【課題】 可動部を省略し、簡略な構成でサンプルデバイスを良好に製造できるコンビナトリアルデバイス製造装置を提供する。
【解決手段】 コンビナトリアルデバイス製造装置は、膜を組み合わせて基板上に複数種類のデバイスを製造するものであって、膜を形成するための材料をイオン化してイオンを放出するイオン源と、イオン源から放出されたイオンを基板上に蒸着するイオン輸送系と、イオン輸送系で輸送されるイオンの進行方向を電界及び磁界のうち少なくともいずれか一方を使って偏向し、基板上でのイオンの蒸着位置を制御する制御系とを備えている。 （もっと読む）

【課題】 本発明の目的は、蒸着原料の突沸によるスプラッシュで蒸着流中に直径の大きな異常粒子が混入し、それが被処理基板に付着して成膜品質を低下させることを、スプラッシュの発生を定量的かつ早期に検出することで防止する機能を有する真空蒸着装置およびその真空蒸着装置を用いた真空蒸着方法を提供することである。
【解決手段】 本発明の真空蒸着装置１０１は、真空チャンバ２と、真空ポンプ３と、基板ホルダ５と、ルツボ７と、電子ビーム９を発射する電子銃１０と集束コイル１１および偏向コイル１２と、シャッタ１３と、シャッタ駆動部１４と、成膜速度を測定する膜厚モニタ１５と、パワー制御部１６と、膜厚モニタ１５で測定した成膜速度の変動量を予め設定した基準値と比較判定することで、ルツボ７内の蒸着原料６の突沸により生じる不所望なスプラッシュの有無を検出する本発明の特徴である比較判定部１０２とで構成されている。 （もっと読む）

【課題】 成膜装置としての性能を損なうことなく、薄膜成長中の成膜装置内部の状態を外部から監視可能な内部動作監視装置および方法を提供する。
【解決手段】 本発明の内部動作監視装置は、成膜材料の温度と基板の温度を調節する温度調節手段と、成膜量調節用シャッタの開閉調節手段とを備える成膜装置の内部動作監視装置であって、温度調節手段と開閉調節手段の出力値を測定する装置状態測定手段と、装置状態測定手段に接続されて測定した出力値を蓄積する装置状態蓄積手段と、装置状態測定手段と装置状態蓄積手段に接続されるシャッタ状態比較手段とを備え、シャッタ状態比較手段において、シャッタの開閉状態を変更するための制御信号の入力があった場合に、信号入力前における、成膜材料の温度または基板の温度を制御するための出力値を装置状態蓄積手段から呼び出し、信号入力後における、成膜材料の温度または基板の温度を制御するための出力値と比較し、出力値の変動差を監視することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】パターンジェネレータの空間的な応答を変更するためのシステム及び方法を提供する。
【解決手段】（ａ）材料をパターンジェネレータ装置の層に向かって、該層上にコーティングを形成するように方向付け、（ｂ）パターンジェネレータ上のコーティングから反射する光の形状が台形になるようにステップ（ａ）の間に少なくとも前記材料の一部が層に到達するのを妨げることを特徴とする、方法。 （もっと読む）

【課題】 複数の基板の成膜を簡易におこなうことができる成膜装置及び成膜方法を提供する。
【解決手段】 本発明に係る成膜装置１０において、成膜されるべきＳｉ基板２０は、筐体１２内に配置された円板状ホルダ１８によって保持される。そして、ホルダ１８に保持されたＳｉ基板２０Ａがヒータ２８によって加熱されると共に、蒸着源３０から成膜材料３２が放出されることによって、Ｓｉ基板２０Ａの成膜がおこなわれる。ここで、ホルダ１８は、その円周方向Ｌに沿って並ぶように６枚のＳｉ基板２０Ａ〜２０Ｆを保持すると共に、その円周方向Ｌに回転する。そのため、このホルダ１８を回転させると、蒸着源３０によって成膜されるＳｉ基板２０がＳｉ基板２０Ｂに換わって、ホルダ１８に保持された６枚のＳｉ基板２０Ａ〜２０Ｆが順次成膜可能な状態となる。 （もっと読む）

【課題】 スパッタ装置を高コスト化・大型化させることなく、さらには製品の信頼性や歩留りを低下させることなく、ウェーハ上に膜厚分布の均一性の優れたスパッタ膜を形成することができるスパッタ装置及びそれを用いたスパッタ方法を提供する。
【解決手段】 本発明のスパッタ装置１は、ターゲット３とシャッタ１５の間に、スパッタ粒子を制御するためのスパッタ粒子制御板１６が配置されている。このスパッタ粒子制御板１６はステンレス等の材質からなり、その中央部に開口部１７が形成されている。この開口部１７は、ターゲット３から飛散するスパッタ粒子の放出分布に対応した形状を有している。 （もっと読む）

【課題】 成膜中においても基板表面近傍から基板表面を効率的に加熱することが可能な膜形成装置を提供する。
【解決手段】 真空槽１と、該真空槽内に配設された蒸着源３と、真空槽１内に設置され基板Ｓを保持する基板ホルダ２と、蒸着源３と基板ホルダ２との間に設置された補正板１１と、電源から電力の供給を受けて基板Ｓを加熱するためのヒータ１３と、を有する膜形成装置において、ヒータ１３を補正板１１における基板ホルダ２に対向する面に設ける。 （もっと読む）

【課題】 本発明の目的は、ガス出し作業や蒸着作業後の徐冷の際に、シャッタ板裏面に付着する付着物がルツボ内に落下して、ルツボ内の蒸着原料を汚染することを防止できる機能を有する真空蒸着装置を提供することである。
【解決手段】 本発明の真空蒸着装置１０１は、真空チャンバ２と、真空ポンプ３と、半導体基板４を保持する基板ホルダ５と、蒸着原料６を収容するルツボ７と、加熱手段としての電子銃９と、集束コイル１０および偏向コイル１１と、蒸着原料６からの蒸着流１２を放出したり遮断したりする本発明の特徴である、蒸着原料６と同種の材料で成るシャッタ板１０２と、シャッタ板１０２の位置を移動させるシャッタ板駆動部１４と、成膜レートを測定する膜厚モニタ１５と、電子銃９のパワーを制御するパワー制御部１６とで構成されている。 （もっと読む）

【課題】 基体との密着性、皮膜の異層間の密着性に優れた特性を有する硬質被覆層を得るための皮膜形成方法と、この皮膜形成方法により被覆した被覆部材を提供することである。
【解決手段】 蒸発源に複数の陰極物質を装着し、該蒸発源の前面に遮蔽板を設け、真空容器内でプラズマを発生させて基体の表面に陰極物質材料の皮膜を形成する物理蒸着装置を用いて、該基体表面にボンバードメント処理を行うボンバードメント工程と、皮膜を形成する被覆工程とからなり、該ボンバードメント工程は該遮蔽板により該蒸発源の放電による放出物質を該基体から遮蔽した状態で、少なくとも非金属イオンによる該基体のボンバードメント処理を行うことを特徴とする皮膜形成方法である。 （もっと読む）

【課題】 高感度であって、高画質であり、特に、鮮鋭性に優れた放射線画像が得られる放射線像変換パネルの製造方法の提供。
【解決手段】 蒸着装置内にて、下記一般式（Ｉ）で表される輝尽性蛍光体もしくは輝尽性蛍光体原料を含有する蒸発源を加熱して発生する物質を基板上に蒸着させることにより蛍光体層を形成する工程を有する放射線像変換パネルの製造方法において、蒸着装置として蒸発源ボートと該基板との間に開閉可能なシャッタが備えられた蒸着装置を用い、該シャッタの面積と蒸発源ボートの開口部面積の比が１以上であることを特徴とする放射線像変換パネルの製造方法。
一般式（Ｉ）
Ｍ¹Ｘ・ａＭ²Ｘ′₂・ｂＭ³Ｘ″₃：ｅＡ （もっと読む）

【課題】 生産性が良く、光学特性に優れた膜を形成すること。
【解決手段】 複数の成膜面を有する多面体１に対してスパッタリングにより成膜を行い、複数の成膜面に同時にミラー面を形成する成膜装置１０であって、スッパタリングする板状のターゲット１１、１２と、該ターゲット１１、１２の表面に対して、成膜面の少なくとも２面が所定角度となるように多面体１を位置させるホルダ１３と、ターゲット１１、１２とホルダ１３との間に配され、ターゲット１１、１２から多面体１に向けて飛散する物質を通過させる開口１４ｃ、１５ｃを有する開口板１４、１５とを備え、ホルダ１３は、多角形状の外周面を有して軸方向に延びるよう形成されて軸回りに回転可能であると共に、外周面上に多面体１を複数固定可能である成膜装置１０を提供する。 （もっと読む）

【課題】シャッターに付着した付着物が剥離して蒸着源の上部を覆うことを防止することが可能な蒸着装置、蒸着方法、有機ＥＬ装置、および電子機器を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の蒸着装置は、蒸着源により蒸着材料を気化させて、基板の蒸着面に膜形成を行う蒸着装置において、前記蒸着源の開口部の近傍に、蒸着レートを調整するためのシャッターを備え、前記シャッターの前記蒸着源側の面に、微細な凹凸を形成したものである。 （もっと読む）

【課題】 成膜室の容積を小さくして同成膜室の雰囲気を速く減圧にすることのできるコンパクトな真空成膜装置、薄膜素子の製造方法及び電子機器を提供する。
【解決手段】 各第１〜第３蒸発源室３Ａ〜３Ｃに基板搬送室２と独立させるためのゲートバルブＧＢを備えた。また、各第１〜第３蒸発源室３Ａ〜３Ｃに吸排気口１２及び吸排気口１２から配管を介して各第１〜第３蒸発源室３Ａ〜３Ｃ内の雰囲気を個別に減圧または大気圧に制御する真空ポンプに接続した。 （もっと読む）

【課題】シャッターに付着した付着物が剥離して蒸着源に入るのを可及的に防止することが可能な蒸着装置、蒸着方法、有機ＥＬ装置、および電子機器を提供することを目的とする。
【解決手段】蒸着源により蒸着材料を気化させて、基板の蒸着面に膜形成を行う蒸着装置において、前記蒸着源と前記基板との間に、蒸着レートを調整するためのシャッターを備え、前記シャッターの前記蒸着源側の面に、付着する蒸着材料の剥離を防止するために、微細な凹凸を形成したものである。 （もっと読む）

【解決手段】 本発明は、基体が蒸着装置の加熱された蒸着チャンネル中を動く際に、固体および／または液体被覆材料の蒸発およびその蒸気状被覆材料の基体上への蒸着によって、連続的に運搬される基体を熱的に真空被覆する方法において、蒸着チャンネル（３）を、最少の運搬速度に達しない場合でもまたは基体が静止した場合でも、少なくとも１つの位置変更可能な中空要素（７）の差し込みよって、基体が内部空間に存在する様に外部空間（３）と内部空間に分離することを特徴とする、上記真空被覆法に関する。この方法を実施するための装置にも関する。
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本発明は、アルミニウム合金製の部品（５）へのイオン注入装置に関するものであって、該装置は、抽出圧力によって加速されたイオンを放出するイオン源（６）と、前記源（６）によって発信された初期イオンビーム（ｆ１’）の、注入ビーム（ｆ１）への第一の調整手段（７−１１）とを有する。前記源（６）は、部品（５）内に１２０℃を下回る温度で注入されるマルチエネルギーイオンの初期ビーム（ｆ１’）を生産する、電子サイクロトロン共鳴源である。前記調整手段（７−１１）を介して調整された注入ビーム（ｆ１）の、これらのマルチエネルギーイオンの注入は、源の抽出圧力によってコントロールされた深さに同時に実施される。
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