本発明によれば、パルスｄｃ物理気相堆積プロセスによるＬｉＣｏＯ_２層の堆積が提供される。そのような堆積により、所望の＜１０１＞配向または＜００３＞配向を有するＬｉＣｏＯ_２の結晶性層の低温高堆積速度堆積を提供することが可能である。堆積のいくつかの実施形態は、固体再充電可能Ｌｉ電池のカソード層として利用しうるＬｉＣｏＯ_２膜の高速度堆積の必要性に対処するものである。本発明に係るプロセスの実施形態によれば、ＬｉＣｏＯ_２層を結晶化させるために慣例的に必要とされる高温（＞７００℃）アニール工程を省略することが可能である。本プロセスのいくつかの実施形態によれば、短時間のランプ速度の急速熱アニールプロセスを利用することにより、ＬｉＣｏＯ_２層を利用する電池を改良することが可能である。
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【課題】ドープ金属の含有量を容易に変更することができる、金属をドープしたＴｉＯ_２膜の成膜方法及び金属のドープ量が精密に制御された金属をドープしたＴｉＯ_２膜を提供する。
【解決手段】金属Ｔｉよりなる第１のターゲット２１ａと、ドープしたＴｉよりなる第２のターゲット２１ｂに、交互にパルスパケット状の電圧を印加する。ターゲット２１ａのスパッタ時におけるＴｉの放電の発光波長と発光強度が、ＰＥＭ３１ａによって検知される。また、ターゲット２１ｂのスパッタ時におけるＴｉ及びドープ金属の放電の発光波長と発光強度が、コリメータ３０ｂ、フィルタ及び光倍増幅管を介して電気信号となり、ＰＥＭ３１ｂによって検知される。各ターゲット２１ａ，２１ｂのスパッタ速度が算出され、この算出結果に基づき、各ターゲット２１ａ，２１ｂに付与されるパルス電力、パルス量及びパルス幅、カバー２６内に導入する酸素量、並びにカバー内の圧力が制御される。 （もっと読む）

【課題】 含フッ素合成樹脂を主成分とする表面上に金属酸化物膜を形成する際に、フッ素成分の金属酸化物膜中への拡散をより低く抑えることができる方法を提供する。
【解決手段】 含フッ素合成樹脂を主成分とする表面を有する基体の、前記表面に、プラズマを用いた乾式法により、１．０Ｗ／ｃｍ^２未満の電力密度で第１の金属酸化物膜を形成する第１の工程、および前記第１の金属酸化物膜上に、プラズマを用いた乾式法により、１．０Ｗ／ｃｍ^２以上の電力密度で第２の金属酸化物膜を形成する第２の工程を含むことを特徴とする合成樹脂成形物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】複数のロボット及び成膜室での位置決め機構が不要で安価であるとともに、位置決め時間を要さず、有機ＥＬ素子の生産性を向上させることができる有機ＥＬ素子の製造装置を提供すること。
【解決手段】成膜室内で被処理基板上に被蒸着物をパターニングさせて蒸着させるように、前記被処理基板に相対し且つ前記被蒸着物との間に配置されるマスクと前記マスクを保持するマスク保持部材を有する有機ＥＬ素子を製造する製造装置において、前記マスク保持部材の交換及び前記被処理基板の搬送を行うロボットが前記マスク保持部材と前記被処理基板の両方を掴持でき、且つ、掴持位置を決める。ここで、前記マスク保持部材は、前記被処理基板と同一な形状部位を持つ。 （もっと読む）

【課題】高速プレス成形において優れた耐摩耗性を発揮する表面被覆超硬合金製金属粉末プレス成形金型を提供する。
【解決手段】炭化タングステン基超硬合金または炭窒化チタン系サーメットからなる金型本体の少なくとも成形面に、マグネトロンスパッタリング装置にて、磁場中成膜された、窒化クロム層および炭窒化クロム層のいずれか、または両方の積層からなり、かつ０．１〜５μｍの平均層厚を有する密着接合層を介して、同様の方法で成膜された、Ｗ：５〜２０原子％、Ｃｒ：５〜２０原子％、窒素：０．５〜１８原子％、を含有し、残りが炭素と不可避不純物からなる組成を有すると共に、晶質体の素地に、結晶質炭窒化クロム系化合物の微粒が分散分布した組織を示し、かつ１〜１５μｍの平均層厚を有する潤滑性非晶質炭素系被膜を有する金型。 （もっと読む）

【課題】金属をドープしたＴｉＯ_２膜を高速にて成膜する方法を提供する。
【解決手段】ＴｉＯ_ｘ（但し、ｘは０．５以上１．９９以下）よりなる第１のターゲット２１ａと、金属をドープしたＴｉＯ_ｘ（但し、ｘは０．５以上１．９９以下）よりなる第２のターゲット２１ｂに、交互にパルスパケット状の電圧を印加する。ターゲット２１ａのスパッタ時におけるＴｉの放電の発光波長と発光強度が、ＰＥＭ３１ａによって検知される。また、ターゲット２１ｂのスパッタ時におけるＴｉ及びドープ金属の放電の発光波長と発光強度が、コリメータ３０ｂ、フィルタ及び光倍増幅管を介して電気信号となり、ＰＥＭ３１ｂによって検知される。各ターゲット２１ａ，２１ｂのスパッタ速度が算出され、この算出結果に基づき、各ターゲット２１ａ，２１ｂに付与されるパルス電力、パルス量及びパルス幅、カバー２６内に導入する酸素量、並びにカバー内の圧力が制御される。 （もっと読む）

【課題】所望するレベルの光触媒性能の発揮が的確に具現された部材を得る。
【解決手段】 部材の表面に、蒸着法によって、単に、光触媒膜、親水性膜をこの順で積層した構造の膜を形成しても、実質的に光触媒作用が発現されそれによる効果が発現されるとは言えない部材に関し、部材の表面粗さを各種材料に適した方法によって、また所望する光触媒性能やコスト増等を勘案して、部材の表面粗さを本願所定の範囲内（算術平均表面粗さＲａで０．７８μｍ以下）で微妙に調整することによって、所望するレベルの光触媒性能の発揮が的確に具現された部材を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】軽量、低コスト、大量生産適性等に優れた特性に加え、優れた防湿性能を有し、環境に存在する水分の影響を受けても屈折率等の光学性能の変化が極めて少ないプラスチック製光学部品、および該プラスチック製光学部品を用いた光学ユニット、ならびにこれらの製造方法の提供。
【解決手段】少なくとも外気接触面に防湿皮膜が形成されたプラスチック製光学部品であって、前記防湿皮膜は、平均粒径３ｎｍ〜２０ｎｍの無機化合物が平均粒界１ｎｍ〜２０ｎｍをなすように分布した無機化合物層であることを特徴とするプラスチック製光学部品。 （もっと読む）

【課題】ＮをドープしたＺｎＯ膜を高速かつ安定して成膜する方法を提供する。
【解決手段】カバー２６内部におけるターゲット２１ａ，２１ｂの上方に基板１を配置し、ポンプによってカバー２６内を真空にした後、アルゴン等の不活性ガス中に酸素及び窒素を含有させた混合ガスをカバー２６内に導入する。Ｚｎよりなる第１、第２のターゲット２１ａ，２１ｂに、交互にパルスパケット状の電圧を印加する。ターゲット２１ａ，２１ｂのスパッタ時におけるＺｎの放電の発光波長と発光強度が、ＰＥＭ３１ａ，３１ｂによって検知される。各ターゲット２１ａ，２１ｂのスパッタ速度が算出され、この算出結果に基づき、各ターゲット２１ａ，２１ｂに付与されるパルス電力、パルス量及びパルス幅、カバー２６内に供給する酸素量及び窒素量、並びにカバー内の圧力が制御される。 （もっと読む）

【課題】蒸着膜の密着を強化し、また蒸着膜へのレトルト・インパクトを緩和することで、レトルト処理などの殺菌処理時によっても性能が劣化しない透明ガスバリア積層体を提供することにある。
【解決手段】プラスチック基材上の、少なくとも一方の面に、ＲＩＥによる前処理面を設け、その上に厚さ５〜１００ｎｍの無機蒸着層を設け、その上に水溶性高分子化合物、金属アルコキシド及び／又はその加水分解物及び／又はその重合物の少なくとも１種類以上を成分に持つ複合皮膜を設け、その上に無機フィラーを５〜６０体積％含む溶液を樹脂コーティングの塗布することにより無機フィラー含有層を設けたレトルト用積層体であって、前記ＲＩＥによる前処理面と無機蒸着層が、同一製膜機（インライン製膜機）にて連続して処理され、該レトルト用積層体が、レトルト処理によっても、ガスバリア性を損ねることの無いレトルト用積層体。 （もっと読む）

【課題】 高品質で性能ばらつきの少ない有機電界発光素子の製造方法を提供する。
【解決手段】 一対の電極間に、少なくとも一層の有機層を有する有機電界発光素子の有機層の製造方法であって、３座以上の配位子を有する金属錯体を少なくとも一種含有する蒸着材料を脱ガス処理する工程と、該脱ガス処理後に該蒸着材料を加熱して蒸着する工程と、を有する有機電界発光素子の有機層の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 無機酸化物の斜方蒸着膜からなる垂直配向膜を備えた液晶表示素子に好適で、配向膜の表面処理により配向の経時安定性及び耐光性を向上させることが可能な表面処理剤及びその処理方法を提供する。
【解決手段】 無機酸化物の斜方蒸着膜からなる垂直配向膜を用いた液晶表示素子に適用され、前記斜方蒸着膜の表面水酸基が、液晶性化合物で化学反応処理されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】波長純度の高い紫外光を得ることのできるＥＬ素子及びレーザ発光素子を提供する。
【解決手段】ポリシラン又はオリゴシラン等、Ｓｉ，Ｇｅ，Ｓｎ，Ｐｂから選ばれた同種又は異種の元素が直接連結したポリマー又はオリゴマーからなる薄膜を発光層１３として透明電極１２と上部電極１４の間に配置してＥＬ素子１０を構成する。発光層としてポリ−ジ−ｎ−ヘキシルポリシリレン（ＰＤＨＳ）を用いた場合、両電極１２，１４間に直流電圧を印加することで約３７０ｎｍに鋭いピークを有するＥＬスペクトルが得られる。 （もっと読む）

【課題】 包装用積層フィルムにおいて、積層フィルムの層間から接着処理剤を取り除くことにより、積層工程数および使用条件数を低減して、積層フィルムコストの低廉化を図る。
【解決手段】 いずれか一方の表面に薄膜バリア層を形成した、一軸もしくは二軸延伸のベースフィルムに対し、薄膜バリア層側およびそれとは反対側のそれぞれの表面に、接着性のオレフィン樹脂よりなるそれぞれのシーラント層を、予めの接着処理なしに直接的に押出し積層する。 （もっと読む）

【課題】 光学基板上に直接、膜厚が変化する誘電体多層膜を積層させた光波長可変フィルターを製造する。
【解決手段】 光学基板１２を保持する基板ホルダー１１１と、基板ホルダー１１１の中心を軸として回転する自転機構１０８と、基板ホルダー１１１の直下にあり、基板ホルダー１１１の中心部が全開しており、その中心から外側に向かって開口角度が狭くなる開口部を有する遮蔽部材１１２とを設けている成膜製造装置を用いる。光学基板１２を基板ホルダー１１１で保持し、自転機構１０８によって回転させた状態で、蒸着源であるルツボ１０４ａ、１０４ｂから発散して光学基板１２に到達する蒸着物質の量を遮蔽部材１１２の開口部により制限する。 （もっと読む）

【要約書】
【課題】 ターゲットの材料である粉末の改善を図り、これによって形成したターゲットを用いてＤＣスパッタリングを可能とすることにより成膜の均一性を高め、生産効率を上げることができる光ディスク保護膜形成用スパッタリングターゲットを得ることを目的とする。
【解決手段】 酸化物、窒化物、炭化物、ほう化物、硫化物、けい化物から選択した少なくも１以上のセラミックス粉末に金属又は合金をコーティング又は混合した粉末を主成分とする焼結体からなることを特徴とする光ディスク保護膜形成用スパッタリングターゲット。 （もっと読む）

【課題】 容積の大きい真空チャンバを、陸路による搬送に便利であり、また、別個の補強手段を必要としない構成とする。
【解決手段】 本発明の真空チャンバ１は、内部に処理空間１１が形成された多面体のチャンバ本体１２を備え、そのチャンバ本体の少なくとも一面に処理空間に通じる開口を形成し、この開口を覆って処理空間の真空状態の保持を可能とする密閉手段１３ａ、１３ｂを装着して構成される。この場合、チャンバ本体は複数のチャンバ片１２ａ、１２ｂから構成され、各チャンバ片の接合面の少なくとも一側に、この接合面から延出させてフランジ部１５ａ、１５ｂをそれぞれ形成し、相互に向かい合う各フランジを接合して組付けられる。 （もっと読む）

【課題】蒸着方法及びそのための蒸着装置を提供する。
【解決手段】薄膜が蒸着される基板を準備するステップと、蒸着材料を加熱して基板に蒸着させる複数個の加熱容器が一列に備えられたラインソースを準備するステップと、ラインソースを回転させつつ、蒸着材料を基板に蒸着させるステップと、を備えることを特徴とする蒸着方法及びそのための蒸着装置である。 （もっと読む）

【課題】従来試みられることのなかった新規な方法で担体に触媒材料を担持してなる水素貯蔵及び発生用触媒構造体、並びに該触媒構造体を用いた水素の貯蔵及び発生方法を提供する。
【解決手段】担体表面にガスフロースパッタリング法により触媒材料をコーティングしてなる水素貯蔵及び発生用触媒構造体、並びに、該触媒構造体と、芳香族炭化水素とを用いることを特徴とする水素の貯蔵方法、及び上記触媒構造体と、芳香族炭化水素の水素化誘導体とを用いることを特徴とする水素の発生方法である。 （もっと読む）

磁性ガーネット単結晶膜を液相エピタキシャル成長させるための磁性ガーネット単結晶膜形成用基板２を製造するための方法である。まず、液相エピタキシャル成長させるために用いるフラックスに対して不安定なガーネット系単結晶から成るベース基板１０を形成する。次に、ベース基板１０の少なくとも結晶育成面に、フラックスに対して安定なガーネット系単結晶薄膜から成るバッファ層１１を形成する。このベース基板１０にバッファ層１１を形成する際に、基板１０を積極的に加熱せずに、スパッタリングなどの薄膜形成法によりベース基板１０にバッファ層１１を形成する。
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