【課題】遮蔽体を利用して容易に膜厚分布の制御が可能なマグネトロンスパッタ装置及びマグネトロンスパッタ方法を提供する。
【解決手段】本発明のマグネトロンスパッタ装置は、基板保持部１１と、基板保持部１１に対向して設けられる板状のターゲット１２の被スパッタ面１２ａの反対面に対向しつつ回転可能に設けられ、その回転中心Ｃ１に対して偏心した位置に中心Ｃ２を有する電子の周回軌道２０を被スパッタ面１２ａの近傍に生じさせるマグネット１３と、ターゲット１２と基板１０との間に設けられ、基板１０側からターゲット１２を見た平面視で電子の周回軌道２０の一部を遮蔽しつつ電子の周回軌道２０との相対位置は変えずに、マグネット１３と同期して回転する遮蔽体１４と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】コンディショニング、プリスパッタおよびターゲットクリーニングを目的とする放電を行なう際、スパッタ粒子が基板ホルダーの基板載置面に付着するのを防止するスパッタリング装置を提供する。
【解決手段】基板ホルダー７とターゲットホルダー６との間を遮蔽する第１の遮蔽部材と、基板ホルダー７の面上でかつ基板１０の外周部に設置されている、リング形状を有する第２の遮蔽部材と、を備え、第１の遮蔽部材には、第２の遮蔽部材方向に伸びた少なくとも１つのリング形状を有する第１の突起部が形成されており、第２の遮蔽部材には、第１の遮蔽部材方向に伸びた少なくとも１つのリング形状を有する第２の突起部が形成されており、駆動部により基板ホルダー７が接近した位置で、第１の突起部と第２の突起部とが、非接触の状態で嵌り合う。 （もっと読む）

【課題】蒸着マスクよりサイズの大きい基板への高精細の蒸着マスク蒸着を容易に行うことができる蒸着装置及び有機ＥＬ表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】蒸着装置は、蒸着チャンバ１と、基板の被成膜領域よりサイズの小さい蒸着マスク２と、蒸着マスクを介して被成膜領域に蒸着材料を蒸着させる蒸着源３と、基板と、蒸着マスク及び蒸着源と、の相対位置を移動させる移動機構と、制御部５と、を備えている。制御部５は、移動機構を稼動させ、基板と、蒸着マスク及び蒸着源との相対位置をステップ状に移動させ、被成膜領域を複数に分割して蒸着させる。 （もっと読む）

【課題】ホッパーからの材料供給が変化しても安定した成膜材料の供給が可能な簡単な構成の成膜装置の成膜材料供給装置を提供する。
【解決手段】材料ホッパー４１と、材料フィーダー４３と、制御板４８を備える成膜材料供給装置４０であって、材料ホッパー４１は、内部に収納した成膜材料２２を材料フィーダー４３に供給し、材料フィーダー４３は、材料ホッパー４１からの成膜材料２２を受け且つ内壁面４３ｄに螺旋溝４３ｅを有する円筒体４３ｃを備え、螺旋溝４３ｅを回転させることで円筒体４３ｃ内の成膜材料２２を、材料フィーダー４３の上端部４６ａにまで搬送の上、材料フィーダー４３外に排出し、制御板４８は、材料フィーダー４３の上端部４６ａから排出される成膜材料２２の排出量を制御している。 （もっと読む）

【課題】 複数の透明基材に対して、連続して蒸着が行われる防護層への不純物の混入を抑え、膜質の優れた防護層を提供する。
【解決手段】 成膜室内において、無機材料により構成される密着層を備えた透明基材に対してフッ素系樹脂により構成される防護層を蒸着するための方法であって、前記透明基材と前記蒸着源との間に前記防護層の蒸着量を制御するための蒸着量制御手段を設け、前記蒸着量制御手段を閉じた状態で前記蒸着量制御手段を前記フッ素系樹脂の沸点以上の温度まで加熱した後、前記防護層を蒸着する工程を複数の前記透明基材に対して繰り返し行い、複数の前記透明基材に連続して前記防護層を蒸着することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ゲッター作用を有する材料からなる薄膜が基板上に成膜されにくく、反応チャンバ内の雰囲気に存在する不純物ガスを効果的に除去して反応チャンバ内の真空度を高めることができる成膜装置および成膜方法を提供する。
【解決手段】ターゲット１１８が、磁性材料領域１８ａと、ゲッター作用を有するゲッター材料からなるゲッター材料領域１８ｃとを含むものであり、基板２００とターゲット１１８との間にシールド部材２１が設けられ、シールド部材２１が、磁性材料領域１８ａ側に向かって基板２００全面を露出させるものであって、磁性材料領域１８ａから発生したスパッタ粒子を通過させる開口部２１ａと、ゲッター材料領域１８ｃから発生したスパッタ粒子を遮るものであって、表面にゲッター材料からなるゲッター膜が形成される遮断部２１ｂとを有している成膜装置とする。 （もっと読む）

【課題】不純物のドープ量を容易に制御して添加できるプラズマ援用反応性薄膜形成装置を提供する。
【解決手段】プラズマ発生用コイル４を、薄膜にドープする元素からなる物質、またはその元素を含む物質で一部または全体が構成されるか被覆されたものとする。そのプラズマ発生用コイル４によってチャンバ１０内にプラズマを発生させ、蒸発源のルツボ６によって蒸発される原料の元素と気体導入口７から導入される気体の元素とがプラズマ雰囲気中で活性化し、前記プラズマ発生用コイル４の表面からスパッタリングされて飛び出す上記物質（例えばCu）の元素とともに基板２の表面において反応し、該物質の元素をドープした薄膜を成膜する。 （もっと読む）

【課題】カルーセル式の成膜装置を用いて成膜作業を行う際に、モニター基板の裏面に成膜される事態を回避して正確なモニター計測を行う。
【解決手段】基板保持部材５にモニター用通路２０が基板保持部材５の側面を貫通する形で形成されている。モニター用通路２０の一端部にモニター基板２１がその表面を基板保持部材５上の成膜基板の表面と同じ成膜条件とするように装着されている。成膜基板の成膜時にターゲットからスパッタされた粒子がモニター基板２１の裏面に到達する経路を遮断する経路遮断手段２２が設けられている。これにより、成膜時にモニター基板２１の裏面に成膜される事態を回避でき、正確なモニター計測を行うことができる。 （もっと読む）

【課題】一つの成膜装置で蒸着重合法及びスパッタリング法を行うことができる複合型の成膜装置を提供する。
【解決手段】成膜対象を設置する真空成膜室と、前記真空成膜室中の前記成膜対象にスパッタリング法により膜を形成するスパッタリング手段３０と、前記真空成膜室中の前記成膜対象に蒸着重合法により膜を形成する蒸着重合手段２０ａ、２０ｂとを備え、前記スパッタリング手段３０は、スパッタリングターゲット３１が設けられたターゲット室３２からなり、当該ターゲット室３２は、前記真空成膜室に可動遮蔽手段を介して接続され、前記蒸着重合手段２０ａ、２０ｂは、原料モノマーが封入されている蒸発源容器２１ａ、２１ｂと、蒸発源容器２１ａ、２１ｂに設けられた加熱手段２２ａ、２２ｂとからなる。 （もっと読む）

【課題】蒸着装置の導入及び保守コストの増大を防ぎながら有機ガスによって流量センサに詰まりが発生したことを確実に検知する蒸着装置を提供する。
【解決手段】タンク１６０へ供給するバブリングガスの流量を測定する第１流量センサを含んで流量を制御する第１流量制御部と、タンク１６０から蒸着室へ供給する有機ガスの流量を測定する第２流量センサを含んで流量を制御する第２流量制御部と、第１及び第２流量制御部を制御する制御部とを有し、タンク圧が目標タンク圧となるように第１流量制御部に流量の指令を行い、第１流量センサが測定したバブリングガスの流量と、第２流量センサが測定した有機ガス１８０の流量と、タンクの温度及び気相部容積からタンク内圧の変化量を理論タンク圧変化量として演算し、タンク圧の実際の変化量を実タンク圧力変化量として求め、それらの変化量の差が予め設定した許容範囲になければ、異常が発生したと判定する。 （もっと読む）

【課題】蒸着原料の特性に合わせて電子銃の制御を的確に行うレンズの成膜方法を提供する。
【解決手段】蒸着装置の蒸着室内に保持されたレンズの表面に蒸着原料を気化させて蒸着させることにより膜を形成するレンズの成膜方法で、制御部が、蒸着原料の種類に応じて予め設定された初期出力を加熱部に指令して加熱部を起動し、オープンループ制御によって加熱部の出力を徐々に増大するように指令し、予め設定した条件を満たしたときには光学式膜厚測定部の光量値に基づくフィードバック制御によって加熱部の出力を制御する。 （もっと読む）

【課題】蒸発源から蒸発させた蒸着粒子の流れを乱すことなく、効率よくガスを供給し、連続斜め蒸着可能な蒸着装置を提供する。
【解決手段】チャンバーの外部からガスを供給するノズル部３１ａ１，３１ａ２，３１ｂ１，３１ｂ２を、基板の表面に垂直で、かつ、基板を搬送する方向に平行な面に配置し、基板が第１および第２の蒸着領域６０ａ，６０ｂを通過する間に、蒸着方向の異なる２段の蒸着工程を連続して行い、量産性に優れたプロセスで、成長方向の異なる複数の層からなる蒸着膜を製造する。 （もっと読む）

【課題】本発明はロールツーロールタイプの薄膜パターン形成装置に関する。
【解決手段】薄膜パターン形成装置は、シートを走行させる巻出ロール及び巻取ロールと、弾性体層が形成された周面を有し、上記巻出ロールと巻取ロールとの間に配置され上記シートをその周面に沿って走行させる回転ドラムと、蒸着ソースを収容し、蒸発した蒸着ソースが上記回転ドラム上に位置した上記シートに薄膜を形成するよう装着されたソース載置部と、上記ソース載置部から上記回転ドラムに向かう蒸着ソースの進行を選択的に遮蔽させるシャッタと、上記シート上に蒸着しようとする薄膜のパターンを定義するパターンを有し、薄膜蒸着時に上記回転ドラム上に位置したシートに密着したマスクと、薄膜蒸着後に上記弾性体層の厚さの減少により上記マスクから上記シートが離隔されるよう上記シートを上記回転ドラム方向に加圧させる張力印加部とを含む。 （もっと読む）

【課題】溶着現象を抑制した耐摩耗性及び耐高温酸化特性を持つ多層皮膜被覆部材を提供する。
【解決手段】基材２表面に硬質皮膜１を２層以上被覆した多層皮膜被覆部材において、該硬質皮膜１は外層である第１硬質皮膜４と、内層である第２硬質皮膜３を有し、該第１硬質皮膜４は、ＳｉＢＮＣＯ系であり、該第２硬質皮膜３は、金属成分がＡｌ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｎｂ、Ｗ、Ｓｉ、Ｖ、Ｚｒ、Ｍｏから選択される２種以上、非金属成分がＮと、硼素、Ｃ、Ｏ、Ｓから選択される１種以上を有し、該第１硬質皮膜４の表層は、Ｓｉ−Ｃ結合を示すピークから求めた面積をα、Ｓｉ−Ｏ結合を示すピークから求めた面積をβとしたとき９≦α／β≦２２、Ｂ−Ｎ結合を示すピークから求めた面積をＸとし、Ｂ−Ｏ結合を示すピークから求めた面積をＹとし、比をＸ／Ｙとしたとき、５≦Ｘ／Ｙ≦１２、であることを特徴とする多層皮膜被覆部材。 （もっと読む）

【課題】蒸着材料と絶縁部材との間を密着させて安定した初期放電を得ることができる同軸型真空アーク蒸着源及びこれを備えた真空蒸着装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る同軸型真空アーク蒸着源５は、円筒状の絶縁碍子１４と、絶縁碍子１４の内周部に配置され外周部が絶縁碍子１４の内周部に弾性的に接触する蒸着材料１１と、絶縁碍子１４の外周部に配置されたトリガ電極１３と、トリガ電極１３の周囲に同心的に配置された筒状のアノード電極２３とを具備する。これにより、蒸着材料１１と絶縁碍子１４との間の密着を常に維持することができるので、蒸着源５の安定した放電動作を確保することができる。 （もっと読む）

【課題】成膜室を大気に開放させることなく、遮蔽板を交換することができるスパッタ装置を提供する。
【解決手段】真空容器１１に備えられた成膜室１１Ａの内部でターゲットのスパッタ物質を基板上に付着させるスパッタ装置１であって、ターゲットと基板の間にターゲットと対向して配置され、基板に付着させるスパッタ物質の厚み分布を制御する遮蔽板３６と、真空容器１１に備えられ、成膜室１１Ａに対してゲートバルブ１１ｄを介して連通する遮蔽板切替室１１Ｃと、成膜室１１Ａ内のターゲット及び基板間との間で、遮蔽板３６を移動させる移動手段１００，１００ａ，１００ｂ，１０２ａ，１０２ｂ，２００，３００，３０２，３０４，３０６，３０８，４００とを有するスパッタ装置１。 （もっと読む）

【課題】合金膜を容易に形成することができる同軸型真空アーク蒸着源及びこれを備えた真空蒸着装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る同軸型真空アーク蒸着源８は、円筒状の絶縁碍子１４と、絶縁碍子１４の内周部に配置され、２種以上の金属箔８２（８２ａ，８２ｂ）が重ねて巻回されてなる蒸着材料８０と、絶縁碍子１４の外周部に配置されたトリガ電極１３と、トリガ電極１３の周囲に配置された筒状のアノード電極２３とを具備する。これにより、２種以上の金属の合金インゴットの作製が不要となる。また、合金化が困難な材料の合金膜の形成が可能となる。さらに、３種以上の金属箔を用いることで、３元系以上の合金膜をも容易に形成することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】膜厚分布が顕著化しやすい場合においても高精度な膜厚制御を行うことが可能な成膜装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る真空蒸着装置１は、真空チャンバ１０１と、基板ホルダ１０３と、成膜源ホルダ１１３と、遮蔽機構１０９と、第１膜厚測定機構１０４と、補正制御部１１０と、を備えている。遮蔽機構１０９は、基板ホルダ１０３と成膜源ホルダ１１３との間に設けられており、成膜源１１４からみて基板上における成膜される領域の少なくとも一部を遮蔽し、基板ホルダ１０３の回転軌道円の接線方向における大きさを個々に変更可能な小片３０３ａ〜３０３ｌを有する。第１膜厚測定機構１０４は、複数の位置における成膜層の膜厚を測定する。補正制御部１１０は、第１膜厚測定機構１０４の測定結果に基づいて小片３０３ａ〜３０３ｌのそれぞれの大きさを個々に補正する。 （もっと読む）

【課題】第一ターゲット１７ａ及び第二ターゲット１７ｂが、それぞれ基板６及び他のターゲットに対して斜めに対向して配置され、基板６を搬送経路１５に沿って搬送しながら成膜する連続方式のスパッタリング装置において、高品質の膜が得られるようにすると共に、粒子のチャンバー３内拡散を防止できるようにする。
【解決手段】第一ターゲット１７ａと第二ターゲット１７ｂとの間の空間の搬送経路１５側への延長領域を挟んで、搬送経路１５と、第一ターゲット１７ａ及び第二ターゲット１７ｂとの間に、少なくとも基板６の搬送方向に対向するシールド１９ａ，１９ｂを設ける。 （もっと読む）

【課題】複数のカソードを配置したスパッタリング装置において、部分的な回りこみ、絶縁体膜の形成等による異常放電を防止したスパッタリング装置を提供する。
【解決手段】互いに隣り合うＲＦカソード３とＤＣカソード４の搬送路部に、鉛直方向に遮蔽板７ａ７ｂが配置され、２枚の遮蔽板７ａ７ｂ間の距離を基板保持体５（保持体）の走行方向の巾よりも長く設置する。遮蔽板７ａ７ｂは、保持体の移動方向前後に回動可能であり、保持体の移動時には、保持体移動方向の直前にある遮蔽板７ａ７ｂが回動し、保持体の移動後、カソード上部に到達すると、遮蔽板７ａ７ｂは元位置に回動して、カソードでスパッタリングを行い基板上に薄膜を形成する。その後、保持体移動方向の直前にある遮蔽板が回動し、保持体が移動して、カソード上部あるいは保持体の待機領域に到達すると、遮蔽板は元位置に回動する機構とする。 （もっと読む）