【課題】 基板を処理するための方法を提供することである。
【解決手段】 基板を処理する方法は、プラズマ空間を規定するために構成される第１のチャンバ部分と、処理空間を規定するように構成された第２のチャンバ部分とを有する処理チャンバに基板を配置することと、プラズマ空間に第１のガスを導入することと、処理空間に第２のガスを導入することとを含む。プラズマは、上部チャンバ部分に結合されたプラズマソースを使用して第１のガスからプラズマ空間に形成される。プラズマがプラズマ空間から処理空間へと拡散することができるように、基板を処理するためのプロセス化学は、第１のチャンバ部分と、第２のチャンバ部分との間に配置されたグリッドを提供することによって処理空間に形成される。 （もっと読む）

【課題】 過酷な耐蝕性試験でも反射率が劣化することがないＡｇ系反射膜およびその作製方法の提供。
【解決手段】純Ａｇ膜や、ＡｇＡｕ系、ＡｇＡｕＳｎ系、ＡｇＰｄ系、ＡｇＰｄＣｕ系の合金膜に、極薄のキャップ層として、ＩＴＯ、ＺｎＯ、ＩＺＯおよびＳｎＯ_２の金属酸化物、Ｓｉ、Ａｌ、ＴｉおよびＴａの酸化物、ならびにＳｉ、Ａｌ、ＴｉおよびＴａの窒化物から選ばれた材料で構成された膜厚３〜５０ｎｍの膜を積層して２層膜とする。 （もっと読む）

【課題】光放射による、システムコンポーネントの腐食のモニタリング
【解決手段】プラズマ処理システムにおけるシステムコンポーネントの腐食をモニタリングする方法及びシステム（２１）が提供される。前記システムコンポーネントは、プラズマにさらされたときに、特徴のある蛍光放射を生成することが可能なエミッタを含む。前記方法は、前記エミッタからの蛍光放射をモニタリングしてシステムコンポーネントの状態を判断するために、光放射を利用する。前記方法は、前記エミッタからの蛍光放射をモニタリングすることにより、プラズマ中のシステムコンポーネントの腐食を評価することができる。前記方法を用いてモニタリングすることができる消耗するシステムコンポーネントは、リング（６０、６２）と、シールド（１４）と、電極（２４）と、バッフル（６４）と、ライナとを含む。
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【課題】 基板処理装置において取扱いが容易であり、且つ、ダイヤモンドの気相成長温度と同程度の高温にも耐えられるダイヤモンド基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 ダイヤモンド基板１０は、第１の領域ｒ１と第１の領域ｒ１を取り囲む第２の領域ｒ２とを含む主面３ａを有する基板３と、主面３ａの第１の領域ｒ１上に設けられた板状の単結晶ダイヤモンド部５と、主面３ａの第２の領域ｒ２上に設けられた層状の多結晶ダイヤモンド部７とを備える。単結晶ダイヤモンド部５は、多結晶ダイヤモンド部７によって基板３に固定されている。基板３は、窒化ケイ素、炭化ケイ素、窒化アルミニウム、酸化アルミニウム、石英、モリブデン、ニオブ、タングステン、ムライト及びコージライトのうち少なくとも一つの材料を含有する。 （もっと読む）

【課題】被処理体が大口径化してもその膜厚の面内均一性を向上させることができるプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】気密な処理容器４内に配置され、サセプタ６上に載置された被処理体Ｗに対してプラズマ処理を施すプラズマ処理装置において、アンテナ部材２２と、アンテナ部材に接続された高周波電源３２と、複数の処理ガス供給通路５６Ａ，５６Ｂを備え、処理ガス供給通路と連通する処理ガス噴出孔から処理容器内に処理ガスを供給するためのガス供給部と、処理容器内を排気するための排気口５８Ａ，５８Ｂとを備え、ガス供給部は、処理ガス供給通路と連通する処理ガス噴出孔の位置が、処理容器の周方向に位置し、略均等に配置されて、処理容器内の中心部に向かって処理ガスを放出する。これにより、成膜の厚みの面内均一性を大幅に向上させることができる。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、高分子樹脂からなるフレキシブル基材上に酸化ケイ素膜や窒化ケイ素膜などの無機化合物層を設け、その無機化合物層の表面に密着力の優れた活性エネルギー線又はプラズマ照射により硬化する有機化合物からなる有機保護膜を真空中で形成する積層体の製造方法を提供するものである。
【解決手段】基材上に、無機化合物層、有機化合物層を設けてなる積層体の製造方法であって、前記有機化合物層が２種以上の（メタ）アクリル化合物を真空中で逐次凝集させた後、活性エネルギー線又はプラズマを照射し、硬化させることにより設けることを特徴とする積層体の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】パッシベーション膜であるプラズマＣＶＤ法により形成されるシリコン窒化膜と下地絶縁膜、特に、ＴＥＯＳガスを原料としてプラズマＣＶＤ法により形成されるシリコン酸化膜との界面の密着性を向上させ、後工程で界面が剥離することを防止することのできる半導体装置の製造方法を提供することにある。
【解決手段】配線が形成された半導体基板の表面の全面にＣＶＤ法によって下地絶縁膜を堆積し、この下地絶縁膜上にプラズマＣＶＤ法によってシリコン窒化膜を堆積するにあたって、下地絶縁膜の表面に窒素ガスまたはアンモニアガスのプラズマを照射してから、プラズマＣＶＤ法によるシリコン窒化膜の堆積を行う半導体装置の製造方法。 （もっと読む）

【課題】
画像表示装置に適した金属部材を提供できる画像表示装置用金属部材の製造方法を提供する。
【解決手段】
減圧雰囲気中で金属基板２１の両面に原料ガスを吹き付け、ＣＶＤ法によって表面層を成長させる。金属基板２１に交流電圧を印加すると、成膜速度を速くすることができる。開口率が高く、熱損傷(変形、酸化)が無く、絶縁信頼性の高い画像表示装置用金属部材が安価に得られる。 （もっと読む）

【課題】 熱ＣＶＤ法とプラズマＣＶＤ法が有する特長を併せ持つことにより、比較的大面積の基板上にカーボンナノチューブ等のナノ構造材料を高い生産性にて製造することができるとともに、高品質ＺｎＯ薄膜やｐ型ＺｎＯの製造にも適用することが可能なナノ構造材料製造装置及び製造方法を提供すること。
【解決手段】 反応室と、該反応室内に原料ガスを供給する原料ガス供給手段と、該反応室内を真空状態とする真空排気手段と、該反応室内を加熱する加熱手段と、該反応室内にプラズマを生成するプラズマ生成手段と、該反応室内に設けられた基板ホルダーと、該基板ホルダーにバイアス電圧を印加可能なバイアス印加手段とを具備し、加熱手段が電気炉であり、プラズマ生成手段が該電気炉外に配置されてなるナノ構造材料製造装置とする。 （もっと読む）

【課題】 本発明の課題は、アルカリ性溶液に浸しても基材とガスバリア層の剥離がなく、かつ安定したバリア性能を保つことのできる積層体、及びその製造方法を提供するものである。
【解決手段】 高分子樹脂基材上にガスバリア層、窒化珪素薄膜が形成されてなる積層体であって、ｐＨ１４以上のアルカリ性溶液に１分間浸漬した後の、ＪＩＳＫ５６００−５−６に規定する密着強度試験で１ｍｍのカット間隔で剥離がないことを特徴とするガスバリア積層体とするものである。 （もっと読む）

【課題】 良好な透明性、屈折率、ＵＶ吸光度、気体／水分遮蔽及び加水分解安定性などの特性をもつ高品質ＴｉＯ_２コーティングを高速で形成する。
【解決手段】 基板（１２）と基板（１２）に設けられた酸化チタン層（１４）を含む構造体を提供する。基板（１２）上に酸化チタンコーティング（１４）を形成する方法も提供する。この方法は、プラズマを発生させる段階、基板（１２）へと至るプラズマ流中にチタンを含む第一の反応体と酸素を含む第二の反応体を供給する段階、及び基板（１２）上に酸化チタンコーティング（１４）を形成する段階を含む。
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【課題】プラズマを発生させる電極等を含む導電体の地絡を断って確実な絶縁状態を確保して安定した動作を得るとともに、小型でありつつ大面積基板の製造に対応しうる強度を確保した絶縁碍子及びこれを具備するプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】絶縁により導電体の地絡を防止しつつ接続される絶縁碍子において、前記ラダー電極１３と直に接続される絶縁体からなる内側部材６１と、該内側部材６１の外周部を覆うように離間配置された外側部材６２と、該内側部材６１と該外側部材６２との間に配置されるとともにこれら両部材と接することによって位置関係を保持する螺旋構造体６３とが備えられてなり、前記内側部材６１は、この内部にガスを導通させる流路Ｆを備えてなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 種々の要因により発生した揺らぎについて対応でき、またプラズマ密度の揺らぎに対して高い制御性を持つプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】 プラズマを発生し、被処理物をプラズマ処理する反応チャンバと、前記プラズマからの発光量を抽出する抽出部と、予め定められた処理条件の範囲内で、前記発光量に基づいて前記プラズマ密度をするパラメータ群の一つを可変制御してプラズマ状態を制御する。プラズマからの発光を分光せず検出するため、プラズマからの発光強度に強く依存するプラズマ密度を、分光を行なって制御する従来の方法と比べ、高いＳＮ比を確保して制御することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】 チャンバ内の電界強度分布の偏りにより膜質の均質性が悪くなるのを防止するとともに、成膜対象物の熱変形を無くし、かつ、成膜対象物全体のバリヤ性能の向上を図る。
【解決手段】 マイクロ波処理装置３０のチャンバ３２の側面３３には、マイクロ波導入口３４が複数形成されている。一台のマイクロ波発振器１０から出力されたマイクロ波（ＭＷ）が、Ｔ字分岐管２１で分岐され、同軸ケーブル２２ａ，２２ｂ及び導波管２３ａ，２３ｂによりそれぞれ別個に伝達されて、複数のマイクロ波導入口３４からチャンバ３２内部へ供給される。これにより、チャンバ３２の内部へは、マイクロ波導入口３４が形成された複数箇所から、マイクロ波が供給される。 （もっと読む）

【課題】無色透明で、加熱しても優れたガスバリア性を保持できる内面被覆プラスチック容器及びその製造方法を提供する。
【解決手段】内面側に被覆層２と被覆層３とからなるガスバリア被覆層４を備える。被覆層２は、有機珪素化合物を含む出発原料からプラズマＣＶＤにより容器１の内表面上に形成された有機珪素化合物のプラズマ重合体を含む珪素含有被膜であり、５０〜７００オングストロームの厚さを備え珪素と酸素との原子比が１／１．５〜１／２．３である。被覆層３は、炭素化合物を含む出発原料からプラズマＣＶＤにより被覆層２上に形成されたアモルファスカーボン被膜であって１０〜３００オングストロームの厚さと５５×１０^−３Ｎ／ｍ以下の表面張力とを備える。容器１の胴部におけるガスバリア被覆層４形成前後の着色透明度の変化が、Ｌ^＊ａ^＊ｂ^＊表色系により算出されるΔＥ^＊値で２．５以下である。バリア性指標値が５．０以上である。 （もっと読む）

【課題】消耗品の寿命を判断する方法及び装置
【解決手段】ガス注入システムを備えるプラズマ処理装置であって、前記ガス注入システムは、ガス注入アセンブリボディと、前記ガス注入アセンブリボディに結合された消耗できるガス注入プレートと、前記ガス注入システムボディと前記消耗できるガス注入プレートにとよって形成されたガス注入プレナムに結合された圧力センサとを備える。前記ガス注入システムは、少なくとも１つのマスフローコントローラからプロセスガスを受取り、前記プロセスガスを、前記プラズマ処理装置内の処理領域に供給するように構成されており、前記圧力センサは、前記ガス注入プレナム内のガス注入圧力を測定するように構成されている。 （もっと読む）

【課題】 水分含有量が６０×１０^−９体積比以下のＣ₅Ｆ₈ガスを用いて、フッ素添加カーボン膜を成膜することにより、熱的安定性に優れたフッ素添加カーボン膜を得ること。
【解決手段】 Ｃ₅Ｆ₈ガスの供給源１と、ウエハＷに対してＣ₅Ｆ₈ガスをプラズマ化させてフッ素添加カーボン膜を成膜する成膜処理部３との間に、親水性又は還元作用のある表層を備えた物質を充填した精製器２を設け、Ｃ₅Ｆ₈ガスを精製器２に通気させることにより、Ｃ₅Ｆ₈ガスの水分を除去し、例えば水分含有量が２０×１０^−９体積比程度のＣ₅Ｆ₈ガスを成膜処理部３に導入し、フッ素添加カーボン膜を成膜する。このようすると、成膜されたフッ素添加カーボン膜に取り込まれる水分量が極めて少なくなり、後の加熱工程にて膜中の水分に起因するフッ素の脱離が発生しにくくなり、膜の熱的安定性が高められる。 （もっと読む）

【課題】 発光強度の測定位置やクリーニング条件、プラズマの変動などの要因に影響されることなく、確実にクリーニングの終点検出を行なう。
【解決手段】 成膜処理済みのウエハＷをチャンバー２から搬出した後、チャンバー２内を減圧し、ガス導入口７からクリーニングガスを導入する。高周波電源３０からシャワーヘッド５に高周波電力を印加し、上部電極としてのシャワーヘッド５と下部電極としてのサセプタ３との間に高周波電界を生じさせ、クリーニングガスをプラズマ化する。クリーニング中は、チャンバー２内のプラズマ中のラジカルの発光強度を分光器２２によって測定し、クリーニングの進行に伴って減少するスペクトル（Ｄ）と、クリーニングの進行に伴って増加するスペクトル（Ｉ）との比Ｄ／Ｉを自動的に求め、チャート化することにより、クリーニングのエンドポイントを検出する。 （もっと読む）

【課題】 従来の方法に比べてより短時間で生成物の除去が可能であり、より精度良く終点検知が可能な生成物の除去方法を提供する。
【解決手段】 反応容器１０１又は該反応容器と連通する配管１０８内の生成物を化学反応によって除去する方法であって、反応容器１０１内に生成物除去用ガスを流す工程と、反応容器１０１又は配管１０８の少なくとも一箇所以上の壁面の温度を測定し、該温度が所定の値になった際に、前記化学反応の条件を、前記化学反応がより促進される条件に変化させる工程を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高速かつ簡単なコーティング・シーケンスの監視を可能にし、それによってプラズマ・コーティングした加工品の品質を改善すること。
【解決手段】本発明はプラズマ化学蒸着法を用いて加工品をコーティングする方法を提供するものであり、この方法ではプロセス・ガスがコーティング室に導入され、プラズマが加工品に隣接しかつプロセス・ガスが存在しているコーティング室の少なくとも１つの領域において電磁エネルギを用いて点火され、このコーティング操作はプラズマの少なくとも１つの測定されたスペクトル・パラメータに基づいて監視され、パラメータの所望の範囲からずれている場合には加工品が取り出される。 （もっと読む）