【課題】 帯状可撓性基板を縦姿勢で搬送しつつも可撓性基板の下垂や皺の発生を抑制でき、高品質の製品を製造可能であると共に、可撓性基板の逆方向への搬送を含む成膜プロセスにも対応可能な薄膜積層体製造装置の基板位置制御装置を提供する。
【解決手段】 可撓性基板（１）の上側縁部を挟持する一対の挟持ローラ（１０３）と、前記一対の挟持ローラを回転可能かつ相互に接離可能に支持する支持機構（１０４）と、前記支持機構を介して前記一対の挟持ローラに加圧力を付与する付勢手段（１０５）と、前記加圧力の調整手段（１０６）と、を備えた基板位置制御装置（１００）において、前記一対の挟持ローラは、それぞれが基板幅方向縁端側に位置した大径部（１３１）と、前記大径部に対して基板幅方向中央側に位置した小径部（１３２）を有し、前記大径部および前記小径部のそれぞれの挟持部における回転方向が、前記基板の搬送方向と同方向になるように、前記支持機構によって支持されている。 （もっと読む）

【課題】挟持ローラの加圧力に比較して大きな把持力や展張力が得られ、可撓性基板の下垂や皺の発生を抑制して高品質の製品を製造可能であると共に、逆方向への搬送を含む成膜プロセスにも対応可能な薄膜積層体製造装置を提供する。
【解決手段】基板の上側縁部を挟持する複数対の挟持ローラ３１，３２、前記複数対の挟持ローラを回転可能かつ相互に接離可能に支持する支持機構３０、前記支持機構を介して前記複数対の挟持ローラに加圧力を付与する付勢手段３７を備え、前記複数対の挟持ローラは、それぞれが軸方向に対して傾斜した周面を有し、かつ、基板幅方向縁端側に位置した大径部および基板幅方向中央側に位置した小径部を有しており、それぞれの挟持部における回転方向が前記基板の搬送方向Ｆと同方向になるように直列配置されている。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、きわめて高いバリア性能を達成できるフィルムを提供することにあり、また該フィルムを有機光電変換素子用樹脂基材として用いること、また、該有機光電変換素子用樹脂基材を用いて耐久性の高い透有機光電変換素子等のデバイスを得ることにある。
【解決手段】基材上の少なくとも一方の面に、少なくとも１種の珪素化合物を含有する液体を塗布し２０℃〜１２０℃で塗布乾燥させ薄膜を形成した後に、前記薄膜に対し１４０℃以上での加熱処理を行うことなく、前記薄膜が塗布形成された基材上に、少なくとも１種の有機珪素化合物と酸素を含有する反応性ガスを用いるプラズマＣＶＤ法により、珪素酸化物の薄膜を積層することを特徴とするバリアフィルムの製造方法。 （もっと読む）

【課題】プラズマＣＶＤ膜層の密着性と耐擦傷性を高める
【解決手段】透明又は半透明プラスチック基板の表面に湿式法で硬化膜を形成し、その硬化膜上にプラズマＣＶＤ膜層を積層するプラスチック積層体の製造方法において、原料として少なくとも１種類のオルガノシロキサン又はオルガノシランの蒸気と共に酸素ガスを存在させ、且つ、成膜時間経過に伴って、オルガノシロキサン又はオルガノシランの供給速度及び酸素ガスの供給速度を増加させると共に、プラズマ発生電力を減少させてプラズマＣＶＤ膜層を積層する、プラスチック積層体の製造方法とする。 （もっと読む）

【課題】多種多様な用途に用いることができる撥水性を有する有機珪素化合物の蒸着膜を有する撥水性離型積層フィルム及びその製造方法を提供する。
【解決手段】プラズマ化学気相成長法(PE-CVD法)により、プラスチック基材上に炭素含有珪素化合物膜を形成させてなる撥水性離型積層フィルムの製造方法において、分子内にＳｉ−Ｏ結合を含有する有機珪素化合物を蒸着原料とし、前記有機珪素化合物ガスの蒸着時に酸素原子を含まないガス雰囲気下（無酸素状態雰囲気下）で、プラスチック基材をTg以下に冷却保持した状態で、プラズマ化学気相成長を行い、撥水性を有する炭素含有珪素化合物の蒸着膜をプラスチック基材上に成膜する。 （もっと読む）

【課題】メンテナンスに要する労力を軽減した成膜方法、成膜装置、および、これらの成膜方法または成膜装置で得られたガスバリアフィルムの製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の成膜方法は、長尺の基板をドラムの表面の所定の領域に巻き掛け、所定の搬送方向に搬送しつつ、この基板の表面に所定の膜を形成する成膜方法である。ドラムに対向して所定の距離離間して成膜電極が配置されており、成膜電極に高周波電圧を印加する高周波電源部、および膜を形成するための原料ガスをドラムと成膜電極との間に供給する原料ガス供給部が設けられている。膜の形成は、成膜電極に高周波電源部により電圧が印加されて形成される電界の範囲を、成膜に十分な量の反応ガスが供給された範囲よりも広くして行う。 （もっと読む）

【課題】 水蒸気に対するバリア性が高く、静電気障害を防止することができ、且つ、使用後においては焼却処理が可能で残滓が少ない電子部品の包装に使用する積層包装材料に適したガスバリア性帯電防止粘着フィルムを提供する。
【解決手段】 本発明に係るガスバリア性帯電防止粘着フィルムは、粘着剤層、ガスバリア性の積層フィルム、帯電防止層からなり、前記ガスバリア性の積層フィルムは、プラスチック材料からなる基材フィルムの片面に、透明ガスバリア層、ガスバリア性塗布膜、半透明金属薄膜層を積層し、さらに、ガスバリア性塗布膜と半透明金属薄膜層の間には、強密着処理層を設けた構成を基本構成としており、ガスバリア性塗布膜と半透明金属薄膜層とを直接積層するだけでは得られなかったガスバリア性の向上を生じさせるものである。 （もっと読む）

【課題】太陽電池の新たな用途展開の一環として、用途にあわせて太陽電池の意匠性、特に表面色のコントロール性に優れた太陽電池ユニットとその製造方法を提供する。
【解決手段】基板上に設けられた透明電極と対極の間にｐ型有機半導体材料とｎ型有機半導体材料とを含有する光電変換層を有する有機光電変換素子からなる太陽電池ユニットであって、光入射側の基材の透明電極とは反対側の面に少なくとも複数の異なる屈折率を有する材料から構成される可視光反射層を有すことを特徴とする太陽電池ユニット。 （もっと読む）

【課題】供給された基板の加熱時間の短縮ができ、タクトタイムの短縮を図ることができる真空処理装置の提供。
【解決手段】被処理基板１０は、連通領域９に移動可能に設けられたサセプタ１１，１２に載置される。搬送装置８は、基板搬入時および搬出時に連通開口１ａを閉鎖してロードロック室領域７を密閉する第１の位置へサセプタ１１，１２を搬送し、成膜処理時に連通開口１ｂを閉鎖して処理室領域４を密閉する第２の位置へサセプタ１１，１２を搬送する。サセプタ１１，１２が第１および第２の位置に搬送されると、連通開口１ａ，１ｂの周囲と載置台との間にＯリング４１，６２が挟持される。サセプタ１１，１２は、載置された被処理基板１０を加熱して所定温度に保持する載置部１０１と、載置部１０１に対して断熱的に設けられたシール部１０２とを有するので、Ｏリング４１，６２の熱劣化を防止することができる。 （もっと読む）

【課題】 長期間にわたって、基材フィルムと無機酸化物蒸着膜との間の高い密着性、及びそれに基く高いガスバリア性を維持することができる透明蒸着フィルム、並びにそれを使用した積層体を提供すること。
【解決手段】 プラスチック材料からなる基材フィルムの一方の面に、耐プラズマ保護層を設け、その上に、プラズマ化学気相成長法により無機酸化物蒸着膜を設けた透明蒸着フィルムであって、該耐プラズマ保護層が、フッ素系共重合体樹脂を含む上記透明蒸着フィルムとする。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、長期間にわたって、基材フィルムと無機酸化物蒸着膜との間の高い密着性、及びそれに基く高いガスバリア性を維持することができる透明蒸着フィルム、並びにそれを使用した積層体を提供すること。
【解決手段】 プラスチック材料からなる基材フィルムの一方の面に、耐プラズマ保護層を設け、その上に、プラズマ化学気相成長法により無機酸化物蒸着膜を設けた透明蒸着フィルムであって、該耐プラズマ保護層が、特定の粒子径のアルミナゾルを特定量含む上記透明蒸着フィルムとする。 （もっと読む）

【課題】 本発明の目的は、試料表面上にAu含有層を供するシステム及び方法を供することである。
【解決手段】 本発明は、試料表面上にAu含有層を供する方法を供する。当該方法は、Au(CO)Clを有する堆積流体を供する手順、前記試料表面の少なくとも一部の上に前記流体を堆積させる手順、及び、前記流体の少なくとも一部が上に堆積された前記試料表面に荷電粒子ビームを案内することで、前記試料表面上に前記Au含有層を生成する手順、を有する。
AU(CO)Clを荷電粒子誘起堆積用の前駆体として用いることによって、当技術分野において知られた方法と比較して、非常に高純度の金(Au)層を堆積することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】家電、家屋に好適に使用できる真空断熱材を提供する。
【解決手段】芯材が、ガスバリア層と熱融着性樹脂層とを積層してなる真空断熱材用ガスバリア性積層フィルムで減圧密封された真空断熱材であって、前記ガスバリア層は、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムの両面に珪素含有蒸着膜が１５０〜４０００オングストロームの厚さで積層され、かつ前記蒸着膜にそれぞれに所定のガスバリア性組成物によるガスバリア性塗布膜が設けられたガスバリア性フィルムである。得られる真空断熱材は、ガスバリア性および断熱性に優れる。 （もっと読む）

【課題】家電、家屋に好適に使用できる真空断熱材を提供する。
【解決手段】芯材が、２層のガスバリア層と熱融着性樹脂層とを積層してなる真空断熱材用ガスバリア性積層フィルムで減圧密封された真空断熱材であって、前記ガスバリア層の少なくとも１層は、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムの両面に珪素含有蒸着膜が１５０〜４０００オングストロームの厚さで積層され、かつ前記蒸着膜にそれぞれに所定のガスバリア性組成物によるガスバリア性塗布膜が設けられたガスバリア性フィルムである。得られる真空断熱材は、ガスバリア性および断熱性に優れる。 （もっと読む）

ロールツーロールＣＶＤシステムは、ＣＶＤ処理の際、堆積チャンバを通して、ウェブを搬送する、少なくとも２つのローラーを含む。堆積チャンバは、少なくとも２つのローラーによって搬送される間、ウェブを通過させるための通路を画定する。堆積チャンバは、複数の処理チャンバのそれぞれ内に別個の処理化学物質を維持する、障壁によって隔離される、複数の処理チャンバを含む。複数の処理チャンバはそれぞれ、ガス流入ポートおよびガス排出ポートと、複数のＣＶＤガス源とを含む。複数のＣＶＤガス源のうちの少なくとも２つは、複数の処理チャンバのそれぞれのガス流入ポートに連結される。
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【課題】基板の裏面温度を上げないで表面の膜を加熱処理する方法として、加熱した熱容量の大きい固体を瞬時に接触させ離す方法がある。例えば基板に加熱したローラを回転させ線接触させる。しかし、基板のたわみやゴミなどで、基板の支持台との熱接触が均一にできないという課題がある。このために、大面積基板の均一な再現性のある熱処理が可能でなかった。
【解決手段】支持台と基板の間に粘性材を挿入する。均一な再現性のある熱接触が可能となった。屈曲可能なシート状の樹脂基板上の塗布膜に回転加熱ローラを接触させて膜を焼成する熱処理が可能となった。 （もっと読む）

基材（６）およびプラズマ成長層（６ａ）を含む基材構造。得られる基材構造（７）の表面は、相関するスケーリング成分により特徴づけられる。該スケーリング成分は、粗さ指数α、成長指数βおよび動的指数ｚを含み、該成長指数βは０．２未満の値を有し、該動的指数ｚは６を超える値を有する。そのような基材構造を提供するための方法も開示する。 （もっと読む）

【課題】 ガスバリア性のみならず耐久性にも優れる、有機／無機酸化物のガスバリア積層体を提供する。
【解決手段】 有機化合物層と、その上の珪素原子含有化合物層と、その上の酸化物無機化合物層とを有することにより、前記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】ポリアセタール樹脂等、接着性、塗装性が良好でない樹脂成形品の表面に塗料等の表面層を形成する場合の接着性、塗装性を、上記従来の表面粗化の処理方法等に比べて著しく向上させることができ、従って、塗料等の表面層の剥離防止効果が良好となる、樹脂成形品の表面処理方法、及びその表面処理後の形成される表面層を有する樹脂成形品の製造方法を提供することを課題とする。
【解決手段】樹脂成形品の表面を、酸素を用いてプラズマ処理する酸素プラズマ処理によって前記樹脂成型品表面に水酸基を導入し、導入された水酸基、及び該水酸基と空気中の水分子との相互作用により前記樹脂成形品の表面に付与される水によって、該樹脂成形品の表面を改質することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 撥水性に優れる撥水層を、真空排気やガス置換等を行うことなく、簡易な条件および装置で製造することができる撥水層の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 本発明の撥水層の製造方法は、フッ素を含有する撥水層の製造方法であって、大気圧下、フッ素原子および水素原子を含むガス、ならびに不活性ガスを含むガス中において、プラズマ放電処理により、フッ素含有層を形成するフッ素含有層形成工程と、前記フッ素含有層の表面に溶剤を接触させる溶剤処理工程とを含み、前記フッ素含有層形成工程の前記ガス中の前記フッ素原子数（Ｘ）および前記水素原子数（Ｙ）の割合（Ｘ／Ｙ）が、８以下であることを特徴とする。 （もっと読む）