【課題】食品、日用品、医薬品などの包装分野において、また電子機器関連部材などの分野において、包装材料としての通常の加工が施されてもガスバリア性が劣化しない、特に高いガスバリア性が必要とされる場合に、好適に用いられる透明なガスバリア性積層フィルムを提供する。
【解決手段】透明なプラスチックフィルムからなる基材層１の表面に、一般式ＡｌＯ_x（但し、式中のｘ値は０〜１．７）で表され、さらに層表面から基材層１に向かう深さ方向にかけてｘ値が増加しており、さらに層最表面のｘ値が１．２以下である厚さ５〜３００ｎｍの酸化アルミニウム蒸着薄膜層２と、重合しうるアクリル系のモノマーからなる又はこのモノマーとオリゴマーとの混合物からなる未硬化のフラッシュ蒸着被膜層を、紫外線又は電子線を照射して硬化させてなる、厚さ０．０２〜１０μｍのガスバリア性被膜層３とを、真空中において順次積層したことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 遮光性、バリア性等に優れ、内容物保護適性を有し、更に、美粧性に優れ、包装体の外観を損ねることなく、消費者の購買意欲を喚起し、主に、レトルト食品、スナック菓子類、油脂類、冷凍食品、その他等を充填包装するに有用な積層材、包装用袋を提供することである。
【解決手段】 少なくとも、延伸基材フィルム、遮光性共押出積層フィルム、無機酸化物の蒸着膜を有する延伸樹脂フィルム、および、ヒ−トシ−ル性樹脂フィルムを順次に積層したことを特徴とする積層材およびそれを使用した包装用袋に関するものである。 （もっと読む）

【課題】安価で且つ効率良く製作し得る、回転円筒型マグネトロンスパッタリングカソード用ターゲット組立体、それを用いたスパッタリングカソード組立体、及び回転円筒型マグネトロンスパッタリング装置を提供する。
【解決手段】回転円筒型マグネトロンスパッタリングカソード用ターゲット組立体Ａは、６面以上の多面筒状支持体１の各外側面１aにバルク状の短冊形ターゲット材料片２をそれぞれ接合して、このターゲット材料片２の外周面を円筒状に加工して構成される。 （もっと読む）

ガラス状基材に減圧下で適用される薄層のスタックによって形成される、層（Ｂ）と基材との間に配置された少なくとも１つの層（Ａ）の少なくとも一方の表面部分の処理方法は、少なくとも１つの薄層（Ａ）を前記基材の表面部分に減圧堆積プロセスによって堆積し、少なくとも１つのリニアイオン源を用いて、イオン化された種のプラズマをガス又はガス混合物から発生させ、該プラズマに前記層（Ａ）の少なくとも一方の表面部分をさらして、前記イオン化された種により該層（Ａ）の表面状態を少なくとも部分的に改質するようにし、少なくとも１つの層（Ｂ）を該層（Ａ）の表面部分に減圧堆積プロセスによって堆積することにある。 （もっと読む）

【課題】蒸着とエッチングを組み合わせる同時的および連続的な処理における均一なプラズマ処理に寄与するように、プラズマを生成および調整する。また、ｉＰＶＤにより、高アスペクト比の被覆性に対し、均一なプラズマ処理を提供する。
【解決手段】開口端が処理スペースに面する状態で、中空体をチャンバ軸の上に位置決めすることによって、処理チャンバの軸へのピークに対する傾向を持ったプラズマ分布の均一性が改善される。中空体は中央から離れたプラズマの分布を制御し、プラズマの中央への配置を可能にする。中空体の幾何学構成は、所与の状態にプラズマを均一化ならしめるよう最適化できる。同時的および連続的なエッチングとｉＰＶＤ処理のような、組み合わせられた蒸着とエッチング処理において、中空体はエッチングのための均一なプラズマを提供する一方で、蒸着のために蒸着パラメータを最適化することを可能にする。 （もっと読む）

【課題】比較的低温下で、安価に、安全に結晶性シリコン薄膜を得て、該結晶性シリコン薄膜から容易に終端処理された結晶性シリコン薄膜を得ることができる結晶性シリコン薄膜の形成方法及び装置を提供する。
【解決手段】シリコンスパッタターゲットＴと被成膜物品Ｓを設置した成膜室１内に水素ガスを導入し、高周波電力を印加して、プラズマ発光における波長６５６ｎｍでの水素原子ラジカルの発光スペクトル強度Ｈα及び波長４１４ｎｍでのシランラジカルの発光スペクトル強度ＳｉＨ^* との比（Ｈα／ＳｉＨ^* ）が０．３〜１．３であるプラズマを発生させ、該プラズマにてシリコンスパッタターゲットＴをケミカルスパッタリングして被成膜物品Ｓ上に結晶性シリコン薄膜を形成し、次いで、終端処理室１０において、終端処理用ガスに高周波電力を印加することで発生させた終端処理用プラズマのもとで該結晶性シリコン薄膜の表面を終端処理する。 （もっと読む）

【課題】 液晶ディスプレイの透明電極などに利用できる程度に抵抗率を減少させたＺｎＯ薄膜を形成することができる薄膜形成装置を提供すること。
【解決手段】 蒸発手段２７から成膜材であるＺｎ材を蒸発させ、蒸発したＺｎ材をマイクロ波酸素プラズマ２５で酸化し、ＺｎＯ化合物をガラス基板３０に堆積して薄膜形成し、さらに、薄膜形成したＺｎＯ薄膜をマイクロ波水素プラズマに晒して抵抗率を減少させる構成とし、導電性を与えたＺｎＯ薄膜を形成することができる薄膜形成装置となっている。 （もっと読む）

【課題】コーティング前寸法と後寸法の差が小さい薄膜が要求される小径工具において、クリーニングの効果を損なうことなく、小径工具への成膜速度を抑制し、大径工具との同時処理を可能とするコーティング装置を提供。
【解決手段】コーティング装置内のプラズマイオン４（又はアークイオン）の照射を受ける位置に、自転ジグＣには、コーティングを施す工具刃部の外径が0.2mm 以上4.0mm 未満の小径工具10が挿入固定され、小径工具10先端から工具回転軸方向への間隔14が、1mm 以上20mm未満の位置に、プラズマイオン４（又はアークイオン）の照射を遮断する、小径工具10以外の遮蔽物11を設置した。 （もっと読む）

【課題】 真空蒸着法によって、膜厚のばらつきの少ない防汚膜を光学物品に形成できる防汚性光学物品の製造装置を提供すること。
【解決手段】 円形ドーム形状の支持装置２０に対し、複数の排気口１１１が支持装置２０の回転軸に対して回転対称な配置で設けられているため、排気の流れを支持装置２０の回転軸に対して等方的にできる。排気が等方的に行われることによって、反射防止膜１２等の表面処理が施された基板１５が支持された支持装置２０の異なる位置において、蒸着物質の濃度分布を回転軸に対して等方的にでき、かつ均一にできる。したがって、各プラスチックレンズ１の表面に形成される防汚膜１３の膜厚のばらつきを少なくできる。 （もっと読む）

【課題】 高い耐光性を有すると共に、配向膜の劣化を抑制することが可能な液晶装置、液晶装置の製造方法及び投射型表示装置を提供すること。
【解決手段】 金属酸化膜３１により配向膜１６を形成しているので、高い耐光性を有する。また、この金属酸化膜３１の表面のＳｉ原子３３のうち少なくとも一部に、ヒドロキシル基よりも水和性の低いＮ原子３２を、酸素原子を介さないように結合させるので、金属酸化膜３１の表面にヒドロキシル基が形成されるのを防ぐことができる。これにより、配向膜１６の表面の水和性が低下し、当該表面に水分が付着しにくくなるので、配向膜１６の劣化を抑制することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】低温でＣｕ_２Ｏ薄膜を高結晶化させる方法及び結晶性が高く、ホール移動度の高いＣｕ_２Ｏ薄膜が、高分子フィルムよりなる基板上に積層されてなる積層体を提供する。
【解決手段】基板上にＣｕ_２Ｏ薄膜が積層されてなる積層体１０が、ガラスチャンバ１内に配置されている。この基板は高分子フィルムよりなっている。Ａｒガス雰囲気において、電極２，３間に高周波電力を印加し、積層体１０のプラズマ処理を行う。これにより、Ｃｕ_２Ｏ薄膜が高結晶化し、Ｃｕ_２Ｏ薄膜のホール移動度が向上する。 （もっと読む）

【課題】 基材フィルムの一方の面に無機酸化物からなる薄膜層を形成する際に、基材フィルムへの影響を改善し、その黄変等の変化を防止し、また、基材フィルムと無機酸化物からなる薄膜層との密着強度等を改良し、かつ、酸素ガス、水蒸気等の透過を阻止するバリア性に優れ、引っ張り、揉み、しごき等の物理的ストレスにさらされても、そのバリア性の劣化が少なく、透明性に優れた極めて有用なバリア性フィルムおよびそれを使用した積層材を提供することである。
【解決手段】 基材フィルムの一方の面に、ポリパラキシリレンからなる蒸着重合膜を設け、更に、該ポリパラキシリレンからなる蒸着重合膜の上に、無機酸化物からなるバリア性薄膜層を設けたことを特徴とするバリア性フィルムおよびそれを使用した積層材に関するものである。 （もっと読む）

【課題】 ガスバリア性および水蒸気バリア性に優れるガスバリア性積層体の製造方法を提供する。
【解決手段】 基材上に金属層または金属酸化物層およびオーバーコート層を積層したガスバリア性積層体の製造方法であって、基材上に金属層または金属酸化物層を形成し、該金属層または金属酸化物層の表面を活性化処理した後にオーバーコート層を設けることを特徴とするガスバリア性積層体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】αアルミナ皮膜を形成した場合であっても、工具では工具寿命を延ばし、摺動部材や金型などでは、摩擦抵抗を低下させることのできる皮膜形成技術を提供すること。
【解決手段】基材表面にαアルミナ層が形成された部材を製造する方法であって、（１）基材の少なくとも一部の面に、α型結晶構造のアルミナ層を形成する工程、（２）得られたアルミナ層の表面にイオンボンバード処理を施す工程、を含む。この製法を採用することで、工具に適用した場合は工具寿命を延長し、摺動部材や金型に適用した場合は摩擦抵抗を効果的に低減できる。 （もっと読む）

【課題】 ｐｉｎ接合を有する光起電力素子の製造に際し、高いテクスチャー度を有するが吸着サイトが増加している透明導電層を使用した場合においても、ドーピングガス等が実質的に真性なｉ型半導体層に混入して特性が低下するのを防止して良好な特性を有する光起電力素子を製造できるようにする。
【解決手段】 基板上に透明導電層を形成する工程と、第一の導電型を有する半導体層を形成する工程と、前記透明導電層又は半導体層に吸着した前記第一の導電型を決定する元素の少なくとも一部を基板温度１００〜４００℃で熱処理及び／又はプラズマ処理により脱離させる工程と、前記第一の導電型を有する半導体層の上に実質的に真性な第二の半導体層を形成する工程と、前記第一の導電型とは反対の導電型を有する第三の半導体層を形成する工程をこの順に少なくとも有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高い耐湿性を得ることのできる金属化フィルム、コンデンサ用フィルムおよびそれを用いたコンデンサを提供する。
【解決手段】第一の形態として、高分子フィルムの少なくとも片面に金属層を蒸着してなる金属蒸着フィルムであって、該金属化フィルムの少なくとも一方の面上に炭素を含む保護層が形成されており、該保護層の少なくとも一方の保護層表面のＥＳＣＡによるＣ１ｓピークによる炭素の化学状態が、炭素全体を１としたピーク比においてＣＨｘのピーク比が０．８０以下である蒸着フィルム。保護層の少なくとも一方の保護層表面の表面エネルギーの分散力成分が３８ｍＮ／ｍ以下であり、金属層の少なくとも一方の金属層面の表面エネルギーの分散力成分が２７ｍＮ／ｍ以下である。 （もっと読む）

【課題】MgO基板とIr膜、Ir膜とダイヤモンド膜が各界面で剥離しにくく、特に大面積の単結晶ダイヤモンド膜を連続膜として有する積層基板を提供する。
【解決手段】少なくとも、単結晶MgO基板と、該MgO基板上にヘテロエピタキシャル成長させたイリジウム(Ir)膜と、該Ir膜上に気相合成させたダイヤモンド膜を有する積層基板であって、前記Ir膜の結晶性が、波長λ＝1.54ÅのX線回折法で分析したIr(200)帰属の2θ=46.5°または2θ=47.3°における回折強度ピークの半値幅(FWHM)が0.40°以下のものであることを特徴とする積層基板。 （もっと読む）

基板クリーニング装置を備えたコータを開示する。また、基板クリーニング装置を備えたコータにおける基板の処理方法も開示する。基板クリーニング装置は、イオン銃（つまり、イオン源）を備えている。イオン銃は、コータ内に延びている基板走行路の下方（例えば、基板支持部の下方）に配置され、基板の底主面の処理に適している。一定の実施形態は、基板走行路に沿って、基板クリーニング装置よりも先方に、上向コーティング装置を備えている。この種のいくつかの実施形態において、上向コーティング装置は、基板の底主面に対し、光触媒コーティングを上方に向かって堆積するように構成されている。本発明のある実施形態は、下向コーティング装置を備えており、基板クリーニング装置は、基板走行路に沿って、前記下向コーティング装置よりも先方にある。この種のいくつかの実施形態はまた、基板走行路に沿って、基板クリーニング装置よりも先方に、上向コーティング装置も備えている。
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【課題】印刷、ラミネート、製袋などの各種後加工が施されても、ガスバリア性が低下しない透明なガスバリア性積層フィルムを提供する。
【解決手段】透明プラスチックフィルムからなる基材層１の少なくとも片面に、厚さ５ｎｍ〜３００ｎｍの酸化アルミニウム蒸着薄膜層２と、続いて、厚さ１ｎｍ〜５ｎｍのアルミニウム蒸着薄膜層３と、さらに続いて、その上に重合しうるアクリル系のモノマー、又はモノマーとオリゴマーの混合物からなる未硬化のフラッシュ蒸着被膜層を硬化させてなるガスバリア性被膜層４を真空中において連続して順次積層してなることを特徴とする。 （もっと読む）

本発明の薄膜の形成方法は、基板を保持するための基板ホルダ１３の搬送速度を制御しながら、基板ホルダ１３を、中間薄膜形成工程を行う領域と膜組成変換工程を行う領域との間を繰り返し搬送させて、最終的に形成される薄膜の膜組成を調整し、ヒステリシス現象が起きる領域の光学的特性値を有する薄膜を形成する光学的特性調整工程とを備える。
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