【課題】
ＶＨＦあるいはＵＨＦプラズマのＣＶＤ及びエッチング等基板の表面処理への応用において、ＶＨＦあるいはＵＨＦプラズマ特有の定在波の影響を抑制することにより、大面積・均一のプラズマ表面処理が可能な表面処理装置および表面処理方法を提供すること。
【解決手段】
電極間に電磁波の定在波の腹の位置が異なる複数の定在波を発生させ、かつ、それらを重畳させる手段を備えたことを特徴とする大面積・均一のプラズマの発生が可能なＶＨＦプラズマ発生装置、該装置により構成されたＶＨＦプラズマ表面処理装置及び表面処理方法。 （もっと読む）

【課題】一方においては層成長の方向において殆ど均一な微結晶構造を有し、即ち均一な構造特性を有し、そしてもう一方においては僅かな量の水素しか使用されない、微結晶珪素層の製造方法の提供。
【解決手段】この課題は、プラズマ室中で基体上に珪素を析出される方法において、プラズマ室に反応性の珪素含有ガスおよび水素を用意し、プラズマ発生を開始し、プラズマ発生開始後プラズマ室に少なくとも反応性の珪素含有ガスを連続的に供給し、そして同時に該プラズマ室中に存在するガス混合物の少なくとも一部を該室から排除し、その際にプラズマ室中に導入されたガス全体流[sccm]が、被覆すべき基体表面積[100 cm²]を基準として析出速度 [A/s] との関係で１０[sccm*s/100*cm²*A]を超えず、好ましくは６[sccm*s/100*cm²*A]を超えず、水素の存在下に均一な微結晶珪素を基体上に析出させる
各段階を含む、上記方法によって解決される。 （もっと読む）

【課題】
大面積基板に均一な膜厚及び膜質分布で成膜できるプラズマ処理方法及び装置を提供する。
【解決手段】
電極の離間した複数の位置に複数のパルス変調された高周波電力を供給する高周波電力供給手段が設けられ、複数のパルス変調された高周波電力をそれぞれ電極表面上に全体的に伝播するように構成される。 （もっと読む）

【課題】 基材やフィルムなどの移動体に生じる皺を抑制して、製膜の均一化を図る。
【解決手段】 この薄膜形成装置には、互いの放電面が対向して放電空間を形成するように配置され、放電空間内に高周波電界を発生させる一対の電極と、放電空間内に発生した高周波電界に対してガスを供給し放電プラズマを発生させるガス供給部と、放電空間内で一対の電極のうち、少なくとも一方の電極に沿いながら放電プラズマに晒されるように移動体を移動させる移動機構とが備えられている。少なくとも一方の電極には、当該電極に移動部材を吸着させる吸着手段が設けられている。 （もっと読む）

【課題】誘電体で表面が覆われた棒状の導体で構成した複数のアンテナ素子を、平行かつ平面状に配したアレイアンテナを用いて、プラズマを生成させる際、プラズマが均一となるように、インピーダンス整合を容易に行う。
【解決手段】複数のアンテナ素子２２を、平行かつ平面状に配したアレイアンテナを用いて、プラズマを生成させる際、インピーダンス整合器２６の容量素子の容量及び高周波信号の周波数を変化させて、インピーダンス整合を行う。 （もっと読む）

【課題】 放電空間が１つのチャンバー内に複数あり、それぞれの電極に均等に電力を導入することのできるプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】 反応容器としての密封可能なチャンバー３があり、その内部中央に、１つのアノード電極４がチャンバー３の底面に対して略垂直に配置されている。アノード電極４の左右両面には、被処理物であるガラス基板１，１が配置されている。カソード電極２，２へは、１個のプラズマ励起電源８により電力が供給される。電源８とチャンバー３との間には、カソード・アノード電極２，４および電源８の間のインピーダンスを整合する１個のマッチングボックス７が配設されている。電源８とマッチングボックス７とは１本の電力導入線１０で接続されている。電力導入線１０は、マッチングボックス７からカソード電極２までの間で２本に分岐され、分岐された部分からは対称に延びている。 （もっと読む）

【課題】高密度プラズマ化学気相蒸着による絶縁膜の蒸着時、ウェハー５０の中央部が非対照的に厚くまたは薄くなり、後続の化学機械研磨工程における研磨の均一度が低下する。
【解決手段】上部チャンバー１３０および下部チャンバー１２０により構成される蒸着チャンバーと;蒸着チャンバーの下部に設置され、高周波数電源が印加されるとともに、ウェハー１５０が載置される静電チャック１４０と;蒸着チャンバー内の側壁に固定され、水平面に対して所定間隔を有して配置されるとともに、化学気相蒸着用ソースガスを噴射する多数個のガス噴射用インジェクタ１６０と;多数個のガス噴射用インジェクタ１６０の傾斜角度を調整する角度調整手段１７０と;高密度プラズマ化学気相蒸着装置を制御し、角度調整手段１７０によりガス噴射用インジェクタ１６０の傾斜角度を調整する制御手段１８０と；を備える。 （もっと読む）

【課題】 整合器による整合動作を頻繁に行うことなく、安定したプラズマ放電を実現することのできる基板処理装置を提供する。
【解決手段】 基板を収容する処理室と、前記処理室内に処理ガスを供給するガス供給手段と、高周波電圧を印加されることによりプラズマを発生させ、該発生させたプラズマによって前記ガス供給手段により供給された処理ガスをプラズマ励起させるための一対の電極と、前記一対の電極の内いずれか一方と高周波電源との間に接続されるとともに、前記一対の電極の内いずれか一方と高周波電源との間のインピーダンス整合を行う整合器と、前記一対の電極のうち一方の電極と他方の電極とを接続するキャパシタとを有する。
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【課題】構造が簡素化された基板加熱構造体を提供する。
【解決手段】チャンバ１０１内部で基板１４６を加熱する基板加熱構造体１１０は、チャンバ１０１内に配置されて基板１４６を保持するセラミックス基体としての保持体１４３と、保持体１４３に埋込まれた導体層１５０と、電磁誘導により保持体１４３中の導体層１５０を加熱するコイル１５１とを備える。保持体１４３は、窒化アルミニウム、窒化ケイ素および酸化アルミニウムからなる群より選ばれた少なくとも１種を主成分として含む。 （もっと読む）

【課題】反応空間内にプラズマを均一に生成でき、かつチャンバの構成部品の長寿命化を実現できるプラズマ装置を提供する。
【解決手段】底面が閉じられた筒状のチャンバ11の上部を、適度に薄い導体板３１で密閉する。導体板３１は絶縁部４１によりチャンバ１１の側壁から電気的に分離される。導体板３１の上方にはコイル２１がチャンバ１１と同軸に設置される。チャンバ１１の底面には処理対象の基板６１が設置される。電源部２２がコイル２１に高周波電流を流すとき、十分な強度の変動磁場が導体板３１を通してチャンバ１１内の反応空間を貫く。それにより、反応空間内にはプラズマが生成される。一方、プラズマが生成される間、導体板３１、特に反応空間に面した内表面全体が等電位に維持される。 （もっと読む）

【課題】大きな基板に欠陥が極めて少ない一様な薄膜を形成することのできる薄膜形成装置及び薄膜形成方法を提供する。
【解決手段】電磁波を用いてプラズマを生成することにより、基板に所望の薄膜を形成するＣＶＤ装置１０において、棒状の導電体からなるアンテナ素子２２が、複数個平行かつ面状に配置されたアレイアンテナ２３と、これらのアンテナ素子２２から電磁波を放射させる高周波発振器３２と、高周波発振器３２からの信号をパルス変調するパルス変調器３０と、を有する。 （もっと読む）

【課題】耐摩耗性に優れ、劣化し難く、さらに撥水性に優れるダイヤフラム（自動車用ダイヤフラムを除く）及びその製造方法を提供する。
【解決手段】外表面Ｓ４’に耐摩耗性、撥水性のある炭素膜Ｆが形成されているダイヤフラム及びその製造方法。 （もっと読む）

【課題】 複数種類のガスを用いて表面処理を行う場合でも、最小の共通電力で被処理体に対して複数の表面処理を行うことが可能な表面処理装置、表面処理方法を提供すること。
【解決手段】 対向して配置された第１電極２０と第２電極との間に大気圧又は大気圧近傍の圧力下で導入した反応ガスをプラズマ放電により活性化することで、被処理体７０を処理する表面処理装置であって、第１電極２０と第２電極との間には、反応ガスを流すための複数の流路を有する誘電体４１，４２が設けられ、複数の流路９１，９２に、異なる種類の反応ガスが導入されるとともに、第１電極２０又は第２電極への電力供給によりプラズマ放電発生部が形成され、反応ガスの種類に対応して、第１電極２０と第２電極との間に延在する誘電体４１，４２の流路９１，９２の流路長を異ならせたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 電極との接触によって発生するゴミを低減させて、電極表面への堆積量及び装置内部への汚染を抑制し、表面処理の安定性を確保する。
【解決手段】 この表面処理装置には、互いの放電面が対向されて放電空間を形成するように配置され、放電空間内に高周波電界を発生させる一対の電極が設けられている。また、表面処理装置には、放電空間内で一対の電極のうち、少なくとも一方の電極に沿って相対的に移動されるように移動体を保持する保持機構が設けられている。そして、少なくとも一方の電極と移動体との間には潤滑層が設けられている。 （もっと読む）

【課題】ナノ粒子の発生自体を制御し、効果的に基板上に低誘電率膜を堆積させる。
【解決手段】低誘電率膜を形成する方法であって、有機Siガスと不活性ガスからなる反応ガス容量結合方式のＣＶＤ装置の反応器へ導入する工程、該有機Siガスから気相中に生成する微粒子のサイズを該反応器内におけるプラズマ放電時間の関数として、nmオーダーに調整する工程、及び生成した該微粒子を該反応器内に載置された基板上に堆積する工程、を包含する。 （もっと読む）

本発明の高周波電力供給装置およびそれを用いたプラズマ発生装置は、２つ以上の、誘導性のアンテナ（１）と、各アンテナ（１）に対して電力を供給するための高周波電源（２，４）と、各アンテナ（１）が高周波電力の印加によりプラズマを発生するように取り付けられた真空容器（６）とを有し、高周波電源（２，４）が、それに対応するアンテナ（１）に近接してそれぞれ設けられている。各アンテナ（１）にそれぞれ発生する高周波電圧のバラツキを低減できて、プラズマ発生部の大口径化あるいは大容積化を図っても、より均一なプラズマを発生でき、上記プラズマによる薄膜形成や、プラズマイオン注入を安定化できる。
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【課題】 大気圧下でワークディスタンスの制御範囲が広く安定したプラズマを発生させることで低ランニングコストと高速処理を両立し、更に周辺機器や人体に対する障害をなくした安全でコスト競争力の高いプラズマプロセス装置を提供すること
【解決手段】 プラズマ処理空間１５を挟んで略対向対置されている電極５および電極３１と、電極５に対してガス流路２６を挟んで対向配置されている電極６と、電極３１に対してガス流路２８を挟んで対向配置されている電極３２とを備える。処理ガスは、装置の外部からガス流路２６,２８を通って、プラズマ処理空間１５に到達するようになっている。上記電極６は、サーボ装置等によって矢印αに示す方向に移動できるようになっており、電極３２は、サーボ装置等によって矢印β方向に移動できるようになっている。 （もっと読む）

【課題】付着した液体燃料を速やかに蒸発させつつ、デポジットの弾き性、言い換えれば、付着した液体燃料を速やかに蒸発させてデポジットの付着を防止し得る内燃機関用部材、これを用いたピストン、バルブ及び燃料噴射弁、並びに内燃機関用部材の製造方法を提供すること。
【解決手段】炭素被膜を備えた基材より構成され、炭素被膜がフッ素を含み膜厚が１０μｍ以下の内燃機関用部材である。基材と炭素被膜との間に炭素やケイ素を含む中間層を有する。
内燃機関用部材を用い、冠面に炭素被膜を被覆したピストンである。内燃機関用部材を用い、軸部、傘部及び燃焼室側の面などに炭素被膜を被覆したバルブである。内燃機関用部材を用い、噴射孔に炭素被膜を被覆した燃料噴射弁である。
炭素被膜を気相成膜法により被覆して内燃機関用部材を製造する。 （もっと読む）

【課題】アモルファスカーボン膜の着色が低減され、より透明性の高いアモルファスカーボン膜及びその製造方法を提供する。
【解決手段】プラスチック容器内面に放電プラズマにより成膜してなるアモルファスカーボン膜であって、その色差計測であるＬ^＊ａ^＊ｂ^＊表色系のｂ^＊絶対値が７以下とし、全反射ラマン分光法によるＳ（グラファイト状成分）／Ｎ（ポリマー成分）比が１．０以下０．２以上とすることにより、アモルファスカーボン膜が軟質であり、透明性が極めて良好なものとなる。 （もっと読む）

パルス状マイクロ波プラズマを使用して高速に電子製品向け品質のダイヤモンド膜を製造する方法であって、真空チャンバ内で、少なくとも水素と炭素を含んでいる気体をパルス状放電に曝すことによって、基板付近に有限の体積のプラズマが形成され、パルス状放電は、プラズマ中で少なくとも炭素含有ラジカルを得て、基板上にダイヤモンド膜を形成するために炭素含有ラジカルを基板上に被着させるように、一連の複数の低電力状態および複数の高電力状態と、ピーク吸収電力Ｐ_cとを有している、方法。基板を７００℃と１０００℃との間の基板温度に維持しながら、少なくとも１００Ｗ／ｃｍ³のピーク電力密度でもって、プラズマの体積内に電力が注入される。
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