【課題】有機発光素子の製造装置において、長時間の蒸着においても膜厚の均一性を失うことなく高い材料利用効率を実現する。
【解決手段】電極を有する基板１上に有機化合物層を備えた有機発光素子を製造する蒸着装置において、蒸着源２０と基板１の間に配置した膜厚補正板２３を蒸着源２０とともに基板１に対してＸ方向に相対的に移動させる。膜厚補正板２３の開口２３ａが、Ｘ方向と直交するＹ方向に沿って開口幅が変化する太鼓形状を有することで、開口端部における蒸着材料の斜入射成分の蒸着時間を増大させて膜厚を均一化する。また、膜厚補正板２３の開口２３ａの周縁に傾斜面２３ｂを備えることにより、蒸発物が開口２３ａの周縁に付着することによる開口寸法の変化を抑制する。これにより安定して所定の膜厚分布を得ることが可能となる。 （もっと読む）

【課題】フィラメントと融着することなく、フィラメントを十分に固定することのできるフィラメント固定機構を提供する。
【解決手段】フィラメントの端部４ＡＴを挟んで対向配置された第１および第２の部材２０，３０と、フィラメントの端部４ＡＴと共に第１および第２の部材２０，３０の間に挟まれた押さえ板４０と、第２の部材３０を第１の部材２０に締結するボルト５０とを備える。第１の部材２０は、ボルト５０の締め付け方向と交差する方向に支柱部２１から突き出した腕部２２，２３を有する。第２の部材３０は、平板部３１の両端部に立設する鉤部３２，３３を有する。ボルト５０を締め付け方向に回転させることで、腕部２２，２３と鉤部３２，３３とが当接したのち、押さえ板４０と支柱部２１の接触領域２１Ｓとによってフィラメントの端部４ＡＴが十分強固に把持される。 （もっと読む）

【課題】高精度な蒸着処理が可能であり、かつ、安全性および量産性に優れた蒸着装置を提供する。
【解決手段】蒸着用物質２０を収容する坩堝２と、被蒸着基板２１を保持する基板ホルダ９と、坩堝２と被蒸着基板２１との間に位置し坩堝２から被蒸着基板２１へ向かう蒸着用物質２０の通過を制御するシャッター５と、シャッター５によって坩堝２から遮られることのない位置に設けられ、蒸着用物質２０の蒸発レートを観測する第１のモニタ６と、第１のモニタ６によって観測された蒸着用物質２０の蒸発レートが蒸着用物質２０の放出開始から所定時間内に目標値に達した場合にシャッター５を開状態として蒸着用物質２０を透過させる一方、所定時間内に目標値に達しなかった場合には蒸着用物質２０の放出を停止させる機能を有する制御回路系１３とを備えた電子ビーム蒸着装置である。 （もっと読む）

【課題】有機化合物を保持する互いに種類の異なる複数個の蒸着源の内の一個、または二個を同時に開放することを可能とすると共に、複数個の蒸着源の相互間での汚染の発生を防止した真空蒸着装置を提供する。
【解決手段】真空蒸着装置１００は、真空チャンバ１１０の底面壁上に、互いに種類の異なるそれぞれの有機蒸着材料１２１，１３１，１４１が保持された３個の蒸着源１２０，１３０，１４０が、シャッタ１８０を回転する回転軸１８１の回転中心Ｏに対して略等角度の配設角度θに配設され、シャッタ１８０が蒸着源１２０，１３０，１４０の配設角度θの１/２の角度単位毎に回転して、３個の蒸着源１２０，１３０，１４０の内の一個、または二個を同時に開放すると共に、開放された蒸着源を除く他の蒸着源を遮蔽して、基板ホルダに保持された基板上に有機化合物よりなる薄膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】成膜効率の高い成膜装置を実現する。
【解決手段】板状の反転治具５７に基板Ｗを複数保持し、基板を保持する４枚の反転治具５７を保持する基板ホルダ５０を、真空チャンバー内に基板Ｗと蒸着源とが対向するように配置し、真空蒸着を開始する。蒸着源と対向する基板Ｗが成膜された場合、基板ホルダ５０を９０度回転させる。１面が成膜された反転治具５７を、反転治具５７と一体になったゼネバ５８１を回転させることで反転させる。全ての反転治具５７の両面が成膜されるまで、真空蒸着を継続する。 （もっと読む）

【課題】放出されるプラズマ粒子の純度を高め、不純物の混入を防止し、イオン濃度の制御性を良くした薄膜形成装置とこれを用いたＺｎＯ系薄膜を提供する。
【解決手段】中空の放電管１の外側周囲を高周波コイル２で巻き回されており、高周波コイル２の端子は、高周波電源に接続されている。また、放電管１の上部には放出孔４が、下部にはガス導入孔５が形成されている。ガス導入孔５にはガス供給管１２が接続され、ここから薄膜構成元素となる気体が供給される。放出孔４と所定の距離を隔てて阻止体３が、放出孔４を遮るように設けられている。薄膜形成時には、中空の放電管１内部からプラズマ粒子が放出されるが、気体元素以外の粒子が阻止体３に阻止され基板へ到達できない。 （もっと読む）

【課題】基板を保持する保持具における付着物の剥離を十分に抑制することができる積層膜形成システム、そのような積層膜形成システムで使用されるスパッタ装置、および、上記の積層膜形成システムで実行される積層膜形成方法を提供する。
【解決手段】基板上にスパッタ法によって磁性膜を形成するスパッタ装置と、この磁性膜の表面にカーボン保護膜を形成するＣＶＤ装置とを有し、基板上に磁性膜とカーボン保護膜とからなる積層膜を形成する積層膜形成システムにおいて、スパッタ装置が、磁性膜の形成に際して基板保持具２２０と磁性物質ターゲット２３０との間に位置し、基板保持具２２０において基板Ｐを囲む枠２２１のうち、この基板保持具２２０が立てられるときに基板Ｐの上に位置する部分を除いた部分に限って、磁性物質ターゲット２３０からの磁性物質を遮るシールド２４０を備えた。 （もっと読む）

【課題】被処理基板に対して複数の蒸着エリアで順次、蒸着を行うインライン式蒸着装置、および成膜方法において、特定の蒸着エリアで成膜される薄膜の膜厚のみを容易かつ確実に調整することのできる構成を提供すること。
【解決手段】インライン式蒸着装置１００において成膜を行なった際、各蒸着エリア５１〜５３で被処理基板２０に形成される薄膜の膜厚バランスがずれている場合、被処理基板２０の搬送速度、および坩堝４５での蒸着材料の加熱温度は変更せずに、蒸気流供給量制御用シャッタ１１、１２、１３のスリット状開口部１４の幅寸法を調整する。 （もっと読む）

【課題】複雑な外形を有する加工物の全面に所望通りに被覆材料を付着させる装置を提供する。
【解決手段】加工物に真空めっきを施す装置１０は、被覆材料を内包し、高温かつ準大気圧で作用しうるめっきチャンバと；めっきチャンバ内および被覆材料上に電子ビームを照射し、被覆材料を溶解させ溶融被覆材料を気化させるよう作用しうる電子ビーム銃と；めっきチャンバ１４内における加工物１２の支持および操作を行う機構３４とを含む。支持機構３４は、加工物を保持する結合装置５８と；加工物の全方向の移動を可能にする継手と；結合装置５８と継手とを接続する中間部材と；加工物を所定の垂直面６６内において移動させる装置とをさらに含む。支持機構３４は、中間部材に接続し加工物を所定の水平面において移動させる装置９２を含みうる。 （もっと読む）

【課題】プラズマＣＶＤによる成膜と、蒸発源を用いる成膜とを、成膜空間を大気圧に開放することなく、連続して行うことのできる成膜装置を提供する。
【解決手段】蒸発材料８ａが充填される坩堝８ｂの開口には、開閉可能な遮蔽部材８ｃが配置され、遮蔽部材８ｃは、プラズマ源２の陽極を兼用する。これにより、プラズマＣＶＤ工程では、陽極を兼用する遮蔽部材８ｃによって蒸発材料８ａを遮蔽することができるため、蒸発材料８ａに膜が付着しない。また、遮蔽部材８ｃを陽極とすることにより、遮蔽部材８ｃがプラズマの放電に影響を与えない。また、遮蔽部材８ｃを開放し、蒸発材料８ａを蒸発させて蒸着工程を行うことができる。遮蔽部材８ｃがプラズマ５ａで加熱されるため、遮蔽部材８ｃの内側に付着する蒸発物を蒸発させて除去することも可能である。 （もっと読む）

【課題】セルシャッタに蒸着材料が分厚く堆積することを防止することにより、セルシャッタからの蒸着材料の剥離を防止することのできる蒸着装置を提供すること。
【解決手段】真空蒸着装置１００は、蒸着材料の蒸気流を放出する開口部１２ａを備えた蒸着源１２と、開口部１２ａを上方で覆って蒸気流の被処理基板２０への供給を停止する遮断面１５４を備えたセルシャッタ１５と、セルシャッタ１５が開口部１２ａを開閉するようにセルシャッタ１５を駆動するセルシャッタ駆動装置とを有している。シャッタ板１５３は、下方に向けて開口する半球状に形成され、遮断面１５４は、被処理基板２０側に向けて凹む凹球面になっている。従って、同一体積の蒸着材料が堆積した場合でも、遮断面１５４への蒸着材料の堆積層１７の厚さが薄く、堆積層１７が剥離しにくい。 （もっと読む）

【課題】被処理基板以外に堆積する蒸着材料を減らすとともに、被処理基板以外に堆積した蒸着材料を容易に回収、再利用することのできる蒸着装置および蒸着方法を提供すること。
【解決手段】真空蒸着装置１００では、蒸着源１２における蒸気出口１２ａの開口方向の周りを囲む遮断壁１７１、およびこの遮断壁１７１において蒸気出口１２ａと対向する位置で開口する貫通穴からなる蒸気流放出口１７０を備えた蒸着材料回収具１７を蒸気出口１２ａを覆うように配置した状態で蒸着を行う。遮断壁１７１の内面は凹球面になっており、その天頂部に蒸気流放出口１７０が形成されている。真空蒸着後、蒸着材料回収具１７を蒸着室１１から外部に取り出して、遮断壁１７１に堆積している蒸着材料を回収し、再利用する。 （もっと読む）

【課題】基板の成膜処理により成膜される付着膜を容易に剥離・除去することができる成膜装置用部品、成膜装置、成膜装置用部品の製造方法、成膜装置用部品の再生方法を提案する。
【解決手段】基板Ｐ類への成膜処理中に不要な付着膜３０が成膜される成膜装置用部品２０は、成膜装置用部品本体２１と、成膜装置用部品本体２１の表面に形成されて付着膜３０と共に剥離可能な保護膜２２と、を有する。保護膜２２は、ジメチルシリコーン重合膜である。成膜装置用部品としては、例えば、防着板２０がある。 （もっと読む）

【課題】１回の蒸着工程により、被成膜領域毎に異なる膜厚の薄膜を形成することのできる蒸着用マスク、マスク蒸着法、および有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】素子基板２に蒸着用マスク３１を重ねて蒸着を行い、素子基板２において、蒸着用マスク３１に形成されているマスク開口部３２に対応する領域に薄膜を形成する。その際、マスク開口部３２（Ｒ）、３２（Ｇ）、３２（Ｂ）では、出側開口３２２の面積に対する入側開口３２１の面積の比率を相違させてあるので、１回の蒸着工程を行なうだけで、比率が大きいマスク開口部３２（Ｒ）に対応する領域には膜厚の厚い電子注入輸送層７を形成でき、比率が小さいマスク開口部３２（Ｂ）に対応する領域には膜厚の薄い電子注入輸送層７を形成することができる。 （もっと読む）

【課題】装置の大型化を抑制しつつ、フィルム走行方向に沿って連続成膜が可能なステッピングロール方式の成膜装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る成膜装置（巻取式プラズマＣＶＤ装置）２０は、成膜部２１と、成膜部２１にフィルムＦを供給する巻出しローラ２２と、成膜部２１で成膜したフィルムを巻き取る巻取りローラ２３とを備えたステッピングロール方式の成膜装置であって、成膜部２１は、フィルム走行方向に関して直列的に配置された複数の成膜室２４Ａ，２４Ｂからなり、各成膜室の間には、当該成膜室で成膜されるフィルム長の自然数倍に相当する長さのフィルムを待機させる予備室２５が設けられている。これにより、成膜室２４Ａ，２４Ｂの設置間隔が任意に設定できるようになり、装置の大型化抑制と設計自由度の向上を図れるようになるとともに、製品の使用効率の向上を図ることが可能となる。 （もっと読む）

【課題】蒸着マスクを介して被処理基板に成膜する際にスプラッシュが発生した場合でも、粒子状欠陥のない薄膜を成膜することのでき、かつ、マスク開口部に目詰まりの発生しないマスク蒸着法、有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法、およびマスク蒸着装置を提供する。
【解決手段】被処理基板２０に対する成膜パターンに対応するマスク開口部３１０が形成された蒸着用マスク３１を被処理基板２０の被成膜面側に重ね、蒸着源１２の側から供給された成膜材料流をマスク開口部３１０を介して被成膜面に供給する。その際、蒸着用マスク３１と蒸着源１２との間には、成膜材料流が通過可能かつマスク開口部３１０より開口幅の狭いフィルタ開口部４１０を備えたスプラッシュ粒子捕捉用フィルタ４１を配置する。 （もっと読む）

【課題】特に凹曲面状の被成膜面を有する被成膜体に対して、異なる形状や寸法のものが混載されていても均一な膜厚の薄膜が形成されるように制御することが可能な成膜制御装置を提供する。
【解決手段】被成膜体Ｗの凹曲面状をなす被成膜面Ｗａへの成膜を制御する成膜制御装置１６であって、被成膜面Ｗａがなす凹曲面の底部と開口部の中央部とを結ぶ中心線Ｃに沿って延びるように配設される軸部材１７と、この軸部材１７の外周に突出するように設けられて、被成膜体Ｗに対して着脱自在かつ中心線Ｃ方向の位置が調整可能とされる制御部材１９とを備える。 （もっと読む）

【課題】蒸発により飛散した物質がポールピース上に堆積していくのを防止するとともに、真空チャンバ内、特にポールピースの周囲に余分な残骸物を残しておくような状況をつくり出さないことの可能な真空蒸着装置を提供する。
【解決手段】ポールピース５１を蒸発により飛散した物質から遮蔽するポールピースカバー１５と、該ポールピースカバー１５を所定の支点を中心として回転駆動し及び並進駆動する駆動手段を備える。そして、前記ポールピースカバー１５を被打撃体２０の被打撃面に所定回数衝突させて、当該ポールピースカバー１５に付着した物質を該ポールピースカバー１５から剥落させるように、前記駆動手段を駆動制御する制御手段を備える。 （もっと読む）

【課題】被成膜体の形状や寸法に応じた最適な傾斜角度に自転軸線を設定することができ、しかも個々の自転ドームにモーター等の駆動手段を要したりすることのない真空成膜装置を提供する。
【解決手段】真空容器１内に収容された被成膜体Ｗを回転機構によって回転させながら、成膜物質の発生機構５により薄膜を形成する真空成膜装置であって、回転機構においては、公転軸線Ｏ回りに回転される公転ドーム６に、公転軸線Ｏに対して傾斜した自転軸線Ｐ回りに回転される自転ドーム７が取り付けられて被成膜体Ｗが取り付けられ、この自転ドーム７は、その自転軸線Ｐの公転軸線Ｏに対する傾斜角度と、その公転ドーム６に対する位置との少なくとも一方が調整可能とされるとともに、公転ドーム６の回転による回転力が可撓性を有する伝達部材１４を介して伝達させられて回転させられる。 （もっと読む）

【課題】シャッター板の蒸着源側の面に堆積した蒸着材料を、自己清掃機能を設けることにより除去することを可能とし、シャッター板の蒸着源側の面に堆積した蒸着材料を再利用することで、蒸着材料の使用効率を高めることが可能な蒸着装置を提供することを目的とする。
【解決手段】シャッター板の蒸着源側の面が隆起したシャッター板と、シャッター板の被蒸着物側に設置したヒーターとを有する蒸着装置を用いて、シャッター板に付着した蒸着材料を加熱により融解し、シャッター板の隆起した凸部に集めることで、蒸着源に落とし込んで回収する。 （もっと読む）