた対向ターゲット式スパッタ装置及び対向ターゲット式スパッタ方法を提供する。
【解決手段】 本発明に係る対向ターゲット式スパッタ方法は、対向する一対のターゲット１，２を真空容器６内に配置し、前記一対のターゲットに電力を印加して放電させ、前記ターゲットから発生する発光が所定の発光量になるように反応性ガスの流量を制御しながらスパッタリングにより反応性膜を成膜するものである。 （もっと読む）

【課題】酸化数が精密に制御されたＮドープＣｕ_２Ｏ膜を高速にて成膜する方法及びこの成膜方法によって得られたＣｕ_２Ｏ膜を光吸収層として用いた太陽電池を提供する。
【解決手段】カバー２６内部に透明基板１を導入し、アルゴン中に酸素及び窒素を含有させた混合ガスをカバー２６内に導入する。ターゲット電極２０Ａ，２０Ｂに一定の周期で交互にパルスパケット状の電圧を印加して、グロー放電を形成させる。これにより、ターゲット２１ａ，２１ｂから粒子がスパッタされ、基板１上にＣｕ_２Ｏ膜よりなるｐ層３が形成する。コリメータ３０ａ，３０ｂを介して得られたプラズマの発光スペクトルが電気信号となりＰＥＭ３１ａ，３１ｂに取り込まれる。このＰＥＭ３１ａ，３１ｂを用いてプラズマ中の銅の発光強度が常に一定になるように酸素ガスの導入流量を制御する。 （もっと読む）

【課題】蒸着層形成工程での巻き取りジワがなく、寸法安定性の良いポリエチレンテレフタレートフィルムを用いた透明蒸着フィルムを提供すること。
【解決手段】延伸された透明なプラスチックフィルム（１１）の上に無機化合物の蒸着薄膜（１２）が形成された透明蒸着フィルム（１０）において、プラスチックフィルム（１１）が、縦方向の２００°Ｃ×１０分加熱収縮率が＋１．５〜＋２．５％、横方向の２００°Ｃ×１０分加熱収縮率が−０．５〜＋０．５％の熱収縮特性を有するポリエチレンテレフタレートフィルムである。 （もっと読む）

【課題】
従来の反射体に比べて、製造時において従来であれば異物混入や貼り合わせにより発生していた損失を生じることのない、そして製造も容易な、全反射率や正反射率の高い反射体を提供する。
【解決手段】
表面を高平滑処理してなる基材フィルムの表面に、少なくとも、金属又は金属酸化物による金属蒸着層を積層してなる反射体であって、前記高平滑化処理をすることにより、前記基材フィルムの全反射率が８０％以上、かつ正反射率が８０％以上となること、を特徴とする構成を有した反射体とした。
なし （もっと読む）

【課題】酸化数が精密に制御された金属ドープＣｕ_２Ｏ膜を高速にて成膜する方法及びこの成膜方法によって得られたＣｕ_２Ｏ膜を光吸収層として用いた太陽電池を提供する。
【解決手段】カバー２６内部に透明基板１を導入し、アルゴン中に酸素を含有させた混合ガスをカバー２６内に導入する。ターゲット電極２０Ａ，２０Ｂに一定の周期で交互にパルスパケット状の電圧を印加して、グロー放電を形成させる。これにより、ターゲット２１ａ，２１ｂから粒子がスパッタされ、基板１上にＣｕ_２Ｏ膜よりなるｐ層３が形成する。コリメータ３０ａ，３０ｂを介して得られたプラズマの発光スペクトルが電気信号となりＰＥＭ３１ａ，３１ｂに取り込まれる。このＰＥＭ３１ａ，３１ｂを用いてプラズマ中の銅の発光強度が常に一定になるように酸素ガスの導入流量を制御する。ターゲット２１ａ，２１ｂの一方は銅であり、他方はドープ金属である。 （もっと読む）

【課題】
金属蒸着層に対してさらに光学的な効果を付与したり、金属蒸着層を酸化から守るための層をその表面にさらに設けた金属蒸着層を積層したフィルムの製造方法及び該方法による金属蒸着フィルムを提供する。
【解決手段】
高分子樹脂よりなる基材フィルムの表面に、水溶性塗料による水溶性塗料層を所望の箇所にのみ部分的に積層する、水溶性塗料層積層工程と、前記水溶性塗料層積層工程を終えた前記基材フィルムの前記水溶性塗料層を積層した部分及び積層していない部分の両方の表面に対して一律に、金属または金属酸化物による金属蒸着層を積層してなる金属蒸着層積層工程と、前記金属蒸着層積層工程を終えた前記金属蒸着層の表面に、透明無機蒸着層を積層してなる透明無機蒸着層積層工程と、前記透明無機蒸着層積層工程により得られた積層体を水洗してなる水洗工程と、前記水洗工程後これを乾燥してなる乾燥工程と、よりなる製造方法とした。
なし （もっと読む）

【課題】
低表面抵抗率と良好な反射特性を両立した透明導電性積層体を提供する。
【解決手段】
透明基板（Ａ）の一方の主面上に高屈折率透明薄膜層（Ｂ）と少なくとも銀を含む金属薄膜層（Ｃ）を（Ｂ）／（Ｃ）を繰り返し単位として４回から７回繰り返し積層し、さらにその上に高屈折率透明薄膜層（B）を積層した透明導電層を形成し、さらに該透明導電層上に透明材層を少なくとも一層形成した透明導電性積層体であって、標準光源Ｃを該透明材層側から入射角６０°で入射した場合、透明材層側から測定したＬ＊ａ＊ｂ＊表色系Ｃ＊値が２０以下である透明導電性積層体である。 （もっと読む）

【課題】 薄膜形成装置において、ターゲット材料の利用率向上、タクトタイムの向上、メンテナンス性の向上、および成膜精度の向上を図る。
【解決手段】 真空室、ターゲット材料を保持するスパッタカソード、スパッタされたターゲット材料を堆積する基板を搭載する搭載手段、および搭載手段の搬送機構を備えた薄膜形成装置において、搬送機構において基板がターゲット材料の前面を通過するよう搬送経路が設けられ、搭載手段が、複数の基板を連接させて保持できる基板トレーからなる構成とした。 （もっと読む）

【課題】清浄で、パーティクルの堆積状態及び基板の表面状態が制御された状況下においてカーボンナノチューブの成長を実行し、カーボンナノチューブの成長制御やその電気的応用を容易にする。
【解決手段】形成装置は、触媒となるパーティクルを生成する発生手段２１と、生成されたパーティクルを所望の粒径に分級する分級器２２と、パーティクルを基板２０上に堆積させるチャンバー２３と、堆積したパーティクルを触媒としてカーボンナノチューブを生成するチャンバー２４とを含み、パーティクルの生成からカーボンナノチューブの生成までの一連のプロセスを外気から遮断された所定雰囲気の環境内で連続して実行する。 （もっと読む）

【課題】 透明電極として優れた性質を有するＺｎＯ膜をイオンプレーティングで成膜する技術を提供する。
【解決手段】 イオンプレーティングのソース材料として用いるのに適したＺｎＯ焼結体は、平均酸化度の異なる第１のＺｎＯ領域と第２のＺｎＯ領域とを含み、前記第１のＺｎＯ領域と前記第２のＺｎＯ領域とは平均粒径が異なる。前記第１のＺｎＯ領域は前記第２のＺｎＯ領域より酸化度の高い領域であり、前記第２のＺｎＯ領域は前記第１のＺｎＯ領域と異なる色の、青みを帯びた領域であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】従来の真空蒸着法による薄膜形成では、蒸着材料の蒸発速度を膜厚モニターにより検出し、蒸着容器の加熱量を制御して蒸発速度を一定に保っていた。しかし、急激な蒸発速度の変化に対しては対応が困難であり、このときに形成された蒸着膜は膜質が異なったり共蒸着濃度が変化してしまったりしていた。
【解決手段】蒸発速度の急激な変化が検出されたら、基板側シャッターと蒸着容器側シャッターを遮蔽して基板への蒸着膜の形成を停止する。その後、蒸発速度が安定したら、シャッターを開放して基板への蒸着膜の形成を再開する。 （もっと読む）

【課題】ケーブル、帯、柱状材などの被処理材を長手方向に移動させながら、その表面に厚み２μｍ以上の厚い薄膜を作製することが可能な薄膜作製方法及び装置を提供すること。
【解決手段】直径よりも軸方向長さの方が２倍以上長い管状材１を一方の電極とし、もう片方の電極を管状材１中を通過するケーブル、帯、柱状材などの長尺の被処理材２そのものとする筒状スパッタ装置４を構成する。この筒状スパッタ装置又はこれと二極平板型のスパッタ装置を総計で２以上配置し、これら２以上のスパッタ装置のそれぞれの電極間にプラズマを発生させ、このプラズマ中に被処理材を長手方向に順次に通過させ、被処理材２の表面にスパッタによる金属、半導体、絶縁体などの各種薄膜を作製する。 （もっと読む）

【課題】 熱放射線を反射する層を厚くしないで、可視光線をよく透過する基板コーティングの断熱性を改善すること。
【解決手段】 本発明は、ガラス・コーティングおよびガラス・コーティングを形成するための方法に関する。ガラス・コーティングは、ＺｎＯの第１の層と、その上に堆積されたＡｇの第２の層からなる。ＺｎＯ層上にＡｇ層を塗布する前に、ＺｎＯがイオンにより照射される。 （もっと読む）

【課題】 蒸発材料の放出濃度が高い蒸発材料の放出口付近であっても蒸発材料の放出量を長期間測定することができる蒸着装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 蒸発材料取出用孔部４ｃ（５ｃ）の縁部に設けられた熱電対２１ａ（２１ｂ）と、放出用容器４（５）の加熱設定温度と熱電対２１ａ（２１ｂ）により検出された測定温度との温度偏差を算出する監視制御装置１１とを具備し、温度偏差に基づき、放出レートすなわち蒸発材料の放出量割合を求めるようにしたので、従来の水晶振動子式のように蒸発材料が堆積する膜厚計を蒸発材料の放出濃度が非常に高い場所に設置して放出量割合を検出する場合とは異なり、蒸発材料が堆積する問題がなく連続して長期間使用することができ、したがって蒸着装置の稼働率が低下することを防止することができる。 （もっと読む）

【課題】ヒロック、エッチング残渣、ＩＴＯ等との電気化学反応の発生を防止した低抵抗な配線膜を再現性よく成膜することができ、かつスパッタ時におけるダスト発生を抑制したスパッタターゲットの製造方法を提供する。
【解決手段】Ｙ、Ｓｃ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｎｄ、Ｓｍ、Ｇｄ、Ｔｂ、ＤｙおよびＥｒから選ばれる少なくとも1種の第１の元素を0.001〜30原子％の範囲で含み、残部が実質的にＡｌからなるスパッタターゲットを作製するにあたって、第１の元素を配合したＡｌを溶解した後、急冷凝固法により第１の元素とＡｌの金属間化合物が均一分散されたインゴットを作製する。このインゴットを加工してスパッタターゲットを作製する。 （もっと読む）

【課題】結晶性のよい圧電薄膜からＳＭＲ型の圧電薄膜振動子が構成できるようにする。
【解決手段】音響多層膜１１０の最上層の低音響インピーダンス層１０５の上に、例えば、シリコンからなる基板２０１が貼り付けられた状態とした後、剥離層１０２の部分より、絶縁性基板１０１を剥離し、基板２０１の上に、音響多層膜１１０，電極膜１０４，圧電薄膜１０３がこの順に積層され、圧電薄膜１０３の表面（電極膜１０４形成面と反対側）が露出した状態とする。金からなる剥離層１０２を、ヨウ素，ヨウ化アンモニウム，水，エタノールからなるエッチング液を用いて選択的に溶解することで、絶縁性基板１０１を剥離することが可能である。 （もっと読む）