【課題】 スパッタリング法で形成されたＩＴＯ膜の比抵抗を低減し、さらにＩＴＯ膜の耐熱性や耐酸性を向上しうる製造方法を提供する。
【解決手段】 透明基板上に、Ｓｎ含有酸化インジウム膜をスパッタリング法により形成する工程と、チャンバー中の酸素ガスのガス圧を３００Ｐａ以上とし、酸素ガスより生成したプラズマ中に、前記Ｓｎ含有酸化インジウム膜付き基板を曝露する工程とを、含むことを特徴とする透明導電膜付き基板の製造方法である。前記ガス圧が４００Ｐａ〜１７００Ｐａであることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】紫外線照射を行わなくても高い親水性を有するとともに、長期に亘って親水性を持続させることが可能な親水性薄膜を、安価な製造コストで製造することが可能な親水性薄膜の製造方法を提供する。
【解決手段】基板Ｓの表面に親水性の薄膜を形成する親水性薄膜の製造方法であって、基板Ｓに対して反応性ガスのプラズマによるプラズマ処理を行う前処理工程（Ｐ２）と、前処理工程（Ｐ２）を行った後の基板Ｓの表面に薄膜を形成する薄膜形成工程（Ｐ３、Ｐ４）と、を行う。さらに、薄膜形成工程（Ｐ３、Ｐ４）の後に、基板Ｓの表面をプラズマ処理する後処理工程（Ｐ５）を行ってもよい。前処理工程（Ｐ２）を行うことで、得られた親水性薄膜は、長期に亘って親水性が持続する。また、前処理工程（Ｐ２）と後処理工程（Ｐ５）の両方を行うことで、親水性の持続時間が更に長くなる。 （もっと読む）

【課題】従来のスパッタ法では困難であった数十〜数百Åの極薄で磁気ヘッドのギャップ層やトンネル接合型ＧＭＲに好都合な化合物絶縁膜を形成する方法を提案する
【解決手段】基板に数十Å程度のメタル膜を堆積させる工程と、該メタル膜内部まで化合物絶縁膜とする化合物工程とを交互に繰り返し、前記基板に１００Å程度の化合物絶縁膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】従来のスパッタリング装置では困難であった数十〜数百Åの極薄で磁気ヘッドのギャップ層やトンネル接合型ＧＭＲに好都合な化合物絶縁膜を形成するスパッタリング装置を提案する。
【解決手段】スッパタ用ガスと反応ガスとがそれぞれ導入される真空室１内に、直流電流５に接続されたターゲット６とその背後に磁石７および前記ターゲット前方のイオン化効率を高めるＲＦコイル８とを備えたマグネトロンカソード９を設け、前記ターゲットを異常放電力防止回路を介して前記直流電流に接続する。 （もっと読む）

【課題】従来よりも高速で成膜でき、かつバッチ処理プロセスなしで透明薄膜を得ることができるスパッタ成膜方法を提供し、該スパッタ成膜方法により得られる反射防止膜を提供する。
【解決手段】ＣＯ_２及び／又はＣＯの反応性ガスの存在下で金属ターゲットをスパッタガスによりスパッタリングし、当該スパッタリング中の反応モードを酸化モードとして基板上に前記金属の酸化物からなる透明薄膜を成膜する。 （もっと読む）

【課題】光学的，物理的特性のバリエーションに富んだ新規な光学物品を提供する。
【解決手段】被覆層Ｆが基板Ｓの表面に形成された光学物品Ｐであって、被覆層Ｆは、酸窒化ケイ素、酸窒化アルミニウム、窒化ケイ素、窒化アルミニウム、酸化アルミニウム、および酸化ケイ素からなる群より選択される材料からなる薄膜を積層したものである。このように、薄膜を酸窒化ケイ素、酸窒化アルミニウム、窒化ケイ素、窒化アルミニウム、酸化アルミニウム、および酸化ケイ素からなる群より選択するため、二酸化チタンおよび二酸化ケイ素の２種類のみからなる従来の光学物品と比較して、光学的，物理的特性のバリエーションに富んだ光学物品を提供することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】基板に形成される薄膜の膜厚をリアルタイムに且つ高い精度で測定することが可能な薄膜形成装置を提供する。
【解決手段】真空容器１１の内部に回転自在に設置され基板Ｓを保持可能な回転ドラム１３と、この回転ドラム１３の一部の領域Ｌに向けて膜原料物質を供給して基板Ｓの表面に薄膜を形成するスパッタ手段２０と、このスパッタ手段２０から供給される膜原料物質が常時付着する位置に固定された水晶膜厚センサ４３ａ，４３ｂと、この水晶膜厚センサ４３ａ，４３ｂに付着する膜原料物質の付着量と基板Ｓの表面に間欠的に付着する膜原料物質の付着量との間の比率に基づいて、基板Ｓの表面に形成される薄膜の膜厚を演算する膜厚演算コンピュータ４２と、を備えた。水晶膜厚センサ４３ａ，４３ｂに付着した膜原料物質の付着量から実際の基体に形成された薄膜の膜厚を、この比率の分だけ高い感度で測定することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】 透光性を有する基材に長期間の使用に応答性を劣化させることがない透明電極及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 透光性を有する基材に、透明電極層を備える透明電極であって、前記基材を樹脂により構成し、前記透明電極層の面方向に圧縮応力を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】優れた特性を有する薄膜を効率よく製造することができる技術及び前記薄膜を基体上に成形した成形体の製造方法を提供すること。
【解決手段】基体上に薄膜を成膜する処理と、永久磁石により生成した磁場にマイクロ波を放射することにより生成したＥＣＲプラズマを薄膜に照射する処理とを別々に行って、基体上に成膜した薄膜に前記ＥＣＲプラズマを効率よく照射することにより、ＥＣＲプラズマを有効に利用して基体上に優れた特性を有する薄膜を効率よく製造することができる。 （もっと読む）

【課題】耐擦傷性を改善できる光学物品の製造方法を提供する。
【解決手段】光学基板の上に直にまたは少なくとも１つの他の層を挟んで形成された機能
層であって、少なくとも１つの層を含む機能層を有する光学物品の製造方法である。当該
製造方法は、機能層を形成する工程を有する。機能層を形成する工程は、機能層に含まれ
る１つの層を真空蒸着により形成する層形成工程と、層形成工程で得られた層の表面を窒
化処理する工程とを含む。 （もっと読む）

【課題】スパッタリングで形成される薄膜の成膜速度をリアルタイムかつ高精度にモニターでき、該薄膜の膜厚や光学特性を制御可能な反応性スパッタリング装置及び成膜方法を提供する。
【解決手段】反応ガスの活性種存在下で金属ターゲット１，２をキャリアガスによりスパッタリングして基板１１上に前記金属化合物の薄膜を形成する成膜室Ｓ１，Ｓ２を備え、外部から成膜室Ｓ１，Ｓ２内の成膜中のプラズマ発光について発光スペクトルを検知するプラズマ検知器５，６により、成膜中のプラズマ発光について前記金属のスペクトル強度とベースとなるスペクトル強度との比であって前記薄膜の成膜速度に比例した一定値を示すスペクトル強度比をモニターし、予め求めておいた前記スペクトル強度比と成膜速度との関係に基づいて、該成膜中の成膜速度が検出され、所望の膜厚の薄膜が形成される。 （もっと読む）

【課題】中屈折率領域（ｎ＝１．５〜１．９程度）において、光吸収の少ない光学薄膜を有する光学製品の製造方法および光学製品を提供すること。
【解決手段】スパッタリングにより２つのターゲットを用いて基板上に光学薄膜を形成する光学製品の製造方法であって、前記スパッタリング用の２つのターゲットが、Ｓｉおよび、Ｔｉ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｚｒ、ＨｆおよびＭｏから選ばれた少なくとも一種の遷移金属とＳｉからなる混合固溶体である。 （もっと読む）

【課題】 酸素ガスあるいは水蒸気等に対する高いバリア性を有し、かつ、２軸延伸ポリエチレンテレフタレートと、無機酸化物との間の密着性が高く、例えば、飲食品、医薬品、化粧品、化学品、電子部品、その他の種々の物品を充填包装するのに有用な透明蒸着フィルムの製造方法を提供する。
【解決手段】 ２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムの表面をマイクロ波でプラズマ化した窒素ガスによりプラズマ処理し、さらに無機酸化物を積層することを特徴とする透明蒸着フィルムの製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】優れた透明性と高いバリア性を有する透明バリアフィルムを提供する。
【解決手段】可撓性プラスチック基材２と、該可撓性プラスチック基材２の少なくとも一方の面に設けた酸化アルミニウムの薄膜バリア層３、およびガスバリア性の保護層４とからなり、該保護層４は１８０℃以上２００℃以下での高温乾燥処理により形成されたものであることを特徴とする透明バリアフィルム１。 （もっと読む）

【課題】メッキ処理を用いることなくプラズマスパッタだけで微細な凹部を金属によりボイドを発生させることなく埋め込むことができる成膜方法を提供する。
【解決手段】処理容器２４内でプラズマにより金属ターゲット７０をイオン化させて金属イオンを含む金属粒子を載置台３４上に載置した被処理体Ｗにバイアス電力により引き込んで凹部４を埋め込むようにした成膜方法において、バイアス電力を、被処理体の金属ターゲットに対する対向面に関して、金属粒子による成膜レートとプラズマガスによるスパッタエッチングのエッチングレートとが略均衡するような状態になるように設定して凹部内に金属膜を形成する成膜工程と、金属粒子の供給を停止した状態で被処理体を金属膜の表面拡散が生ずる所定の温度範囲に加熱維持することにより金属膜の原子を凹部の底部に向けて移動させる拡散工程とを交互に複数回繰り返す。 （もっと読む）

【課題】カルーセル式の回転ドラムを回転した状態で、基板に形成される薄膜の膜厚を高い精度で測定することが可能な薄膜形成装置を提供する。
【解決手段】薄膜形成装置１は、回転軸線Ｚ−Ｚ'を中心に回転する回転ドラム１３と、この回転軸線Ｚ−Ｚ'の一方の側から測定光を投光する投光ヘッド４３と、この投光ヘッド４３から投光された測定光をモニタ基板Ｓ_０に向けて反射する全反射ミラー４６と、モニタ基板Ｓ_０から反射する反射光を回転軸線Ｚ−Ｚ'の他方の側へ向けて反射する全反射ミラー５１と、この全反射ミラー５１により反射された反射光を受光する受光ヘッド５４と、この受光ヘッド５４で受光した反射光に基づいてモニタ基板Ｓ_０の膜厚を演算する膜厚演算コンピュータ５７を備えている。測定光と反射光が回転軸線Ｚ−Ｚ'の異なる方向から投受光されているので、光の干渉などの影響を受けずに高い精度で膜厚を測定することができる。 （もっと読む）

【課題】 酸素ガス、水蒸気等の透過を阻止するバリア性に優れ、更に、保存性、貯蔵性等に優れた液体紙容器を提供する。
【解決手段】 少なくとも、最外層１、紙基材２、エチレン−不飽和カルボン酸またはそのエステル化物との共重合体による３００℃以下で溶融押出した樹脂層からなる接着剤層３、基材フィルム４の一方の面に無機酸化物の蒸着膜５と一般式Ｒ¹ _n Ｍ（ＯＲ² ）_m で表される少なくとも１種以上のアルコキシドと、ポリビニルアルコ−ル系樹脂及び／又はエチレン・ビニルアルコ−ル共重合体とを含有し、更に、ゾルゲル法によって重縮合して得られるガスバリア性組成物によるガスバリア性塗布膜６とを設けた構成からなるバリア性層７、および、メタロセン触媒を使用して重合したエチレン−α・オレフィン共重合体層からなる最内層８を順次に積層して積層材Aを構成し、更に、該積層材Aを使用し、これを製函してなることを特徴とする液体紙容器。 （もっと読む）

【課題】基板５として耐熱性の低い基板を用いた場合であっても、結晶性の高い透明導電膜１２を形成すること。
【解決手段】基板５上に透明導電膜１２を成膜する成膜工程と、前記成膜工程が終了した後に、イオンガン１１からイオン化したアシストガスを透明導電膜１２に向かって照射することにより、透明導電膜１２を結晶化させる結晶化工程と、前記結晶化工程が終了した後に、前記成膜工程と前記結晶化工程を交互に繰り返す繰り返し工程と、を備えたこと。 （もっと読む）

透湿性シートを少なくとも１種類の金属でコーティングし、新たに付着したその金属を酸化プラズマに露出して、保護用合成金属酸化物を金属上に形成することによる低輻射率の透湿性の金属化複合体シートの製造方法。この複合体シート材料は、屋根ライニングやハウスラップ等の建物建築バリア層として用いるのに好適である。
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【課題】ＭＴＪ素子に適用して、抵抗変化率ｄＲ／Ｒを大きくできると共に面積抵抗ＲＡを小さくすることが可能なトンネルバリア層およびその製造方法を提供する。
【解決手段】ピンド層２４上にＤＣスパッタリング法により厚み１．０〜１．３ｎｍの第１マグネシウム（Ｍｇ）層を形成したのち、この第１マグネシウム層をラジカル酸化により酸化して第１酸化マグネシウム（ＭｇＯ）層３１を形成する。更に、磁場中でアニールすることにより第１酸化マグネシウム層３１に（００１）結晶配向性を持たせる。続いて、この第１酸化マグネシウム層３１上に０．３〜０．５ｎｍの第２マグネシウム（Ｍｇ）層を形成したのち、この第２マグネシウム層を自然酸化させて第２酸化マグネシウム（ＭｇＯ）層３２を形成する。 （もっと読む）