【課題】ハースからの浮きを防いでハースライナーの冷却効果を保つことができる真空蒸着装置を得る。
【解決手段】ハース１４に設けられた窪み２４に、ハースライナー１２が装着される。ハースライナー１２の側面に凸部２６が設けられている。ハース１４の窪み２４の側面に、ハースライナー１２の凸部２６が入る凹部２８が設けられている。凹部２８は、窪み２４の開口から下方に延びた第１の凹部２８ａと、第１の凹部２８ａの下端から横方向に延びた第２の凹部２８ｂとを有する。ハースライナー１２の凸部２６がハース１４の第２の凹部２８ｂに入った状態で、ハースライナー１２の底面とハース１４の窪み２４の底面の間隔が所定の値より小さくなる。 （もっと読む）

【課題】気相潤滑方法用の装置を提供すること。
【解決手段】チャンバー、配列した開口部を有するディフューザープレート、ディフューザープレートの開口部とほぼ同じパターンの開口部を有するシャッタープレート、チャンバー内で被気相コーティング目的物を保持するホルダー、及びシャッタープレートを動かしてシャッタープレートの配列した開口部をディフューザープレートの配列した開口部に合わせるか、またはシャッタープレートでディフューザープレートの配列した開口部を少なくとも部分的に塞ぐアクチュエータを含む気相潤滑用装置。 （もっと読む）

【課題】成膜速度の調整を、容易・確実・安価に行うことの可能な成膜装置を提供する。
【解決手段】成膜装置１は、基板を設置する基板設置テーブルと、基板に蒸着するための物質を収納可能な空間をもつ蒸着源２と、前記物質を溶融・蒸発させるための熱を与える加熱手段と、前記空間を覆うように配置され、互いに異なる開口面積をもつ複数の第１領域Ｒ１及び第２領域Ｒ２をもつ蓋２Ｆと、これら第１及び第２領域（Ｒ１，Ｒ２）のうち、一方の領域を前記基板に対して開くとき、他方の領域を閉じるシャッタ３と、を備える。 （もっと読む）

【課題】
シート幅方向で蒸発した金属蒸気の量に差がある場合でも、蒸発源の幅を広げるなどの対策をとることなくシート幅方向の端部の膜厚および透過率が中央部と同等な金属酸化物薄膜付きシートを製造する方法および装置を提供する。
【解決手段】
減圧雰囲気下において、シート案内面に接触しながら搬送されているシート上に、金属材料を溶融させた蒸発源から前記シートに向けて金属蒸気を飛来させると同時に、前記金属蒸気内に酸素を導入し、前記シート上に連続的に金属酸化物薄膜を形成する金属酸化物薄膜付きシートの製造方法であって、前記酸素を、シート幅方向において異なる高さの複数箇所から前記金属蒸気に導入することを特徴とする金属酸化物薄膜付きシートの製造方法とする。 （もっと読む）

本発明に関わる蒸着システム（１００）は、真空チャンバ（１０２）と、蒸着材料を装填するルツボ（１０４）と、基板（１１４）を装着する基板ホルダ（１１２）と、基板上に堆積させる蒸着材料を加熱するための電子ビーム源（１１６）とを具備し、前記真空チャンバ内側に、前記基板ホルダとルツボと供に、前記電子ビーム源が配置され、前記電子ビーム源は電界放射電子ビーム源であり、さらに、前記蒸着材料を蒸着させる加熱を行う、前記電界放射電子ビーム源により放射された電子の飛翔方向を制御する制御ユニットを備える。 （もっと読む）

【課題】蒸着材料のシャッター部材への付着に起因する膜厚や膜質が変化するのを防止し得る真空蒸着装置を提供する。
【解決手段】蒸着により薄膜をガラス基板Ｋに形成し得る蒸着室１と、蒸着材料を蒸発させて蒸着材蒸気を得る複数の蒸発用セル４と、蒸着室内に配置されて蒸発用セルからの蒸着材蒸気を材料移送管６を介して導く分散用容器７と、この分散用容器に設けられて蒸着材蒸気を所定の放出位置に導く放出用ノズル11先端の放出口を開閉し得る穴部22を有するシャッター部材21とを具備し、シャッター部材を、放出用ノズルの放出口の上方位置で且つこの放出口を閉鎖し得る閉鎖位置と開放し得る開放位置との間で移動自在に設けるとともに、シャッター部材の穴部が放出口に対応する開放位置にあっては、当該シャッター部材が放出用ノズルの放出口よりも下方位置に移動し得るように構成したものである。 （もっと読む）

【課題】任意の基材の表面に、水に対する高い濡れ性を付与する方法を提供する。
【解決手段】本発明の基材表面の超親水化方法は、基材の表面を超親水化させる方法であって、斜め蒸着法によって、該基材の表面に該表面からの仰角が９０度未満で突出した斜め柱状構造体の集合層を形成させる。 （もっと読む）

【課題】耐候性、耐食性に優れたフレキシブル透明膜を簡易に形成することができる多層膜の形成方法及び多層膜を提供すること。
【解決手段】一つのスパッタリング用電極上に、異種成分からなる複数の素材を張り合わせて取り付け、前記複数の素材同士の境界の上方に分離板を設けておき、放電行いながら基板を前記ターゲット上を移動させて該基板上に多層膜を形成すること特徴とする多層膜の形成方法。 （もっと読む）

【課題】
本発明は平ベルトのように回転をスムーズに伝達するベルトにアモルファス材を選択し、新しい製法開発により、従来の平ベルトよりもトルク伝達能力が大きくできる減速駆動機構ベルトの素材となるアモルファス円筒の製造装置及びアモルファス円筒製法を提供する。
【解決手段】
真空チャンバー１内部のターゲット４に対して平行な軸１４を有する薄肉ドラム１０を備え、薄肉ドラム１０の外周にターゲット４をスパッタ成膜するアモルファス円筒製造装置１００であって、真空チャンバー１外部から内部の薄肉ドラム１０の軸心に送気および排気の配管３６，３７がされ、配管３６，３７に気体又は液体の冷却材を還流させて薄肉ドラム１０を冷却する。 （もっと読む）

【課題】 薄膜形成プロセスにおいてマスク４に多量の堆積物が付着するとマスク４により規制した成膜範囲が減少する、あるいは堆積物の一部がはく離し脱落して蒸発源２に落下することでスプラッシュを起こす。堆積物を除去する必要があるが、マスク４／堆積物間の密着性が強く振動のみではく離し難い場合のはく離方法が必要である。
【解決手段】 薄膜形成法において、薄膜の形成を行う工程と、マスク４の温度を成膜中よりも低温にする工程と、堆積物に酸素を供給する工程と、堆積物を除去する工程とにより、マスク４に堆積した堆積物をはく離・除去する。 （もっと読む）

【課題】繰返し膜を形成する場合であっても、膜質が高い膜を形成することができるとともに、フィルタに付着した異物を容易に除去できる真空蒸着装置および真空蒸着方法を提供する。
【解決手段】本発明の真空蒸着装置は、真空容器内で蒸着により基板の表面に膜を形成するものであって、真空容器内を排気する真空排気手段と、真空容器内の上部に設けられ、基板を保持する基板保持手段と、この基板保持手段に対向して真空容器内の下部に設けられ、膜の成膜材料を加熱し、蒸発させる蒸発源と、この蒸発源の上方に設けられたフィルタ板とを有する。フィルタ板は、平板に複数の開口部が形成されている。 （もっと読む）

【課題】膜厚分布が良く、膜質が優れた膜を基板に形成することができ、しかも成膜材料の無駄を抑制できる真空蒸着装置および真空蒸着方法を提供する。
【解決手段】本発明の真空蒸着方法は、真空容器内で複数の蒸発源を用いて蒸着により基板の表面に膜を形成するものである。蒸発源は上方に開口部を有し、内部に成膜材料が収納される加熱容器、この底部から所定の高さの位置の温度を測定する温度センサ、加熱容器を加熱する加熱部を備え、成膜材料を蒸発させるものである。基板に膜を形成するに際して、各蒸発源について、所定の温度に達した後からの温度センサにより測定された温度の平均値を求め、温度センサによる温度の測定値が、平均値に所定の温度差値を足した値以上になったとき、温度が達した蒸発源における成膜材料の蒸発を停止させる。 （もっと読む）

【課題】複数の基板に同時に蒸着するときに、複数の基板に均質な膜を成膜することができる真空蒸着方法及び蒸着装置を提供する。
【解決手段】この蒸着装置は、複数の基板３を保持する基板保持部材２と、基板３上に成膜される蒸着物質を保持する蒸着源４と、基板３面にガスイオンを放射するためのイオン銃５と、イオン銃５から照射されるガスイオンの放射方向Ｄ１を整流するための補正板６とを有している。そして、補正板６を調整することにより、基板保持部材２内のガスイオンの濃度分布を均一にすることができる。 （もっと読む）

【課題】同軸型真空アーク蒸着源を用いた真空処理装置における蒸着量のバッチ毎の再現性を改善し、その安定化を提供する。
【解決手段】同軸型真空アーク蒸着源５は、環状のトリガ電極１３と、カソード電極１２と、カソード電極１２に接続される一端部と、一端部と反対側の他端部とを有し、一端部と他端部の少なくとも一方が面取りされた円柱状の蒸着材料１１と、トリガ電極１３と蒸着材料１１の間、及びトリガ電極１３とカソード電極１２の間に配置された絶縁碍子１４と、トリガ電極の周囲に配置され、一端に開口を有する筒状のアノード電極２３とを具備する。これにより、蒸着材料１１が消耗しても、その端部周縁の曲面が維持された状態となるので、蒸発粒子の出射角が安定し、蒸着の再現性が改善する。 （もっと読む）

【課題】塩素ガスを使用することなく、金属微粒子を安全にかつ安価に生成する方法等を提供する。
【解決手段】スパッタ装置のチャンバー６内に銅ターゲット２を設置し、チャンバー６内の圧力を１３Ｐａ以上とした状態でチャンバー６内にプラズマ１００を生成して銅ターゲット２をスパッタすることにより、銅微粒子１０１ａ，１０１ｂを生成する。 （もっと読む）

【課題】真空蒸着装置において、正確な蒸着レートを安定的に計測して、この蒸着レートに基づいて高精度な蒸着膜を形成する。
【課題手段】真空蒸着装置は真空チャンバ１内に蒸着材料２を収容する蒸発源３と被蒸着体４とが、蒸発源３と被蒸着体４との間には蒸着材料２が気化される温度に加熱された筒状体５が配置される。また、真空蒸着装置は蒸着膜厚を計測する膜厚計測部６と、筒状体５と膜厚計測部６との間を接続する誘導路７とを備え、誘導路７は屈曲部７１を備えると共に蒸着材料２が気化される温度に加熱される。この構成によれば、蒸着材料２が誘導路７内に堆積せず、膜厚計測部６は筒状体５からの輻射熱を受け難くなり、突沸が生じても塊状の蒸着材料２が膜厚計測部６に付着しない。そのため、真空蒸着装置は正確な蒸着レートを安定的に計測でき、これに基づいて高精度な蒸着膜を形成することができる。 （もっと読む）

【課題】簡単な構成で、蒸着膜厚を長時間にわたって高精度に制御することができる仕組みを提供する。
【解決手段】本発明の有機ＥＬ素子の製造装置は、有機ＥＬ素子の素子基板に有機材料からなる蒸着材料を蒸着させるとともに、素子基板に蒸着される蒸着材料の膜厚を監視する膜厚監視部２３を備える。膜厚監視部２３は、光透過性を有する測定用板２６と、この膜厚監視部２３の一部に蒸着材料を付着させるための蒸着窓３０を有する防着板２７と、測定用板２６を回転移動可能に支持する駆動機構２８と、蒸着窓３０を通して測定用板２６に付着した蒸着膜厚を光学的に測定する反射率測定器２９とを有する。 （もっと読む）

【課題】 成膜工程における基板の加熱処理とプラズマ処理を、同じ位置において連続的に実施することができるプラズマ処理装置及びプラズマ処理方法を提供する。
【解決手段】 基板６とプラズマ電極用金属板３の間に配置された筒状のアースシールド４と、アースシールド４の基板側端部近傍に移動可能に設けられ、表面が黒色化処理された遮蔽板５（５ａ、５ｂ）とを備えている。プラズマ処理を行わない時には、遮蔽板５がアースシールド４の開口部を覆ってプラズマ電極用金属板３と基板６の間を遮蔽するので、プラズマ放電により加熱された遮蔽板５で基板６を加熱処理することができる。また、プラズマ処理時には、遮蔽板５ａ、５ｂが移動してアースシールド４の開口部を開くため、加熱処理後でも基板を移動させることなくプラズマ電極用金属板３と対向した基板６上にプラズマ処理をすることができる。 （もっと読む）

【課題】内部部品に付着した膜成分を短時間で且つ安価に除去することができる部品再生方法および部品再生システムを提供すること。
【解決手段】真空成膜装置１に出入れ自在に設けられた内部部品に対し、ターゲットへの成膜動作に伴って付着した膜成分を除去する部品再生方法であって、内部部品に洗浄液を噴射し、膜成分を洗い流す洗浄工程と、洗浄工程の後、内部部品に残った膜成分をドライエッチングにより除去するエッチング除去工程と、を備えた。 （もっと読む）

【課題】ＺｎＯ膜の可視域の透過率を低下させることなく、ＺｎＯ膜の抵抗率を低下させるようにする新たな処理（形成方法）を提供する。
【解決手段】基板１０１の上にＺｎＯ膜１０２が形成された後、ターゲットに対するターゲットバイアスの印加を停止した状態で、ＥＣＲプラズマを生成させた状態とし、この状態でシャッターを開け、ＺｎＯ膜１０２にＡｒプラズマ１０３が照射された状態とする。Ａｒプラズマ１０３の照射を所定時間継続し、この後、シャッターを閉じ、プラズマ生成室に対するマイクロ波と磁場との供給を停止してプラズマ生成を停止し、また、ターゲットバイアス印加を停止するなどにより、ＥＣＲスパッタ装置の動作を停止する。 （もっと読む）