本発明は、少なくとも１つのターゲットと、上記少なくとも１つのターゲットの向い側に配置された基板と、レーザビームを生成するレーザとを備え、レーザビームを上記ターゲット上に向けて照射して、ターゲット材料のプラズマプルームを生成し上記基板上に堆積するようにしたレーザ堆積装置であって、ベースフレームと、上記ベースフレーム内に配置され少なくとも２つのターゲットホルダーを有する回転可能なターゲットフレームと、上記ベースフレームに取り付けられた少なくとも１つの冷却装置とをさらに備え、上記冷却装置を、上記ターゲットフレームと熱交換接触をさせるように上記ターゲットフレームに対して移動可能としたことを特徴とするレーザ堆積装置に関する。
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【課題】高速かつ簡単で、精度の良いマスクの位置合わせが可能なマイクロコンポーネントの製造方法を提供する。
【解決手段】例えばマイクロバッテリであるマイクロコンポーネントは、基板上に少なくとも２つの重ねられた層を持つ積層体を有し、温度の影響下で拡張可能な単一のスチールマスク６を用いて形成される。マスク６は、少なくとも１つの中心から外れた開口７を有する。マスクが第１の温度（Ｔ１）の時、マスク６ａの開口７ａを介して第１の層が堆積される。マスクが、前記第１の温度（Ｔ１）より高い第２の温度（Ｔ２）の時、マスク６ｂの開口７ｂを介して第２の層が堆積される。最後に、マスクが前記第２の温度（Ｔ２）より高い第３の温度（Ｔ３）の時、マスク６ｃの開口７ｃを介して第３の層が堆積される。 （もっと読む）

【課題】基板が薄くても、成膜の内部応力に起因する反りの発生を簡易に防止することができる成膜方法の提供。
【解決手段】短冊状基板の両面のそれぞれ一部に接する一対の保持部２５，２８を有する成膜治具２を用いて大板１を成膜し、成膜後の大板１を複数の短冊状基板に切断分割し、保持部２５，２８が接した領域を含まない非保持領域から切断分割された短冊状基板のみを検査する。成膜の内部応力によって大板１が反ろうとしても、大板１の両面を一対の保持部２５，２８で保持しているから、保持部２５，２８と大板１との間の隙間がなくなって大板１の反りを効率的に防止できる。検査工程によって、保持部２５，２８で保持される領域の短冊状基板を製品に使用しないようにするので、製品として使用される短冊状基板が確実に成膜される。 （もっと読む）

【課題】大気圧プラズマ放電処理の際の、電極表面の誘電体層の劣化や不均一放電、及び回路全体のインピーダンスが高くなることを防ぐことのできる放電用電極を提供すること。
【解決手段】本発明の放電用電極は、対向する二つの電極を備え、これら電極には、対向側表面に誘電体層が形成され、前記各誘電体層の一方が体積抵抗率１０¹¹Ωｃｍ以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】面粗度の悪い基板や、金属箔、金属積層基板、並びに高融点の蒸着材料を用いる場合においても十分な冷却を可能とし、高密度な成膜を行うことを目的とする。
【解決手段】長尺状の基板６を、その蒸着面側が少なくとも蒸着源５に対向する領域において、蒸着源５に対して凹状となる走行経路Ｒ１〜Ｒ３に沿って走行させながら蒸着を行う。蒸着直後に複数の冷却ローラ７に基板６の両面が接触するように走行させて良好に冷却を行う。 （もっと読む）

【課題】複数の反応チャンバーを備えた蒸着装置及びその制御方法を提供する。
【解決手段】被蒸着体に第１蒸着物質を蒸着するように設定された第１チャンバーと、被蒸着体に第１蒸着物質と異なる第２蒸着物質を蒸着するように設定された第２チャンバーと、被蒸着体に第１蒸着物質を蒸着するように設定された第３チャンバーと、第１チャンバーから第３チャンバーと連結され、被蒸着体を第１チャンバーから第３チャンバーのうち少なくとも一つのチャンバーに供給するように備えられた搬送チャンバーと、被蒸着体を、搬送チャンバーから、第１チャンバーから第３チャンバーのうち一つのチャンバーへ移送させて蒸着させる制御部と、を備える蒸着装置。 （もっと読む）

本発明は、基材に高疎水性を付与するために基材の表面を処理する方法に関する。さらに詳細には、上記方法は、基板の処理中に、低い表面エネルギーを有するが異なる鎖長を有する２つの異なる種類の有機シラン分子の自発的に生じる相分離を利用する。これらのドメイン（domain）とマトリクス（matrix）構造の高さ差から生じ、相分離され低い表面エネルギーを有する長い有機シラン分子及び短い有機シラン分子により形成された表面粗度は、それぞれロータス効果（Lotus effect）の超疎水性を再現する。このように、上記方法は上記基板を高疎水性とすることができる。最後に、基板の表面を高疎水性にする、上記基板表面の処理方法は、高疎水性の表面が、ＣＦ_３基を官能基として有する有機シランと上記有機シランより炭素鎖長が短くＣＨ_３基を官能基として有する有機シランとを使用して、化学気相蒸着によって混合自己組織化単分子膜を形成することにより得られることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】強度に優れた成形体およびその製造方法を提供する。
【解決手段】繊維径１μｍ以下の互いに結合した複数の繊維状炭素と、Ｇａとを含む成形体に関する。 （もっと読む）

【課題】 ガスバリア性のみならず耐久性にも優れる、有機／無機酸化物のガスバリア積層体を提供する。
【解決手段】 有機化合物層と、その上の珪素原子含有化合物層と、その上の酸化物無機化合物層とを有することにより、前記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】本発明のシンチレータパネルを用いることにより、シンチレータパネルとセンサパネルを均一に密着させることが可能となり、画像ムラのない良好な画像を得ることができる。
【解決手段】一方の面に複数の光電変換素子が二次元状に配列されて形成された光電変換基板と、Ｘ線により可視領域で発光するシンチレータパネルの発光面を対向させた構成の放射線検出パネルに用いるシンチレータパネルであって、該シンチレータパネルにおける中央部膜厚が周辺部膜厚より厚い層であることを特徴とするシンチレータパネル。 （もっと読む）

【課題】低硬度の材料層に蒸着マスクを密着させると、硬度差により傷が発生し、完成後の有機ＥＬ装置の表示品質を低下させる。このような既形成層に与える損傷を低減する蒸着マスクを提供する。
【解決手段】被蒸着基板に対向する第１表面と蒸着源に対向する第２表面とを有し、被蒸着基板のパターン形成領域に対応する領域である第１の領域に形成された開口部２２と、開口部２２の周辺領域の第１表面側に形成されたスペーサー３５と、を有する蒸着マスクとする。 （もっと読む）

【課題】熱が伝わりにくい真空中においても、被処理体の冷却効率を向上させ、成膜速度を向上させた成膜方法を提供する。
【解決手段】本発明の成膜方法は、真空排気されたチャンバ内において、非処理体上に被膜を形成する成膜方法であって、被処理体を前記チャンバ内に搬入する工程Ａと、前記チャンバ内を真空排気する工程Ｂと、前記チャンバ内に不活性ガスを導入し、前記被処理体を冷却する工程Ｃと、前記チャンバ内から前記不活性ガスを排気するとともに、該チャンバ内に被膜形成用の原料ガスを導入し、前記被処理体上に被膜を形成する工程Ｄと、を少なくとも順に備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】単結晶半導体基板を分割して得られた成膜マスクであって、分割時に生じるバリ等で表面の平滑性が損われない成膜マスク。
【解決手段】支持基板３０と支持基板３０に取り付けられた複数のチップ２０とからなり、被成膜基板４２に対向する第１表面１１と膜材料源に対向する第２表面１２とを有する成膜マスク１０であって、チップ２０は、単結晶半導体基板７に枠状の溝１６を第１表面１１側から形成後、溝１６に外力を加えて破断分割して得られたチップ２０であり、チップ２０の側面部は溝１６の一部である平滑面１９と破断分割時に生じた破断面１８とを有しており、破断面１８は第１表面１１側には形成されていないことを特徴とする成膜マスク。 （もっと読む）

【課題】チャンバ内の真空状態を保ったまま連続的にワークの表裏に蒸着を施すことができる真空蒸着装置を提案するものである。
【解決手段】真空蒸着装置のチャンバ内に配置されたドームの傾斜面に形成された複数のワーク装着部１８にワーク装着ユニット２０が装着される。ワーク装着ユニット２０は、ガラス板２１が固定されたワークホルダ２２を一対の回転軸によって回転自在に支持したホルダ支持枠２５と、ホルダ支持枠２５の回転を係止する係止部材６０を備えたボールガイド枠５０とから構成される。ボールガイド枠５０には鋼球５８が載置され、リブ５６によって載置された位置に保持される。ドームの回転速度を速くすると、遠心力によって鋼球５８がリブ５６を乗り越え、係止部材６０のボール衝突部６２に衝突すると、係止爪６３がワークホルダ２２の係止位置から移動してワークホルダ２２が反転する。 （もっと読む）

【課題】多層膜の周方向の膜厚分布誤差を低減する。
【解決手段】成膜基板８を自転させながら、モリブデンとシリコンのターゲット５、７を交互に用いてスパッタ成膜を行い、多層膜の各層を成膜する。成膜中に成膜基板８の周方向に発生する各層の膜厚むらが互いに重なるのを防ぐため、成膜中の成膜基板８の自転速度を一層ごとに段階的に変化させる。複数層の膜厚分布を各層ごとに分散させることで、多層膜全体の周方向の膜厚分布誤差を低減する。 （もっと読む）

【課題】薄膜蒸着装置を提供する。
【解決手段】大型基板量産工程に容易に適用でき、製造収率が向上した薄膜蒸着装置に係り、これを具現するために、基板上に薄膜を形成するための薄膜蒸着装置において、蒸着源；蒸着源の一側に配され、第１方向に沿って複数個の第１スリットが形成される第１ノズル；蒸着源と対向するように配され、第１方向に沿って複数個の第２スリットが形成される第２ノズル；第１ノズルと第２ノズルとの間の空間を区画するように、第１方向に沿って配された複数個の遮断壁を具備する遮断壁アセンブリ；第２ノズルと基板との間隔を制御する間隔制御部材と、第２ノズルと基板との間のアラインを調節するアライン制御部材とのうち、少なくとも一つ；を含む薄膜蒸着装置である。 （もっと読む）

【課題】同一の成膜材料を用いて繰り返し成膜を行った場合でも、各対象物における膜厚を均一化することのできる成膜装置を提供する。
【解決手段】ターゲット１０１を用いて基板１００の表面に成膜を行う成膜装置１は、ターゲット１０１が載置される載置面を有する材料設置部４と、基板１００を材料設置部４に載置されたターゲット１０１に対向させて支持する基板ホルダ６と、基板ホルダ６の材料設置部４に対向する面の第一の領域及び第二の領域の成膜環境を測定可能に配置されたセンサ部８と、センサ部８の測定結果に基づいて第一の領域及び第二の領域の成膜環境を比較し、両者の差が所定値以上であるときに材料設置部４と基板ホルダ６との位置関係を変化させるよう制御する制御部１０とを備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】蒸着材料の利用効率を向上させつつ、基板へのスプラッシュの付着を阻止することができる真空蒸着装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る真空蒸着装置において、蒸発源４０は、複数のチムニ（筒状部）４２を有し、これらチムニから蒸着材料の蒸気を放出することで、対向する基板Ｔ上に蒸着膜を形成する。チムニの先端部と基板との間の距離Ｌ１を１００ｍｍ以下とすることで、チムニの直上に位置する基板に対する蒸発物質の付着量を増加させる。これにより、蒸着レートが向上するとともに、蒸着材料の利用効率を高めることが可能となる。また、チムニを有することで、スプラッシュが基板へ到達することを効果的に阻止することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】品質（電気光学特性）を向上させることができる電気光学装置、電気光学装置の製造方法を提供する。
【解決手段】被成膜基板１１ａと、被成膜基板１１ａの表面（素子形成側）に設けられた発光素子２７の領域と、被成膜基板１１ａの表面と対向する裏面に設けられた磁性体膜４０と、を備える。 （もっと読む）

【課題】大型基板量産工程に容易に適用でき、製造収率が向上した薄膜蒸着装置を提供する。
【解決手段】蒸着物質を放射する蒸着源と、蒸着源の一側に配され、第１方向に沿って複数の第１スリットが形成される第１ノズルと、第１ノズルと対向するように配され、第１方向に沿って複数の第２スリットが形成される第２ノズルと、第１ノズルと第２ノズルとの間に第１方向に沿って配されて、第１ノズルと第２ノズルとの間の空間を複数の蒸着空間に区画する複数の遮断壁を備える遮断壁アセンブリーとを備える薄膜蒸着装置。 （もっと読む）