【課題】耐焼付き性や低い摩擦係数を示すとともに圧縮機用途に優れた摺動部品の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の圧縮機用摺動部品の製造方法は、成膜炉と、少なくとも炭素からなる炭素ターゲット１１と、硫化物からなる硫化物ターゲット１２，１４と、金属原子を含む金属ターゲット１３と、を成膜炉内でリング状に配列するターゲット固定手段１０と、部品本体（Ａ、Ｂ）を保持するとともに部品本体を移動させて部品本体と対向するターゲット１１〜１４を連続的に変更する部品保持手段２０と、少なくともターゲット固定手段１０に結線されターゲット１１〜１４を放電させる電源装置と、を具備するスパッタリング装置を用い、電源装置を操作してターゲット１１〜１４を放電させるとともに部品保持手段１０により部品本体を移動させて、非晶質炭素と前記硫化物を構成する原子と金属原子とを部品本体の表面に微視的かつ周期的に順次堆積させる。 （もっと読む）

【課題】内燃機関用部品やマリン用部品の耐食性を簡便に大きく向上させる。
【解決手段】本発明による内燃機関用部品は、少なくともクロムを含む金属材料から形成された部品本体５と、部品本体５の外側を覆うセラミックス膜１０とを備えている。部品本体５は、内部よりもクロム濃度の高い表面層５ａを有している。 （もっと読む）

【課題】低い摩擦係数を示すとともに耐焼付き性に優れた低摩擦複合膜の成膜方法を提供する。
【解決手段】本発明の低摩擦複合膜の成膜方法は、成膜炉と、少なくとも炭素からなる炭素ターゲット１１と、硫化物からなる硫化物ターゲット１２，１４と、金属原子を含む金属ターゲット１３と、を成膜炉内でリング状に配列するターゲット固定手段１０と、基材（Ａ，Ｂ）を保持するとともに基材を移動させて基材と対向するターゲット１１〜１４を連続的に変更する基材保持手段２０と、少なくともターゲット固定手段１０に結線されターゲット１１〜１４を放電させる電源装置と、を具備するスパッタリング装置を用い、電源装置を操作してターゲット１１〜１４を放電させるとともに基材保持手段１０により基材を移動させて、非晶質炭素と前記硫化物を構成する原子と金属原子とを基材の表面に微視的かつ周期的に順次堆積させる。 （もっと読む）

【課題】一対の電極膜から効率よく電子を放出する。
【解決手段】後側基板３の対向空間側面３１には、フロートガラスからなる後側基板３と異なる絶縁材料のＳｉＯ₂膜３２が設けられている。また、ＳｉＯ₂膜３２には、隙間部３３が形成されている。また、後側基板３のＳｉＯ₂膜３２上には、蛍光体２３を励起発光させるために電子を放出する表面伝導型の電子放出部３４が設けられている。各電子放出部３４は、一対の電極膜３５，３６が離間して構成され、一対の電極膜３５，３６に電圧を印加する（電位差を与える）ことにより電子を蛍光体部２２に向けて放出する。 （もっと読む）

【課題】多孔質材などの被処理材に被膜をコーティングする場合であっても、簡易的に被膜のコンタミネーションの付着を低減することができるコーティング装置を提供する。
【解決手段】このコーティング装置１は、被処理材ＰＷを保持する保持台１０を備え、該保持台１０に保持した被処理材ＰＷの表面に、被覆材料にイオンを衝突させて得られた被覆材料の粒子を、被覆処理するためのコーティング装置１であって、前記保持台１０は、被処理材が接触する保持面１１ｂに開口部１１ｂを形成してなる。 （もっと読む）

【課題】カルーセル式の回転ドラムを回転した状態で、基板に形成される薄膜の膜厚を高い精度で測定することが可能な薄膜形成装置を提供する。
【解決手段】薄膜形成装置１は、回転軸線Ｚ−Ｚ'を中心に回転する回転ドラム１３と、この回転軸線Ｚ−Ｚ'の一方の側から測定光を投光する投光ヘッド４３と、この投光ヘッド４３から投光された測定光をモニタ基板Ｓ_０に向けて反射する全反射ミラー４６と、モニタ基板Ｓ_０から反射する反射光を回転軸線Ｚ−Ｚ'の他方の側へ向けて反射する全反射ミラー５１と、この全反射ミラー５１により反射された反射光を受光する受光ヘッド５４と、この受光ヘッド５４で受光した反射光に基づいてモニタ基板Ｓ_０の膜厚を演算する膜厚演算コンピュータ５７を備えている。測定光と反射光が回転軸線Ｚ−Ｚ'の異なる方向から投受光されているので、光の干渉などの影響を受けずに高い精度で膜厚を測定することができる。 （もっと読む）

【課題】ガスフロースパッタリング法によって、原反ロールから巻取ロールへ連続的に送られるフレキシブル基板に効率よく成膜することができる成膜方法及び装置を提供する。
【解決手段】チャンバ２内の原反ロール３から巻取ロール６へフィルム１を連続的に送る。走行途中のドラム５の外周に対峙するスパッタ粒子成膜部７を作動させる。これにより、フレキシブル基板の表面にガスフロースパッタリング法により薄膜が形成される。 （もっと読む）

【課題】反射防止膜を有する光学フィルターを安価な設備を用いた高速成膜技術により安価に製造する。
【解決手段】光学フィルターの反射防止膜を構成する低屈折率透明膜及び高屈折率透明膜をガスフロースパッタリング法により成膜する。ガスフロースパッタリング法は、高真空排気が不要であるため安価な設備で実施でき、しかも高速成膜が可能であることから、ガスフロースパッタリング法を採用することによる設備費の低減、成膜時間の短縮により、光学フィルターを安価に製造することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】高分子樹脂基材上に内部応力の小さい窒化シリコン膜を成膜して、この窒化シリコン膜を含めて何層にも薄膜を重ねた場合にも内部クラックや膜の割れを発生させることがない成膜方法を提供すること。
【解決手段】デュアル・マグネトロンスパッタリング（ＤＭＳ）を用い、そのマグネトロンカソードに周波数２５ｋＨｚ以下の正弦波電圧を印加して、基材上に窒化シリコンの薄膜を成膜する。周波数を２５ｋＨｚ以下にしているため、成膜された窒化シリコン膜の内部応力が低くなり、反りも起こらなくなる。 （もっと読む）

【課題】単層のガスバリア層しか有さなくても非常に優れたガスバリア性、すなわち、防湿性を発揮することができ、例えば、蛍光体パネルの防湿保護膜として用いても、蛍光体層に対して十分な防湿性を発揮して長期利用可能な蛍光体パネルを得ることができるガスバリア性フィルム、ガスバリア性フィルムの製造方法、および前記ガスバリア性フィルムを用いる蓄積性蛍光体パネルを提供することにある。
【解決手段】基板フィルムの上にガスバリア層を有するガスバリア性フィルムにおいて、ガスバリア層が、粒径が３ｎｍ〜２０ｎｍの無機化合物からなる粒界が１ｎｍ〜２０ｎｍの無機化合物層であることにより、前記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】摩擦係数の一層の低減を図ると共に、簡便なプロセスで製造することができ、効果の発揮される潤滑油の種類の制約も少ない硬質炭素被膜摺動部材を提供すること。
【解決手段】摺動部位に硬質炭素被膜を備え、被膜中にセリウムを１．５〜３４原子％の割合で含有している硬質炭素被膜摺動部材である。被膜中の水素の含有量が６原子％以下である。潤滑剤中で使用される。潤滑剤が自動車用エンジン油である。 （もっと読む）

【課題】本発明は、摺動材の摺動面全体に微細周期構造の形成及び表面改質を行うことで優れたトライボロジー特性を有する摺動材及びその製造方法を提供することを目的とするものである。
【解決手段】摺動材の基材１の摺動面に成膜されたＤＬＣ膜２に、低フルーエンスのパルスレーザ（フェムト秒レーザ等）を照射することで、照射領域をガラス状炭素に改質された改質領域３とするとともに微細周期構造４を形成する。こうして表面加工された領域を被覆するように潤滑層５を形成することで、摩擦係数等のトライボロジー特性が大幅に改善された摺動材を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】放電インピーダンスを一定に保ち、高精度な膜厚制御が可能となるスパッタ装置およびスパッタリングによる成膜方法を提供する。
【解決手段】成膜室にターゲットを備え、前記成膜室における前記ターゲットと対向する基板ホルダーに保持された基板に、スパッタリングによって成膜するスパッタ装置を、つぎのように構成する。
前記ターゲット１−２の前記基板方向前方に、前記ターゲットから飛び出す電子の進行を妨げる前記基板ホルダーと同電位の遮蔽部材１−５が位置するように構成する。 （もっと読む）

【課題】高温環境下であり且つ大きな接触応力が作用するような条件下、又は、高温環境下であり且つ無潤滑下というような厳しい条件下でも好適に使用可能な転動装置を提供する。
【解決手段】アンギュラ玉軸受の玉３はＳＵＪ２で構成されており、玉３の転動面３ａには潤滑性を有するＤＬＣ層Ｄが設けられている。ＤＬＣ層Ｄは、Ｃｒ，Ｗ，Ｔｉ，Ｓｉ，Ｎｉ，Ｚｒ，及びＦｅのうちの２種以上の金属からなる金属層Ｍと、前記金属及び炭素からなる複合層Ｆと、炭素からなるカーボン層Ｃと、の３層で構成されていて、該３層は表面側からカーボン層Ｃ，複合層Ｆ，金属層Ｍの順に配されている。また、複合層Ｆ中の炭素の割合は、金属層Ｍ側からカーボン層Ｃ側に向かって徐々に増加している。さらに、ＤＬＣ層Ｄの等価弾性定数は１００ＧＰａ以上２４０ＧＰａ以下である。さらに、玉３の平均残留オーステナイト量は６体積％以下である。 （もっと読む）

【課題】本発明はダイヤモンドライクカーボン複合層と基材が比較的高い結合力を持つ金型を提供する。
【解決手段】本発明は、ダイヤモンドライクカーボン複合層を有する金型に関するものであり、前記ダイヤモンドライクカーボン複合層は、基材から外側表面までに、順次に第一層乃至第Ｎ＋１層を備え、前記第一層から第Ｎ層までは、金属又は金属窒化物である詰め物を含むダイヤモンドライクカーボン層であって、且つ各層の詰め物のモルパーセント含有量が逓減し、第Ｎ＋１層は純ダイヤモンドライクカーボン層であって、前記Ｎの値は２〜３０である。 （もっと読む）

【課題】溶着性の高い被削材に対してエアブローで切削加工を行う場合でも実用上満足できる工具寿命が得られるＤＬＣ被膜を提供する。
【解決手段】ＤＬＣ被膜２０は、実質的に水素を含まないベース層２２と所定量の水素を含む表皮層２４との２層構造を成しており、ベース層２２により優れた耐摩耗性が得られるとともに表皮層２４により摩擦係数が小さくされ、優れた耐溶着性（潤滑性）が得られるようになる。これにより、アルミニウム合金等の溶着性の高い被削材に対してエアブローで切削加工を行う場合でも、溶着が抑制されて工具寿命が向上する。 （もっと読む）

【課題】高周波マグネトロンスパッタリングにより、同じ特性で、熱的安定性に優れた誘電体薄膜を、安定した成膜速度で形成する方法を提供する。
【解決手段】高周波マグネトロンスパッタリングでは、ターゲットに印加された高周波電力により、ターゲットに直流電圧が誘起される。本発明の形成方法によれば、ターゲットに誘起される電圧の直流成分の絶対値を５０Ｖ以上として成膜をおこなうことにより、誘電体薄膜を安定した成膜速度で成膜することが可能になるとともに、一定の屈折率値の膜が得られるようになり、さらに、得られた膜の熱的安定性が向上する。 （もっと読む）

【課題】乾式下であっても、大気中において、摺動部材の摩擦係数を低減することができる組合せ摺動部材を提供する。
【解決手段】この組合せ摺動部材は、摺動面に非晶質炭素膜を形成した第一摺動部材と、該第一摺動部材の摺動面と摺動する摺動面に窒化炭素膜を形成した第二摺動部材と、を有してなる。 （もっと読む）

【課題】アルミニウムまたはアルミニウム合金からなる母材とダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）皮膜などの硬質皮膜との密着性が良好な硬質皮膜被覆部材およびその製造方法を提供する。
【解決手段】アルミニウムまたはアルミニウム合金からなる母材２０の表面を処理して、母材２０の最大表面粗さを３μｍ以下にした後、処理装置１０の真空処理室１２内において、ターゲット２２としてクロムターゲットを使用してスパッタリングすることにより、母材２０上にクロム皮膜を介して窒素含有クロム皮膜を形成し、その後、表面の硬質皮膜としてＤＬＣ皮膜を形成する場合には、ターゲット２２としてカーボンターゲットを使用してスパッタリングすることにより、窒素含有クロム皮膜上にＤＬＣ皮膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】チタンまたはチタン合金からなる母材とダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）皮膜などの硬質皮膜との密着性が良好な硬質皮膜被覆部材およびその製造方法を提供する。
【解決手段】チタンまたはチタン合金からなる母材２０の表面を処理して、母材２０の最大表面粗さを３μｍ以下にした後、処理装置１０の真空処理室１２内において、ターゲット２２としてクロムターゲットを使用してスパッタリングすることにより、母材２０上にクロム皮膜を介して窒素含有クロム皮膜を形成し、その後、表面の硬質皮膜としてＤＬＣ皮膜を形成する場合には、ターゲット２２としてカーボンターゲットを使用してスパッタリングすることにより、窒素含有クロム皮膜上にＤＬＣ皮膜を形成する。 （もっと読む）