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Fターム[4K029DB12]の内容

物理蒸着 (93,067) | 蒸着装置 (6,894) | るつぼ、蒸発材容器 (1,378) | 形状、構造 (517)

Fターム[4K029DB12]に分類される特許

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【課題】薄膜材料蒸気を互いに異なる複数の場所から均一に放出させ、均一な膜厚で薄膜を成膜できる薄膜形成装置を提供する。
【解決手段】
真空槽11内に配置された放出装置20は、一個又は二個以上の放出ユニット20aを有し、各放出ユニット20aは、中空で長手方向を有する放出容器21aを有し、放出容器21a内には放出容器21aの長手方向に沿って二本以上の導入管31a1〜31a3が、放出口25aから異なる距離で位置するように配置され、異なる導入管31a1〜31a3に設けられた導入口35a1〜35a3は、長手方向上の異なる場所に位置するように形成されている。各導入管31a1〜31a3への蒸気供給速度を制御することで各放出口25aからの蒸気放出量を均一にできる。 (もっと読む)


【課題】材料利用効率が高く、膜厚分布を均一にでき、かつ、装置が大型化することを抑制できる真空蒸着装置を提供する。
【解決手段】長手方向を有する蒸発源1及び前記蒸発源1を前記蒸発源1の長手方向と垂直なスキャン方向に駆動させる機構を有する真空蒸着装置において、前記蒸発源1の長手方向に複数の異なる形状を有するノズル2を備え、前記ノズル2から噴射する蒸気の放射分布が、長手方向の中央部に対して両端部では狭まった放射分布を有する。これによって、長手方向の両端部付近のノズル2から噴射して基板3の有効面の外側に蒸着される無駄な有機材料の消費量を抑え、膜厚均一性の高い有機薄膜を高い材料利用効率で成膜することができる。 (もっと読む)


本発明は、2つの区画を備えた容器を有する気相蒸着供給源について記載する。第1の区画は、蒸気を生成するためのものである。この区画は、材料のための入れ物およびその入れ物の中に置かれる材料を加熱するための手段を備えている。第2は、拡散区画であり、この拡散区画は、生成区画と連通する容器を有し、かつ少なくとも1つのオリフィスを備え、その結果、気相状態の材料がこのオリフィスを通って容器の外側に向かって送られる。この供給源の特徴は、一方では、空間が熱輸送液体で満たされる中間空間を画定している内壁および外囲器を有し、他方では、空間がこの液体を加熱するための手段で埋められていることである
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【課題】有機材料の熱的劣化を軽減し、長時間にわたって安定した品質の薄膜形成が可能な真空蒸発源を提供する。
【解決手段】有機材料13を収容すると共に有機材料13を蒸発させる蒸発室14を有し、蒸発させた有機材料13を噴出する真空蒸発源11において、蒸発室14の加熱領域を深さ方向に複数に分割し、分割した加熱領域毎にヒータ21〜23を各々配置し、有機材料13の表面がある加熱領域を、当該加熱領域のヒータにより有機材料13の気化温度で加熱し、有機材料13の表面がある加熱領域より上の加熱領域を、当該加熱領域のヒータにより有機材料13の再付着温度より高い温度で加熱し、有機材料13の表面がある加熱領域より下の加熱領域を、当該加熱領域のヒータにより気化温度より低い温度で加熱する。 (もっと読む)


【課題】大型基板に対応可能な蒸着マスク、蒸着装置、蒸着方法を提供する。
【解決手段】
蒸着マスク10上で開口部11をその中心間距離が基板50のピクセル51a1、51a2の中心間距離の2倍になるように形成する。この蒸着マスク10を基板50上に配置し、各ピクセル51a1、51a2、51axの上方に開口部11と遮蔽部19が交互に配置されるように位置合わせした状態で、開口部11と対面するピクセル51a1を成膜し、次いで蒸着マスク10をピクセル51a1、51a2の中心間距離だけ移動させ、移動前に遮蔽部19と対面していた未成膜のピクセル51a2、51axの上方に開口部11を位置させ、その状態で未成膜のピクセル51a2、51axに薄膜を成膜する。開口部11の間隔が従来より広いため、開口部11形成の際に蒸着マスク10が破損する虞を従来より低減でき、大型の蒸着マスク10の製作が容易になる。 (もっと読む)


本発明は、2つの区画を備えた容器を有する気相蒸着供給源について記載する。第1の区画は、蒸気を生成するためのものである。この区画は、材料のための入れ物およびその入れ物の中に置かれる材料を加熱するための手段を備えている。第2は、生成区画と連通している拡散区画である。この拡散区画は、少なくとも1つのオリフィスを備え、その結果、気相状態の材料がこのオリフィスを通って容器の外側に向かって送られる。この供給源の特徴は、オリフィスを閉じるための手段、およびその閉じるための手段を、有効閉位置とオリフィス開位置との間で動かす手段を含んでいることである。
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【課題】ヒーターや保温構造のような新たな構成を追加することなくノズルの温度低下を抑制することができる真空蒸発装置を提供する。
【解決手段】真空容器11内に、蒸発させる材料12を加熱するための容器である坩堝2と、坩堝2の蓋2aに取り付けられる蒸発した気化材料13を坩堝2外へ放出するためのノズル3とにより構成される蒸発源1と、材料12を蒸着させる蒸着対象物である基板10とを備える真空蒸発装置において、ノズル3を、坩堝2内に突き出した部分2aと、坩堝2外に突き出した部分2bとにより構成した。 (もっと読む)


【課題】静電容量バラツキの少ない大容量電極箔を形成する事を目的とする。
【解決手段】この目的を達成するため本発明は、表面に凹溝17が形成された基体18からなる蒸着用ボート13であって、凹溝17は、少なくとも蒸着材料が供給される供給用凹溝19と、この供給用凹溝19と連通し、蒸着材料を蒸発させる蒸発用凹溝20とで構成され、供給用凹溝19は蒸発用凹溝20よりも幅が狭く、表面に供給用凹溝19が形成された領域の基体18の抵抗値に対する、表面に蒸発用凹溝20が形成された領域の基体18の抵抗値の比は、蒸着材料の沸点を蒸着材料の融点で除した値以上であるものとした。これにより本発明は、供給用凹溝19近傍の温度を下げ、供給用凹溝19近傍における蒸着材料の溶融や酸化を抑制し、蒸発量を安定化し、均一に粗膜層7を形成できる。 (もっと読む)


【課題】面型蒸着源及びその蒸着メッキ法とシステムの提供。
【解決手段】本発明の面型蒸着源及びその蒸着法とシステムは、少なくとも一つの蒸着材料を蒸着源基板の内の一面に被覆して面型蒸着源とする。前記蒸着材料の分布エリアは、蒸着材料の気化後に蒸着対象基材を包含するエリアとなる。加熱装置を蒸着源基板を加熱可能なエリア内に配置し、加熱装置が面型蒸着源に対して熱源を提供することにより、面型蒸着源は固体から気体へと変換し、蒸着対象基材の表面に拡散する。蒸気を原子或いは分子状態で段階的制御を行う手段に基づき、蒸着対象基材の表面にて核生成、凝結、及び核生成、成長させるメカニズムにより薄膜を形成するため、伝統的な塗布及びインクジェット技術では得られなかった均等性、ナノサイズのコントロール特性等を備える特殊構造及び機能性を有する薄膜を獲得できる。 (もっと読む)


【課題】単一の蒸発源で、しかも蒸発源と基板との相対運動を必要とすることなく、大面積で均一な膜形成を実現することのできる蒸発源を提供する。
【解決手段】蒸発源3は、セラミック製のルツボ4、ルツボを加熱するヒーター5等を有する。ルツボ内の蒸着材料8を気化させて蒸着材料の蒸気を発生させ、ルツボの蒸発口に配置された多孔体9の空孔から放出し、平板状の基板上に堆積させて薄膜を形成する。多孔体は、多孔性の板材9aの一部を切り取り、円錐状に曲げたもので、ルツボの蒸発口における空孔の面内位置に応じた蒸気放出方向の分布をもつことで、薄膜の膜厚を均一化する。 (もっと読む)


【課題】有機材料が変成しない有機薄膜形成装置の加熱容器を提供する。
【解決手段】内部に有機材料が収容される空間部が形成されて密閉された上部に少なくとも一つ以上の吐出孔が形成される本体と、上記本体の外周面に設けられるヒータを含む有機薄膜形成装置の加熱容器において、吐出孔の大きさが本体の容積、蒸着レートによって設定される。例えば本体の容積が20cc以上200cc以下の場合には、吐出孔は直径5mm以上25mm以下とする。 (もっと読む)


【課題】大型基板の量産工程に容易に適用でき、歩留まりが向上した薄膜蒸着装置、これを利用した有機発光ディスプレイ装置の製造方法及びこれにより製造された有機発光ディスプレイ装置を提供する。
【解決手段】蒸着物質を放射する蒸着源と、蒸着源の一側に配され、第1方向に沿って複数の蒸着源ノズルが形成される蒸着源ノズル部と、蒸着源ノズル部と対向するように配され、第1方向に沿って複数のパターニングスリットが形成され、複数のパターニングスリットの長さが互いに異なって形成されるパターニングスリットシートと、蒸着源ノズル部とパターニングスリットシートとの間に第1方向に沿って配されて、蒸着源ノズル部とパターニングスリットシートとの間の空間を複数の蒸着空間で区切る複数の遮断板を備える遮断板アセンブリーと、を備え、薄膜蒸着装置は、基板と所定距離ほど離隔して形成され、薄膜蒸着装置と前記基板とは、いずれか一側が他側に対して相対的に移動自在に形成されることを特徴とする薄膜蒸着装置。 (もっと読む)


【課題】大型基板の量産工程に容易に適用され、製造収率が向上した薄膜蒸着装置を提供する。
【解決手段】基板上に薄膜を形成するための薄膜蒸着装置において、蒸着物質を放射する蒸着源と、蒸着源の一側に配され、第1方向に沿って複数個の蒸着源ノズルが形成される蒸着源ノズル部と、蒸着源ノズル部と対向するように配され、第1方向に対して垂直である第2方向に沿って複数個のパターニング・スリットが形成されるパターニング・スリットシートと、を含み、基板が薄膜蒸着装置に対して、第1方向に沿って移動しつつ蒸着が行われ、蒸着源、蒸着源ノズル部及びパターニング・スリットシートは、一体に形成されることを特徴とする薄膜蒸着装置である。 (もっと読む)


【課題】蒸着圧力と膜均一度を向上させた蒸着装置を提供する。
【解決手段】モノマー流入口20と蒸気流出口40とを有する気化チャンバ15を備える蒸着装置10である。蒸気流出口には、蒸気ノズル45が備えられている。蒸着装置は、気化チャンバと蒸気ノズルとの間に位置したカラー50を備え、カラーは、ノズルを通じたコンダクタンスがほとんど変わらない間に気化チャンバの圧力を増大させる。 (もっと読む)


【課題】所定パターンに形成された複数のスリットを含むマスク組立体を用いて蒸発源から放射される蒸発物質を選択的に基板に蒸着する蒸着装置において、上記蒸発源のノズル構造を変更してシャドー効果を最小化する蒸発源及びそれを用いた蒸着装置を提供する。
【解決手段】本発明の蒸発源は、一側が開口され、蒸発物質が保存されるるつぼと、上記るつぼの開口側に位置し、内壁の一部領域が傾斜された1つまたは複数のノズルを含むノズル部と、加熱部と、るつぼ、ノズル部及び加熱部を収納するためのハウジングとを含み、ノズル部の最大放射角は60゜未満であることを特徴とする。また、本発明の蒸着装置は、工程チャンバと、内壁の一部領域が傾斜された1つまたは複数のノズルを含む蒸発源と、基板ホルダと、側面が表面を基準に第1傾斜角度をなす複数のパターンが形成されたマスクとを含み、蒸発源の最大放射角は上記第1傾斜角度以下であることを特徴とする。 (もっと読む)


本発明は、原料物質を収容する気化ルツボと、前記気化ルツボを加熱して前記原料物質を気化させる気化加熱部と、前記気化ルツボの温度を測定する温度測定部と、前記気化加熱部の印加電源を測定する電源測定部及び前記温度測定部の温度変化値及び前記電源測定部の電源変化値のうちのいずれか一方に基づいて、原料物質の気化量を調節する制御部を備える気化装置及びこの制御方法を提供する。このように、本発明は、原料物質の気化時に温度変化値または電源変化値に基づいて気化量を測定する非接触/電子方式を用いる。従って、接触方式とは異なり、気化量測定手段が原料ガスに直接的に接触しないことから、種々の原料が供給可能であり、しかも、大容量の原料を長時間に亘って供給しても性能が低下することがない。なお、電子方式により気化量を極めて精度よく測定することができるので、より精度よい原料の供給が可能となる。 (もっと読む)


【課題】異物が流出することによる不都合を防止した蒸着坩堝と、これを備えた蒸着装置を提供する。
【解決手段】蒸着材料3を収容する坩堝本体8と、坩堝本体8の開口部8aに着脱可能に被着された、蓋板部12と筒部13とを有する蓋9と、を備えた蒸着坩堝4である。蓋9には、蓋板部12に蒸着材料3の昇華物又は気化物を通過させる流出口12aが設けられている。坩堝本体8の開口部8aと流出口12aとの間には、蒸着材料3の昇華物又は気化物の流路の一部を遮断する邪魔板14が設けられている。 (もっと読む)


【課題】複数の隔壁を用いて、るつぼの内部空間を分離する線形蒸発源において、るつぼの分離された空間に残存する蒸発物質量の偏差を最小化し、成膜の不均一が防止できる線形蒸発源及びそれを用いた蒸着装置を提供する。
【解決手段】一側が開口され、蒸発物質を保存するるつぼ320と、るつぼの内部空間を分割し、下部に1つまたは複数の貫通ホール325bが形成される複数の隔壁325と、るつぼの開口側に位置し、複数のノズル335を含むノズル部と、るつぼを加熱するための加熱手段340と、るつぼ、ノズル部、及び加熱手段を収納するためのハウジング310とを含む線形蒸発源300。また、工程チャンバ200と、該工程チャンバの一側に位置する線形蒸発源300と、線形蒸発源に対向するように位置する基板ホルダ500とを含む蒸着装置100。 (もっと読む)


【課題】大面積基板に均一な膜厚の薄膜を形成する技術を提供する。
【解決手段】真空槽8内に配置された細長の放出装置30の両端位置の第一、第二の接続口38a、38bに、第一、第二の蒸気生成装置20a、20bを接続し、第一、第二の蒸気生成装置20a、20bから、放出装置30の両端位置に成膜材料の蒸気を供給する。放出装置30の一端から他端に亘って、真空槽8内に蒸気が均一に放出される。第一、第二の蒸気生成装置20a、20bから放出装置30に供給される蒸気の供給速度を個別に制御することで、膜厚が均一な薄膜を基板6の成膜面上に成膜することができる。 (もっと読む)


【課題】蒸着材料の補充や交換の作業を容易にし、さらに坩堝のメンテナンスについてもこれを容易にした、蒸着装置を提供する。
【解決手段】被処理体に蒸着材料を蒸着させる蒸着装置である。蒸着室内に配置されて蒸着材料3を収容する収容容器4と、収容容器4内の蒸着材料3を加熱する加熱手段3と、を含む。収容容器4は、外容器8と、外容器8内に着脱可能に収容されて蒸着材料3を収容する内容器9と、を有している。 (もっと読む)


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