【課題】被処理体に蒸着する成膜材料の蒸気を均熱化することができる蒸着装置を提供する。
【解決手段】減圧された処理室３０内において、被処理体に成膜材料を蒸着して成膜処理する蒸着装置であって、成膜材料の蒸気を噴出させる蒸気噴出口８０が処理室３０に配置された蒸着ヘッド６５を備える。蒸着ヘッド６５には、処理室３０内に対して封止されたヒータ収納部１０２が形成され、ヒータ収納部１０２には、アルゴンガス、窒素ガスの少なくともいずれかが存在する。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ装置の製造に適した真空蒸着装置であり、一台の蒸着装置で複数層の膜を成膜することが可能な蒸着装置を提供する。
【解決手段】真空蒸着装置（蒸着装置）１は真空室２を有し、真空室２内に、基板保持壁３と、４台の蒸発装置５ａ，５ｂ，５ｃ，５ｄと蒸気チャンバー６及び４個の坩堝設置室（蒸発装置設置部）１２ａ，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄを内蔵している。坩堝設置室１２の外周面には、設置室側電気ヒータ（発生部保温手段）１８が取り付けられている。坩堝設置室１２には設置室側温度センサー２８が設けられている。それぞれの坩堝設置室１２ａ，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄを各層の薄膜材料に適した温度に保温する。蒸気通過部１３は、発生部保温手段の目標温度の中で最も高い最高目標温度以上の温度を目標温度として保温する。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ素子を作製する際、大型の成膜対象物の表面に分布が均一な有機層の成膜を行うことができる技術を提供する。
【解決手段】面蒸気放出器１０に、蒸発材料であるホスト材料及びドーパント材料の蒸気が順次拡散される水平方向拡散部１０Ｈ及び鉛直方向拡散部１０Ｖを有する。水平方向拡散部１０Ｈは、蒸発材料の蒸気の導入側から放出側に向って段階的に区分けされ第１〜第４連通口１２〜４２を介して接続された第１〜第４の拡散室１１〜４１を有する。鉛直方向拡散部１０Ｖは、有機材料の蒸気の導入側から放出側に向って段階的に区分けされ第２及び第３連通口１２２、１３２を介して接続された第１〜第３の拡散室１１１〜１３１を有する。最終段の第３の拡散室１３１は、複数の第４連通口１４２を介してそれぞれ蒸気混合室１４１に接続されている。 （もっと読む）

【課題】薄膜材料を連続的に供給でき、長時間連続成膜が行える蒸着装置を提供する。
【解決手段】
ガラス基板８を設置可能な真空室２と、薄膜材料１９を蒸発させる発熱部２０を備えた蒸発装置３とを有し、真空室２内にガラス基板８を設置し、蒸発装置３によって蒸発された薄膜材料１９を蒸散させて前記ガラス基板８に所定成分の膜を蒸着する真空蒸着装置１において、
前記発熱部２０は真空室２内又は真空室２と連通する位置にあって薄膜を蒸着する際には真空雰囲気下に配されるものであり、真空室２の外部から前記発熱部２０に薄膜材料１９を送る薄膜材料送り装置１４を有する構成となっている。 （もっと読む）

【課題】均質で高反射率であり欠陥のない金属蒸着膜を被蒸着体上に形成することができる真空蒸着装置を提供する。
【解決手段】真空チャンバー内に蒸着源と被蒸着体とを配置し、蒸着源から気化した物質を被蒸着体の表面に到達させて蒸着させるようにした真空蒸着装置において、当該蒸着源が入れられた坩堝の開口部より気化した物質を、当該坩堝の開口部の直上に小径部を下にして当該坩堝と軸心を合わせて設置された当該気化した物質が気化状態を保つ温度に加熱された金属円錐筒状体内を通した後に、当該金属円錐筒状体と被蒸着体の間の空間に放出し、当該被蒸着体の表面に到達させて蒸着させ、該坩堝の開口部と当該被蒸着体との距離をＤとしたとき、当該金属円錐筒状体の斜面の長さＬが０．０５Ｄ〜０．５Ｄであり、当該金属円錐筒状体の円錐角度θが４５°〜７５°であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】成膜開始時、成膜時、及び成膜停止時における配管系、原料容器、及び吹き出し容器の圧力を制御することにより、高品質で長寿命の膜、特に、有機ＥＬ膜を得ることである。
【解決手段】原料を気化させ、気化した原料をガスで輸送してガス放出部から基板に放出して膜を成膜する成膜装置として、気化手段と、該気化手段とガス放出部との間に輸送ガス及び原料の流通経路を設けると共に、輸送ガスと同種のガスを気化手段を介さずに流通経路を用いてガス放出部に供給するガス供給手段を設け、成膜前および成膜停止時に原料をガス放出部に流通させない制御とガス供給手段からのガスをガス放出部に供給する制御とを成膜状態との遷移時に行なうと共に、ガス放出部と気化手段の圧力が成膜時の圧力となるようにガスを供給する制御を行う一方、成膜時にガス供給手段からのガスが流通させない制御と気化手段からガスを供給する制御とを行い、成膜する。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、ＥＬ材料の利用効率を高め、且つ、ＥＬ層成膜の均一性やスループ
ットの優れた成膜装置の一つである蒸着装置及び蒸着方法を提供するものである。
【解決手段】
本発明は、蒸着室内において、蒸着材料が封入された容器を複数個設置した細長い矩形形
状の蒸着源ホルダ１７に設け、基板１３に対してあるピッチで移動しながら蒸着を行うこ
とを特徴とする。また、基板の一辺に対して矩形形状の蒸着ホルダの長手方向を斜めにし
たまま移動させてもよい。また、ＴＦＴ作製時におけるレーザー光の走査方向に対して、
蒸着時における蒸着ホルダの移動方向を異ならせることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】蒸気発生部で発生させた成膜材料の蒸気を温度低下させること無く蒸着ヘッドに送ることができる蒸着装置を提供する。
【解決手段】蒸着により被処理体Ｇを成膜処理する蒸着装置１３であって、被処理体Ｇを成膜処理する処理室３０と、成膜材料を蒸発させる蒸気発生室３１とを隣接させて配置し、処理室３０の内部と蒸気発生室３１の内部を減圧させる排気機構３６，４１と、処理室３０の内部に成膜材料の蒸気を供給する蒸着ユニット５５〜６０とを設け、蒸着ユニット５５〜６０は、処理室３０の内部に向けて成膜材料の蒸気を噴出させる蒸気噴出口８０と、蒸気発生室３１に、成膜材料を蒸発させる蒸気発生部７０〜７２と、成膜材料の蒸気の供給を制御する制御弁７５〜７７と、蒸気発生部７０〜７２で発生させた成膜材料の蒸気を、処理室３０と蒸気発生室３１の外部に出さずに、蒸気噴出口８０に供給させる流路８１〜８３、８５とを備える。 （もっと読む）

【課題】薄膜材料の使用効率が高く、大型基板に所望形状の薄膜を形成できる技術を提供する。
【解決手段】
真空槽１１内の処理台１２の載置面１３と対面する位置に放出装置本体３１₁〜３１₃を配置し、放出装置本体３１₁〜３１₃と載置面１３との間に防熱板４２₁〜４２₃を配置し、防熱板４２₁〜４２₃に形成した孔４３₁〜４３₃内に放出装置本体３１₁〜３１₃に接続された細管３３₁〜３３₃を挿入させ、細管３３₁〜３３₃の先端を防熱板４２₁〜４２₃よりも載置面１３に近い位置まで伸ばしておく。真空槽１１内を真空排気し、細管３３₁〜３３₃から材料ガスを放出して載置面１３上の成膜対象物表面に薄膜を形成するときに、細管３３₁〜３３₃先端は蒸発温度以上に加熱しておくことができ、材料ガスが凝縮して細管３３₁〜３３₃先端が閉塞することはなく、成膜対象物表面に、線状の薄膜を形成することができる。 （もっと読む）

【課題】ターゲットを有効使用できるとともに、成膜領域の温度の変動を抑え、均一な膜質及び特性の薄膜を安定して成膜することのできる成膜装置および成膜方法の提供。
【解決手段】本発明の成膜装置２０は、レーザ光Ｌによってターゲット３１から叩き出され若しくは蒸発した構成粒子を基材２５上に堆積させ、基材２５上に薄膜を形成する成膜装置２０であって、基材２５に対向するように配されたターゲット３１と、ターゲット３１の外周面を取り囲んで設けられたターゲット保持部材３２と、ターゲット３１にレーザ光Ｌを照射するレーザ光発光手段２８とを少なくとも備え、ターゲット保持部材３２が、熱伝導率４０Ｗ／（ｍ・Ｋ）以下、融点２０００℃以上の材料より形成されてなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】蒸着工程中に基板と薄膜蒸着装置との精密なアラインが可能である薄膜蒸着装置及びこれを利用した有機発光表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】蒸着源１１０の一側に配され、第１方向Ｙに沿って複数個の蒸着源ノズル１２１が形成された蒸着源ノズル部１２０と、蒸着源ノズル部１２０と対向し第２方向Ｘに沿って複数個のパターニング・スリット１５１が形成されるパターニング・スリットシート１５０と、を具備し、該基板が、第１方向Ｙに沿って移動しつつ蒸着が行われ、該パターニング・スリットシート１５０は、第１アラインマーク１５２及び第２アラインマーク１５３を含み、該基板は、第１アラインパターン５０２及び第２アラインパターン５０３を含み、これらを撮影する第１カメラアセンブリ１６１及び第２カメラアセンブリ１６２と、をさらに具備する薄膜蒸着装置。 （もっと読む）

【課題】分子線源セルを破損させることなく、かつ均一な空間強度分布を維持できるＡｌ用分子線源セルを提供する。
【解決手段】蒸発させる原料を収容するルツボ１０と、ルツボ１０の側面を囲んで該ルツボ１０を加熱する分子線源ヒータ部１２と、を備え、ルツボ１０は、上端において環状の開口部１６が設けられた有底円筒状の容器と、該容器の開口部１６の全周に渡って外向きに配置され、分子線源ヒータ部１２の外側まで張り出したツバ１１と、を有することを特徴とする分子線源セル１。 （もっと読む）

【課題】製造が容易であり、大型基板の量産工程に容易に適用でき、製造収率及び蒸着効率が向上した薄膜蒸着装置、これを利用した有機発光表示装置の製造方法及びこれを利用して製造された有機発光表示装置を提供する。
【解決手段】薄膜蒸着装置は複数の薄膜蒸着アセンブリーを備え、複数の薄膜蒸着アセンブリーそれぞれは、蒸着源と、複数の蒸着源ノズルが形成される蒸着源ノズル部と、複数のパターニングスリットが形成されるパターニングスリットシートと、蒸着源ノズル部とパターニングスリットシートとの間の空間を複数の蒸着空間に区切る複数の遮断板を備える遮断板アセンブリーと、を備え、薄膜蒸着装置は、基板と所定距離ほど離隔して形成され、薄膜蒸着装置と基板とは、いずれか一方が他方に対して相対的に移動自在に形成され、各蒸着源には、赤色発光層材料、緑色発光層材料、青色発光層材料又は補助層材料が備えられることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】大面積の成膜対象物に対して膜厚及び膜質が均一の膜を形成することができる蒸着技術を提供する。
【解決手段】本発明の有機蒸着装置１は、基板３が配置される真空槽２と、真空槽２の外部に設けられ、有機材料を蒸発させる複数の蒸発源５ｈ、５ｄ、６ｈ、６ｄと、複数の蒸発源５ｈ、５ｄ、６ｈ、６ｄから供給された蒸発材料の蒸気を基板３に向って放出するための面蒸発器４とを備えている。面蒸発器４は、互いに雰囲気が隔離された複数の蒸気放出室２１と、複数の蒸発源５ｈ、５ｄ、６ｈ、６ｄから複数の蒸気放出室２１内にそれぞれ蒸発材料の蒸気を導入する蒸気導入器３０とを有する。各蒸気放出室２１には、基板３に対して対向するように面状に配列された複数の蒸気放出ノズル２３が設けられている。 （もっと読む）

【課題】大型基板の量産工程に容易に適用でき、歩留まりが向上した薄膜蒸着装置及びこれを用いた有機発光表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】被蒸着用基板を静電チャックで固定させるローディング部と、チャンバと、チャンバの内部に配され、かつ静電チャックに固定された基板５００に薄膜を蒸着する薄膜蒸着アセンブリー１００を備える蒸着部と、静電チャックから蒸着が完了した基板を分離させるアンローディング部と、基板が固定された静電チャックをローディング部、蒸着部及びアンローディング部に順次移動させる第１循環部６１０と、を備え、第１循環部は、互いに平行に形成された２対の第１ガイドレール６１３及び第２ガイドレール６１７と、第１ガイドレールに結合する一つ以上の第１ガイドブロック６１５と、第２ガイドレールに結合する一つ以上の第２ガイドブロック６１９とを備える。 （もっと読む）

【課題】設計通りに衝撃波を制御できるように内部形状および内部表面加工された小型精密な超音速ノズル、好適にはＰＶＤ用超音速ノズルを提供すると共に、当該超音速ノズルを製造可能な切削工具を提供する。
【解決手段】特殊な加工をした超硬複数刃であって、該複数刃が回転対称に配置されている切削工具を使用し、スロート部の内部直径が０．１ｍｍ〜３．０ｍｍであり、管内部の表面粗さＲａが０．２μｍ以下である、手のひらサイズの小型で、ノズル内部の空洞部が精密に加工された超音速ノズルを提供する。 （もっと読む）

【課題】 アルミニウムまたはその合金の蒸着被膜が優れた密着性をもって表面に形成されてなる希土類系永久磁石の製造方法を提供すること。
【解決手段】 蒸着槽内において抵抗加熱方式によって加熱された溶融蒸発部にワイヤー状のアルミニウムまたはその合金の蒸着材料を連続供給しながら蒸発させることで、希土類系永久磁石の表面にアルミニウムまたはその合金の蒸着被膜を形成する際、蒸着処理を開始してから終了するまでの間の磁石の温度上昇勾配を１０℃／分以下に制御して蒸着処理を行うことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ナノ粒子の搬送に寄与するキャリアガスの流れを高めることのできるガスデポジション用ナノ粒子生成装置、及びガスデポジション装置を提供する。
【解決手段】ナノ粒子が生成される坩堝５の上方に位置するナノ粒子搬送管２へのナノ粒子キャリアガスの流れを作る整流手段１２を備える。 （もっと読む）

【課題】蒸着材料の性状の劣化を抑制して、十分な蒸着速度が得られる蒸着装置を提供する。
【解決手段】充填された蒸着材料を蒸発させる蒸発用容器３と、蒸発用容器３の上方に配置されると共に蒸発された蒸着材料を連通部４を介して導きガラス基板Ｋに蒸着させる蒸着用容器２と、連通部４に配置されて蒸発された蒸着材料の通過量を調整する蒸気流量調整弁５とを具備する蒸着装置１であって、蒸発容器本体３０内の上方に、一部の連通空間３１Ｍを残して上側空間部３１Ｕと下側空間部３１Ｌとに区画し得る区画部材６を配置し、区画部材６の下面側に下側空間部３１Ｌ内の蒸着材料を加熱し得る下部加熱部６５Ｌを配置すると共に、区画部材６の上面側に下側空間部３１Ｌから連通空間３１Ｍを介して上側空間部３１Ｕ内に移動した蒸着材料を冷却し得る冷却部６２及び区画部材６の上面に付着した蒸着材料を加熱し蒸発させ得る上部加熱部６５Ｕを配置したものである。 （もっと読む）

【課題】大型基板の量産工程に容易に適用でき、歩留まりが向上した薄膜蒸着装置を提供する。
【解決手段】蒸着物質１１５を放射する蒸着源１１０と、蒸着源１１０の一側に配され、複数の蒸着源ノズル１２１が形成された蒸着源ノズル部１２０と、蒸着源ノズル部１２０と対向して配され、複数のパターニングスリット１５１が配されるパターニングスリットシート１５０と、蒸着源ノズル部１２０とパターニングスリットシート１５０との間に配されて、蒸着源ノズル部１２０とパターニングスリットシート１５０との間の空間を複数の蒸着空間に区切る複数の遮断板１３１を備える遮断板アセンブリー１３０と、パターニングスリットシート１５０に対する基板５００の相対的な位置を検出する位置検出部材と、基板５００に対するパターニングスリットシート１５０の相対的な位置を変化させるアライン制御部材と、を備える薄膜蒸着装置。 （もっと読む）