【課題】突発故障時においてＣＶＤ装置を停止させることなく運用可能であって、基体を運搬する移動装置が休むことなく効率的に稼働する生産効率のよいＣＶＤ装置及びＣＶＤ方法を提供することである。
【解決手段】ＣＶＤ法によって基体に成膜する成膜室を備えた成膜チャンバーと、基体を仮置きする基体仮置き装置とをそれぞれ複数台備えて一群の成膜グループを構成し、当該成膜グループに属する成膜チャンバーと基体仮置き装置との間で基体の受渡しを行うグループ付移動装置を有し、前記成膜グループとグループ付移動装置の組み合わせを複数組備え、それぞれのグループ付移動装置が他の成膜グループに属する成膜チャンバー又は基体仮置き装置と相互に基体の受渡しを行うことのできるＣＶＤ装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】長尺な基板をドラムに巻き掛けて長手方向に搬送し、かつ、ドラムに電力を供給しつ成膜行なう成膜装置であって、ドラムと基板との接触位置やドラムから基板の剥離位置における異状放電を抑制し、異状放電に起因する膜質劣化等を好適に抑制できる成膜装置を提供する。
【解決手段】ドラム３０と基板Ｚとの接触位置および／またはドラムから基板の剥離位置に、基板の幅方向の外側にドラムに対面して、多数の貫通孔を有し、かつ、導電性で接地されるアース板を配置する。 （もっと読む）

【課題】 複数本のボトルの処理を可能とするとともに、ボトルの内面全体に良質な薄膜を形成可能とする。
【解決手段】 チャンバ１１ａにマイクロ波を供給する同軸導波管２３ａと、チャンバ１１ａの内部に原料ガスを供給するガスノズル１２と、チャンバ１１ａが載置された基台１３ａとを備え、同軸導波管２３ａが、内部導体２３ａ−２を有し、ガスノズル１２が、内部導体２３ａ−２の中心軸からずれた位置に配置された。 （もっと読む）

【課題】ＳｉＯＣＨ組成を有し、特定の構造を有する炭化水素基置換ケイ素化合物を原料としてＣＶＤにより得られる炭素含有酸化ケイ素膜から成る封止膜及びその膜を含むガスバリア部材、ＦＰＤデバイス及び半導体デバイスの提供。
【解決手段】二級炭化水素基、三級炭化水素基、及び／又はビニル基がケイ素原子に直結した構造を有する有機ケイ素化合物、例えば下記式（１）を原料として用い、ＣＶＤにより形成した炭素含有酸化ケイ素からなる封止膜である。式中、Ｒ^１，Ｒ^２，Ｒ^３は炭素数１〜２０の炭化水素基を表す。Ｒ^４は炭素数１〜１０の炭化水素基または水素原子を表す。ｍは１乃至３の整数、ｎは０乃至２の整数を表し、ｍ＋ｎは３以下の整数を表す。
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【課題】機能性微粒子の純度を高めつつ、機能性微粒子を含む機能膜を基材の表面に安定して形成すること。
【解決手段】開放型で不活性ガスを用いて雰囲気制御を行うヘッド２４を用いて、液中の機能性微粒子４をミストジェット技術にて所望の分布で基板３上に吐出させる工程と、その後に大気圧プラズマ化学輸送法により薄膜８を成膜させる工程とを交互に繰り返す。 （もっと読む）

【課題】長尺な基板を長手方向に搬送しつつ、ドラムに巻き掛けて、基板の表面に膜を形成する際に、ドラムに電位を印加して成膜を行なう場合であっても、基板がドラムから剥離する際の剥離放電の発生を抑制して、これにより、高品質な膜を効率よく連続成膜することができ、かつ、基板の損傷を防止することができる成膜方法を提供する。
【解決手段】基板がドラムから剥離する位置である剥離位置において、基板とドラムとの間に気体を吹き付けることで上記課題を解決する。 （もっと読む）

等しい荷重下で、等しい寸法のポリエチレンテレフタレートフィルムの少なくとも２倍の引張伸びを有する高分子フィルムと、平坦化層と、ケイ素、炭素、及び水素を含むプラズマ蒸着非晶質ガラス層と、を含み、平坦化層が高分子フィルム上に配置され、非晶質ガラス層が平坦化層上に蒸着され、２％〜２０％の範囲内の引張伸びを受けた後、十分な適合性を有し、伸ばされる前と比較して本質的に不変の水蒸気透過度を有する、適合性バリアシートと、適合性バリアシートの作製方法と、適合性バリアシートを含む経皮用品と、該用品を使用して哺乳動物に薬物を送達する方法と、適合性バリアシートを使用して物品を保護する方法と、を提供する。
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【課題】電極を大面積化しても、電極の中心部と電極の周辺部とでプラズマ生成空間におけるガスの組成が異なることを抑制できるようにする。
【解決手段】成膜室１００は、第１電極１２０及び第２電極１４０を有している。第１電極１２０には高周波が入力される。第２電極１４０は、第１電極１２０に対向して配置され、孔を有するフレキシブル基板１０が接する。第２電極１４０には、排気孔が形成されている。排気孔は、フレキシブル基板１０の孔を介して第１電極１２０及び第２電極１４０の間のプラズマ生成空間を排気する。 （もっと読む）

【課題】赤外線領域での遮熱性能に優れ、色味調整が容易で、誘電体膜積層膜のクラック耐性、耐衝撃性に優れ、低ヘイズで、耐久性（耐光性）に優れた誘電体膜積層体と、その製造方法を提供する。
【解決手段】基材上に、無機顔料を含有する層と、低屈折率誘電体膜と高屈折率誘電体膜とを交互に積層した誘電体膜ユニットとを有することを特徴とする誘電体膜積層体。 （もっと読む）

【課題】耐熱性の低い基板に、導電性の制御された半導体膜を成膜する半導体膜の成膜方法を得ること。
【解決手段】ドーパントがドープされたシリコン粒子１３を汎用エンジニアリングプラスチックを材料として形成された可撓性を有するフレキシブル基板である基板１０に塗布する粒子塗布工程と、シリコン粒子１３が塗布された基板１０上に、水素ガスを含む混合ガスの雰囲気中でのプラズマＣＶＤによってシリコン膜１４を成膜する成膜工程と、を含む。 （もっと読む）

【課題】容器の膨張を抑制してガスバリア被膜が容器の膨張により損傷を受けることを防止することができる安価な炭酸飲料用ポリエステル樹脂製容器を提供する。
【解決手段】炭酸飲料用ポリエステル樹脂製容器１は、少なくとも胴部５を含む容器外面側の領域を被覆する熱収縮ラベル９を備える。熱収縮ラベル９は、３７℃の温度下、引張速度１ｍｍ／分で測定した、０〜２％の伸張範囲における横方向引張弾性率Ｅ（ＭＰａ）とラベルの膜厚ｄ（ｍｍ）との積Ｅ×ｄで表される復元定数Ｆ（Ｎ／ｍｍ）が、Ｆ＞１１５０−４０００ｔ（ｔは容器の胴部平均肉厚）の範囲にある。 （もっと読む）

流体分配マニホールドは、第１のプレートと第２のプレートとを備える。少なくとも第１のプレートおよび第２のプレートの少なくとも一部は、レリーフパターンを画成する。レリーフパターンによって画成される流体流配向パターンを第１のプレートおよび第２のプレートが形成するように、第１のプレートと第２のプレートとの間に金属結合剤を配設する。
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流体分配マニホールドは第1プレート及び第2プレートを有する。前記第1プレートは、長さ次元、幅次元、並びに、前記第1プレートの長さ次元及び幅次元のうちの少なくとも1つにわたって前記第1プレートを変形可能にする厚さを有する。前記第2プレートは、長さ次元、幅次元、並びに、前記第2プレートの長さ次元及び幅次元のうちの少なくとも1つにわたって前記第2プレートを変形可能にする厚さを有する。少なくとも前記第1プレート及び前記第2プレートの少なくとも一部は、流体流を導く流路を画定する凹凸パターンを画定する。前記第1プレート及び前記第2プレートは1つとなって、前記長さ次元と前記幅次元のうちの少なくとも1つに沿った高さ次元において非平面形状を形成する。
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【課題】ガラスに替わる電極フィルムとしての、耐熱性、透明性、カール、寸法変化、耐久性をすべて兼ね備えたガスバリアフィルムを提供する。
【解決手段】環状オレフィンとエチレンとの共重合比率が、８０：２０〜９０：１０であり、ガラス転移温度が１７０℃以上の環状オレフィンの付加（共）重合体よりなるフィルムシート１０の少なくとも片面に、プラズマ化学気相成長法によって厚み３０〜３００ｎｍの酸化珪素膜１２を形成することによって、水蒸気透過度が０．３ｇ／ｍ²・ｄａｙ以下にされたガスバリアフィルム。 （もっと読む）

ＡＬＤ薄膜堆積のシステム２００，３００および方法は、複数の分離された前駆体ゾーン２１４，２１６，３１４，３１６を含んだ移動を基本としたプロセスにおいて、過剰の化学吸着されていない前駆体を基板２１０，３１０の表面から除去する過剰の前駆体を除去する機構２８０，３８０を備える。過剰の前駆体を除去する機構２８０，３８０は、過剰の前駆体を、分離された前駆体ゾーンに達する前に遊離させるために、局所化された高温状態、高エネルギー状態または過剰の前駆体の共沸混合物を導入し、これにより、熱による基板の分解を生じさせることなく、ＣＶＤ堆積の発生を防止する。 （もっと読む）

本発明は、ポリマー基板上に層を形成する方法において；少なくとも１つの前駆体とポリマー基板を接触させるステップと、紫外線光を適用して少なくとも１つの前駆体を分解させ、ポリマー基板上に層を被着させるステップと、を含む方法を提供している。同じく提供されているのは、ポリマー基板の入った容器内に亜鉛とドーパントを含む少なくとも１つの前駆体を導入するステップと、紫外線光を適用して少なくとも１つの前駆体を分解させ、ポリマー基板上にドープ酸化亜鉛を含む層を被着させるステップと、によって得られる、ポリマー基板上に被着された酸化亜鉛を含むドープ層である。 （もっと読む）

【課題】パッシベーション層本来の性能を低下させることなく、有機エレクトロルミネッセンス基板上の電極接続部にのみパッシベーション層が被覆しないようにパターニング成膜することのできる有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法とそれに用いるマスクを提供する。
【解決手段】基板と、前記基板上に、第一電極と、前記第一電極上に有機発光層を含む有機発光媒体層と、前記有機発光媒体層を挟んで第一電極と対向するように第二電極を有し、前記第二電極上にパッシベーション層を有し、前記パッシベーション層上に接着層を有し、前記接着層上に封止基板を有する有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法において、前記パッシベーション層は、マスク開口部の上下端に突起部を設けたパッシベーション層成膜用マスクを用いて、ＣＶＤ法によりパターニング成膜される。 （もっと読む）

【課題】製造コストを低減することができ、かつ、歩留まりの高い薄膜トランジスタを提供することにある。
【解決手段】本発明の実施の形態１に係る薄膜トランジスタの製造方法は、絶縁基板１０の上に少なくともゲート電極１１、ゲート絶縁層１２、半導体層１３、ソース電極１４、ドレイン電極１５及び保護層１６を具備する薄膜トランジスタの製造方法であって、保護層１６が真空紫外光ＣＶＤ法により形成されるものであり、ゲート絶縁層１２の上の全面に保護層１６となる膜を成膜する工程と、保護層と１６なる膜をパターニングなしにエッチングしソース電極１４とドレイン電極１５の表面を露出させ保護層１６のパターンを形成する工程と、を具備する。 （もっと読む）

【課題】十分なガスバリア性を有しており、しかもフィルムを屈曲させた場合においてもガスバリア性の低下を十分に抑制することが可能なガスバリア性積層フィルムを提供する。
【解決手段】基材と、前記基材の少なくとも片方の表面上に形成された少なくとも１層の薄膜層とを備えるガスバリア性積層フィルムであって、前記薄膜層のうちの少なくとも１層が珪素、酸素及び炭素を含有しており、且つ、該層の膜厚方向における該層の表面からの距離と、珪素原子、酸素原子及び炭素原子の合計量に対する珪素原子の量の比率（珪素の原子比）、酸素原子の量の比率（酸素の原子比）及び炭素原子の量の比率（炭素の原子比）との関係をそれぞれ示す珪素分布曲線、酸素分布曲線及び炭素分布曲線において、規定の条件満たすことを特徴とするガスバリア性積層フィルム。 （もっと読む）

【課題】気化室に対して改質剤化合物を供給する際の温度変化の影響を排除し、ひいては、燃料ガス中に含まれる改質剤化合物の濃度変化が少ない表面改質装置等を提供する。
【解決手段】改質剤化合物を貯蔵するための貯蔵室と、所定温度下に蒸発させ、気体状態の改質剤化合物を生成するための気化部と、気化部に、キャリアガスを導入し、気体状態の改質剤化合物を、噴射部に移送するための移送部と、改質剤化合物を含む燃料ガスに由来した火炎を吹き付けるための噴射部と、を含む表面改質装置等であって、気化部が、少なくとも第１の気化室及び第２の気化室を含む複数の気化室を備えるとともに、当該第１の気化室及び第２の気化室を交互使用するための切替装置を備えることを特徴とする。 （もっと読む）