【課題】蒸着材料を溶媒に溶かしてなる液体材料から溶媒を確実に除去して蒸着を行うことで、この溶媒による基板の汚染を防止し、高品質の蒸着膜を得ることができる真空蒸着装置を提供する。
【解決手段】有機液体材料Ｌを、蒸発装置２で有機溶媒を除去した上で蒸発させて蒸発材料とし、これを真空容器４内の基板Ｋに導き蒸着させる真空蒸着装置１であって、蒸発装置２が、有機液体材料Ｌが充填されて蒸発溶媒の排出口２２が形成された蒸発容器２０と、有機溶媒のみが蒸発して蒸着材料が蒸発しない温度に設定し得る蒸発用ヒータ１８と、排出口２２に第２開閉弁１２を介して接続された蒸発室用真空ポンプ１５と、流量調整弁１６とを有し、蒸発装置２が、流量調整弁１６を閉にすると共に、蒸発容器２０内の有機溶媒のみを蒸発用ヒータ１８で蒸発させた後、第２開閉弁１２を開にして上記ポンプ１５で蒸発容器２０内の蒸発溶媒を吸引し、有機溶媒を除去し得るもの。 （もっと読む）

【課題】薄膜を蒸着するための装置の稼動停止周期を延ばし、装置の使用効率を高めることができる大容量薄膜形成用蒸着装置を提供する。
【解決手段】複数の原料容器１１０およびセンサー１５０を設け、原料容器１１０に収容される原料物質１の量を分散することによって、単一の大容量の原料容器を用いる場合に比べて原料物質１の加熱に必要な熱量を減少させ、第２のヒーター１９０で噴射口１３０の周囲の温度を上昇させることによって、噴射口１３０の周囲では常に原料物質が気化された状態を維持する。 （もっと読む）

【課題】筒状体の内周面に均一な膜厚で、かつ均一なドープ濃度で共蒸着膜を形成可能な成膜装置および成膜方法。
【解決手段】成膜装置３０は、筒状体１の内周面に共蒸着膜を形成するための成膜装置であって、筒状体１を保持するための筒状体ホルダ２と、第１の蒸着材料１１を充填するための内部空間を有する第１の蒸着容器１２と、第２の蒸着材料１２を充填するための内部空間を有する第２の蒸着容器２２とを備えている。筒状体ホルダ２と第１および第２の蒸着容器１２、２２とは、筒状体１の延在する方向に互いに相対的に移動可能であり、筒状体１の延在する方向に延びる仮想の軸線Ａ−Ａを中心として互いに相対的に回転可能である。 （もっと読む）

【課題】本発明は薄膜形成用蒸着装置に関する。
【解決手段】本発明は、基板上に蒸着される原料物質が固体又は液体状態で収容される原料容器と、前記原料容器の上方に前記原料容器と連通されるように結合され、前記原料容器から気化した原料物質が通過する気化チャンバーと、前記気化チャンバーの上部に形成され、前記気化チャンバーを通過した気化した原料物質を上側に噴射する噴射口と、前記気化チャンバーの内部又は前記原料容器の内部で前記原料物質の上方に設けられ、前記原料容器に収容された原料物質を気化させるために前記原料物質に熱を供給する第１のヒーターと、前記気化チャンバーの内部で前記第１のヒーターの上方に配置され、前記第１のヒーターにより前記原料物質に熱が供給される間、前記原料容器に収容された原料物質又は不純物が飛散して前記噴射口に付着するのを遮断する遮断板と、を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】Ａｌの這い上がり、あるいはＡｌ蒸気浸入を防止して破損の起こりにくい蒸発源を有する蒸着装置を低コストで提供することである。
【解決手段】真空チャンバ内に蒸着源ユニット２６を有する蒸着装置であって、前記蒸着源ユニット２６は、蒸発材５を収容する坩堝１と、前記坩堝１の開口部に取り付けられたノズル２と、前記坩堝１を囲み、ヒータ３を収容するヒータ室１０と、固定具７を有し、前記坩堝１の内壁と前記ヒータ室１０との間には、前記坩堝１において溶融した前記蒸発材５または前記蒸発材５の蒸気が前記ヒータ室１０に侵入することを阻止する切欠き１２を有することを特徴とする蒸着源ユニットを有する蒸着装置である。 （もっと読む）

【課題】大型基板上に膜厚が均一で不純物の少ない薄膜を高速に成膜させ、長時間連続運転可能な真空蒸着装置及び成膜装置を提供する。
【解決手段】蒸発源は蒸着材料１７を収容し、蒸気１６を外部に放出するノズル１６を有する坩堝１４と、坩堝１４を加熱するヒーター１３で構成されている。蒸気１５が放出されるノズル１４の先端に金属で形成されたリング状の信号検出センサー１１を配置する。蒸着材料１７が過熱されて分解されたときに発生する荷電粒子が信号検出センサー１１に衝突すると微弱電流が流れる。この微弱電流を蒸着室の外部に設置された第１の制御装置１８によって検出し、第１の制御装置１８からの信号を用いる第２の制御装置１２によって蒸発源のヒーター１３に加える電力を制御することによって蒸着膜厚を制御する。 （もっと読む）

【課題】誘電体フィルム上の金属蒸着電極中の各金属成分の比率を制御し、優れた特性を有する金属化フィルムを提供する。
【解決手段】真空蒸着装置は、上部が開口した蒸着室８と、蒸着室内に設けられ、金属材料を加熱して金属蒸気を発生させる複数の蒸発源１６と、蒸着室内において、複数の蒸発源どうしを仕切る隔壁１８を備え、隔壁は、水平方向に可動な板状の基部２４と、基部の上部に設けられ、鉛直方向に可動な仕切り板２５を有する構成とした。この構成により、各金属蒸気が放出される開口部の面積を自由に変更できるようになり、さらに夫々の蒸発源からの金属蒸気どうしが重なり合う量を制御することができる。この結果、金属蒸気の蒸着量やその状態の制御が可能となり、金属蒸着電極中の各金属成分の比率や分布状態を制御できる。そして、優れた特性を有する金属化フィルムを作製できる。 （もっと読む）

【課題】複数の蒸発源ユニットを用いた真空蒸着装置において、蒸発源ユニットの個数を増加させることなく蒸着膜厚の均一性を向上し、かつ、高速に成膜する真空蒸着装置を提供すること。
【解決手段】長手方向（Ｘ方向）を有する蒸発源を、前記Ｘ方向および基板面に沿って垂直な方向（Ｚ方向）に基板と蒸発源を相対的に移動させる機構を有する真空蒸着装置において、
前記蒸発源には蒸着材料が封入された複数の蒸発源ユニット３がＸ方向に所定の間隔をもって配置され、Ｚ方向へ複数回の走査を繰り返す際、往路と復路で前記蒸発源ユニット３をＸ方向に所定のピッチで移動させて成膜する。Ｚ方向への往路と復路の間のＸ方向への小さな移動により、蒸発源ユニット３の個数を増加することなく、膜厚均一性を向上することができる。 （もっと読む）

【課題】大型基板上に膜厚が均一で有機EL上部電極用のアルミ金属薄膜を高速に成膜させ、長時間連続運転可能な真空蒸着装置及び成膜装置を提供する。
【解決手段】セラミック製の坩堝を用いてアルミの這い上がりを防止し、同一方向に所定の角度で傾いた蒸発源３−１を少なくとも２つ以上、縦方向に並べた蒸発源列３−２を横方向に操作して蒸着する機構を用いることにより、大型化した縦置き基板１−１に対して、有機EL上部電極用金属薄膜を高速成膜し、長時間の連続成膜をすることを可能にする。 （もっと読む）

【課題】蒸発源のノズル付近に蒸着物が堆積し、蒸着精度が低下することを防止することが出来る真空蒸着装置を実現する。
【解決手段】蒸発源3から蒸着物質を蒸発させ、メタルマスク4を介して有機ＥＬ表示装置用基板1の上に有機薄膜2を蒸着する。蒸発源3には、ノズルが線状に配置され、線状のノズルから蒸気15が噴射される。蒸発源を上下させることによって、基板1全面に蒸着を行うことが出来る。蒸着室内において、蒸気が当たらない箇所に赤外線ランプユニット11を配置し、赤外線を蒸発源のノズル付近に照射して、ノズル付近に堆積した蒸着物質を除去する。これによってノズルの径が小さくなったり、目づまりが生じたりすることを防止する。 （もっと読む）

【課題】高い生産性で多段蒸着フィルムを製造する方法を提供する。さらに、多段蒸着フィルムの厚みの増加を小さい範囲に抑えつつ、水蒸気バリア性を大幅に高める技術を提供する。
【解決手段】アノード電極を有するプラズマガンを備えた真空成膜装置を用いて、該真空成膜装置内の蒸着材料収納容器に保持された蒸着材料を蒸発させ、基材の被成膜面に薄膜を形成する第一薄膜形成工程と、第一薄膜形成工程と同様にして、上記薄膜上にさらに薄膜を形成する第二薄膜形成工程と、を備える多段蒸着フィルムの製造方法を採用し、薄膜の形成を、蒸着材料収納容器を上記蒸着材料が蒸発する温度以上に加熱するとともに、蒸着材料収納容器に正電位を印加してプラズマガンから放出される電子を蒸着材料に照射しながら行なう。 （もっと読む）

【課題】成膜材料であるＤｙ、Ｔｂを有効に利用しつつ、所定形状鉄−ホウ素−希土類系の磁石の表面に高速で成膜させて生産性が向上し、低コストで永久磁石を製造できる成膜装置を提供する。
【解決手段】真空排気可能な処理室２と、前記処理室内を加熱する加熱手段２３と、前記処理室内でバルク体たる金属蒸発材料と被処理物とをそれぞれ保持する保持手段６とを備え、前記処理室の減圧下で前記加熱手段を作動させ、少なくとも金属蒸発材料が蒸発する温度まで処理室を加熱して処理室内に金属蒸気雰囲気を形成し、前記金属蒸気雰囲気中の金属原子が、加熱されている被処理物表面に付着するように構成した。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、材料の損出の少なくできる、あるいは安定した蒸着の妨げとなる内圧の変化を防ぐ蒸発源を提供することである。また、前記蒸発源に適した有機ＥＬデバイス製造装置及び有機ＥＬデバイス製造方法を提供することである。
【解決手段】
本発明は、内部に蒸着材料を内在する坩堝と、前記蒸着材料を加熱し蒸発・昇華させる加熱手段と、前記蒸発・昇華した前記蒸着材料を噴射する蒸着物噴射口をライン状に複数並ぶ蒸着物噴射口部を有する蒸発源において、前記蒸着物噴射口部を複数設け、各前記蒸着物噴射口部毎に開閉する開閉手段を有することを第1の特徴とする。また、本発明は、複数ある前記蒸着物噴射口部のうち少なくとも一つの前記蒸着物噴射口部を開き、そのときに他の前記蒸着物噴射口部の全ての前記蒸着物噴射口部を閉じるように前記開閉手段を制御する制御手段を有することを第２の特徴とする。 （もっと読む）

【課題】蒸発源の冷却時間を短縮する。
【解決手段】蒸着工程では、蒸着材料を収納する坩堝、坩堝を加熱する加熱部、坩堝内で気体化した前記蒸着材料を前記被処理物に向かって放出するノズル、および坩堝の周囲に配置されるリフレクタ１５を備える蒸発源から、蒸着材料ガスを発生させ、被処理物に蒸着膜を形成する。また、冷却工程では、リフレクタ１５に固定された冷却体１６に冷媒を流して坩堝を冷却する。ここで、冷却工程には、冷却体１６に冷媒ガスを流す冷媒ガス供給工程と、冷媒ガス供給工程の後、冷却体１６に冷媒ガスよりも熱容量が大きい冷媒液を流す冷媒液供給工程と、が含まれる。 （もっと読む）

【課題】基板を離間状態で相対移動させることで小形の蒸着マスクでも広範囲に成膜パターンの蒸着膜を蒸着でき、また、成膜パターンの重なりを防止すると共に、蒸発源からの輻射熱の入射を抑制し、基板と蒸着マスクとを離間状態で相対移動させる構成でありながら、高精度で高レートな蒸着が行える蒸着装置並びに蒸着方法を提供する。
【解決手段】蒸発源と基板との間に、制限用開口部を設けた飛散制限部を有するマスクホルダーを配設し、このマスクホルダーに蒸着マスク２を付設し、前記基板を、蒸着マスク２を付設したマスクホルダー及び前記蒸発源に対して、蒸着マスク２との離間状態を保持したまま相対移動自在に構成し、蒸着マスク２のマスク開口部３は、前記基板の相対移動方向に長くこれと直交する横方向に幅狭いスリット状とし、この横方向に複数並設した蒸着装置。 （もっと読む）

【課題】従来の成膜装置において、マスクに対するクリーニングは、長時間にわたり行われていた。
【解決手段】成膜室を有し、成膜室は、プラズマを発生させる手段を有し、プラズマを発生させる手段は、成膜室に配置されるマスクを電極として有することができ、マスクに高周波電界を印加して、成膜室に導入されたガスを励起してプラズマを発生することができる。Ａｒ、Ｈ、Ｆ、ＮＦ_３、またはＯから選ばれた一種または複数種を有するガスを用いてプラズマを発生させる。 （もっと読む）

【課題】基板の大型化に伴って蒸着マスクを同等に大型化せず基板より小形の蒸着マスクでも、基板を離間状態で相対移動させることで広範囲に蒸着マスクによる成膜パターンの蒸着膜を蒸着でき、また成膜パターンの重なりを防止すると共に、蒸発源からの輻射熱の入射を抑制し、高精度で高レートな蒸着が行える蒸着装置並びに蒸着方法を提供すること。
【解決手段】蒸発源１と基板４との間に、制限用開口部５を設けた飛散制限部を有するマスクホルダー６を配設し、このマスクホルダー６に前記蒸着マスク２を付設し、前記基板４を、前記蒸着マスク２を付設した前記マスクホルダー６及び前記蒸発源１に対して、前記蒸着マスク２との離間状態を保持したまま相対移動自在に構成し、前記蒸発源１は、線膨張係数がステンレス鋼より小さい材料で形成した蒸着装置。 （もっと読む）

【課題】一定の組成及び膜厚を有する蒸着重合膜が膜状基材上に積層形成された積層構造体を安定的に製造することができる装置を提供する。
【解決手段】真空チャンバ２４内に設置された回転ドラム３５の外周面上に膜状基材１５を供給する膜状基材供給手段４６を設ける一方、真空チャンバ２４内で回転ドラム３５の外周面に向かって開口する吹出口６６を有すると共に、成膜室を内部に備えた複数の吹出口部材６４を、真空チャンバ２４内の回転ドラム３５の周囲に、その周方向に並べて配置し、更に、それら複数の吹出口部材６４の成膜室内に、複数種類のモノマー蒸気を供給して、それら複数種類のモノマー蒸気を各吹出口部材６４の吹出口６６から吹き出させるモノマー蒸気供給手段８４ａ，８４ｂを少なくとも一つ設けて、構成した。 （もっと読む）

【課題】基板の大型化に伴って蒸着マスクを同等に大型化せず基板より小形の蒸着マスクでも、基板を離間状態で相対移動させることで広範囲に蒸着マスクによる成膜パターンの蒸着膜を蒸着でき、また成膜パターンの重なりを防止すると共に、蒸発源からの輻射熱の入射を抑制し、高精度で高レートな蒸着が行える蒸着装置並びに蒸着方法を提供すること。
【解決手段】蒸発源１と基板４との間に、制限用開口部５を設けた飛散制限部を有するマスクホルダー６を配設し、このマスクホルダー６に前記蒸着マスク２を接合させて付設し、前記基板４を、前記蒸着マスク２を付設した前記マスクホルダー６及び前記蒸発源１に対して、前記蒸着マスク２との離間状態を保持したまま相対移動自在に構成し、前記蒸発源１の蒸発口部８は、前記基板４の相対移動方向に長くこれと直交する横方向に幅狭いスリット状としたことを特徴とする蒸着装置。 （もっと読む）

【課題】薄膜材料の利用効率が高く、かつ大面積の基板に均一な厚みの薄膜を成膜できる真空蒸着装置及び薄膜の形成方法を提供する。
【解決手段】
薄膜材料の蒸気を生成する蒸発源３１〜３６と、成膜対象物５１が配置される真空槽１１と、真空槽１１内を真空排気する真空排気装置１２と、蒸発源３１〜３６から蒸気が供給され、真空槽１１内に蒸気を放出させる放出装置２１とを有し、放出装置２１を移動させながら成膜対象物５１に蒸気を到達させ、成膜対象物５１の表面に薄膜を形成する真空蒸着装置１０ａであって、蒸発源３１〜３６を放出装置２１と一緒に移動させる移動装置１５を有する真空蒸着装置１０ａである。 （もっと読む）