【課題】焼成したり非磁性物質により強度を補わなくても、十分な強度を持つ中空のフェライト微粒子を製造することのできる中空フェライト微粒子の製造方法を提供する。
【解決手段】２価鉄イオンを含有する水溶液にテンプレー微粒子を浸漬し、この２価鉄イオンを含有する溶液中でテンプレート微粒子の表面に２価鉄イオンを吸着させその一部を酸化させてフェライト相を生成することにより、このテンプレート微粒子の表面をフェライト相を有する被覆を形成する水溶液中フェライト被覆形成工程と、このフェライト相を有する被覆をもつテンプレート微粒子からテンプレートの部分をテンプレート溶解物質を用いて溶解除去しフェライト相を有する被覆を殻として残すテンプレート溶解除去工程により、結晶粒が結合して強度を有すると共に流体物質の通過可能な貫通孔のある中空フェライト微粒子を製造することができる。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、ダイヤモンド粒子を含む被膜を基材上に密着性高く形成することにより耐摩耗性に優れた被覆体を提供することにある。
【解決手段】本発明の被覆体は、基材上に被膜が形成されたものであって、該被膜は、ダイヤモンド微粒子とセラミックス微粒子とを含み、該ダイヤモンド微粒子と該セラミックス微粒子とは、それぞれ１ｎｍ以上１００ｎｍ以下の平均粒子径を有し、該基材と該被膜との界面には、上記ダイヤモンド微粒子と上記セラミックス微粒子とが上記基材に浸入したアンカー部が形成されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 複合構造物作製方法において、構造物形成に伴う構造物の残留応力を原因とする複合構造物の変形を解消する。
【解決手段】 エアロゾルデポジション法によって複合構造物を形成させる工程において、基材の冷却工程を設ける、あるいは複合構造物の熱処理を行う、あるいは基材の表面に引っ張り応力中間層を設ける、あるいは基材の表面加工により基材を予め凹状に加工する、あるいは板状の基材の両面へ構造物を形成するなどの処置により、複合構造物が形成された構造物の持つ残留応力によって変形を解消する。 （もっと読む）

【課題】電解メッキ工程により基板上に均一な厚さを有する半導体素子用金属配線の形成方法を提供する。
【解決手段】導電性構造物を含む基板１００上に金属層、金属化合物層またはこれらの混合層からなる金属含有層１３０を形成する。続いて、金属含有層１３０上に金属シード層１４０を形成し、基板１００の周辺部に沿って金属シード層１４０上に、金属シード層１４０より電気抵抗が同一或いは小さな補助金属からなる接蝕層１５０を形成する。基板１００を電解メッキ設備に装着して、接触層１５０とカソード電極５４０とを接続し、金属シード層１４０に対して電解メッキを遂行し、金属含有層１３０上に金属配線層を形成する。 （もっと読む）

本発明の局面によれば、基材と、基材表面の少なくとも一部分を覆うセラミック被覆とを備える、部品が提供される。セラミック被覆は、基材と共形であるセラミック層によって接続される隆起セラミックシェルを含む。本発明の別の局面によれば、カーボンナノチューブの少なくとも一部分を覆うセラミック被覆を備える、カーボンナノチューブが提供される。シェルは、部分的または完全に充填されてもよく、またはそれらは、中空であってもよい。
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【課題】材料粉末の付着効率を確実に向上させることができ、また、均一な品質の皮膜を形成することができるコールドスプレー装置、方法を提案する。
【解決手段】材料粉末Ａをノズルから高速で噴射して基材Ｂ上に堆積させるコールドスプレー装置１において、基材Ｂを材料粉末Ａの融点以下の第一所定温度に加熱する基材加熱部５０と、基材Ｂ向けて材料粉末Ａを噴射するコールドスプレー部１０と、を備える。 （もっと読む）

ポリマー及び不透過性分散固体を含むコーティングを基材の表面に蒸着させる方法であって、少なくとも１つの不透過性分散固体を乾燥粉末の状態で第一のオリフィスを通して排出する工程と、少なくとも１つのポリマーを乾燥粉末の状態で第二のオリフィスを通して排出する工程と、ポリマー及び／又は不透過性分散固体粒子を前記基材上に蒸着させ、この場合に、電位は、基材と重合体粒子との間で保たれ、それによって前記コーティングを形成する工程と、前記コーティングを基材の活性及び／又は機能を実質的に損なわない条件下で焼結する工程を含む、方法。疎水性ポリマー及び水−蒸気−捕捉物質を含むコーティングを基材の表面に蒸着させる同様の方法が提供される。 （もっと読む）

【課題】非晶質薄膜及び／又は結晶性の低い薄膜を、薄膜の温度を低温に保ちつつ、短時間で結晶化させて得られ、均質で、且つ、樹脂基板上に形成可能である結晶薄膜、及び、その製造方法を提供する。
【解決手段】非晶質薄膜及び／又は結晶性の低い薄膜を、該薄膜の極近傍に薄膜面と平行に導電性の電極を配置した高周波印加装置内に配置し、高周波電界が該薄膜に集中する条件でプラズマを発生させ、温度を１５０℃以下に維持しながら、及び／又は、結晶化に要する時間１５分以内で、結晶化させて得られることを特徴とする。高周波電界が、非晶質薄膜等に集中するように、プラズマを発生させるために、高周波印加装置内の気体の圧力を最適に制御することが好ましい。 （もっと読む）

【課題】銅表面に１，０００ｎｍを超す凹凸を形成することなく、銅表面と絶縁樹脂との接着強度を確保し、各種信頼性を向上させることができる銅表面の処理方法、ならびに当該処理された配線基板を提供する。
【解決手段】銅表面の処理方法において、銅表面に貴金属を離散的に形成する工程、前記銅表面を、酸化剤を含むアルカリ性溶液で酸化処理して酸化銅を形成する工程、前記酸化銅を、還元剤を含むアルカリ溶液で還元処理して金属銅を形成する工程、前記金属銅の表面にニッケル、コバルト、ニッケルとコバルトの合金、ニッケルおよびコバルトの２層から選択される無電解めっき皮膜を形成する工程を有する銅表面の処理方法。 （もっと読む）

【課題】接続信頼性に優れた被覆導電性粒子、被覆導電性粒子の製造方法、異方性導電接着剤及び導電性接着剤を提供する。
【解決手段】導電性の金属表面を有する導電性粒子２の前記金属表面の少なくとも一部が高分子電解質１により被覆されてなることを特徴とする。金属と金属の間に高分子電解質が入ることで金属と金属の結合性が増し、導電性が向上する。高分子電解質の平均厚みは０．１Å以下であるので、導電性に悪影響を与えることはない。また、金属粒子表面に官能基を有する為、接着剤樹脂に導電性粒子が固定されて信頼性が増す効果も得られる。 （もっと読む）

【課題】エアロゾルデポジション法においてレーザーを利用してエアロゾル流の粒子濃度を測定するに際し、レーザー通過面に浮遊粒子が付着するのを防止し、これによって経時的に安定な粒子濃度測定を可能にする成膜装置及び成膜方法を提供すること。
【解決手段】エアロゾル発生部と、エアロゾルを被処理物に吹き付ける噴射ノズルと、噴射ノズル及び被処理物が内部に配置されるチャンバと、噴射したエアロゾル流にレーザーを発出する手段と、発出されたレーザーを受光する手段と、受光したレーザーの強度に基づいてエアロゾル流の粒子濃度を算出する手段と、を備えた成膜装置において、さらに、レーザー発光素子からエアロゾル流に至るまでのレーザー光路上に透光性部材を備え、当該透光性部材の、チャンバ内に浮遊する材料粒子が付着し得る面に対して、透光性の光熱変換手段を設ける。 （もっと読む）

【課題】ガンマ線を発生させるターゲット材料としての炭素を高密着性を持って均一に形成すること。
【解決手段】少なくとも一対の電極（１３，１４）および前記電極（１３，１４）間に配置された絶縁部材（１８）により形成された空間（１９）に、ターゲット基板（１３）を配置し且つ表面層形成用粉体としてのグラファイト化された炭素粒子を収容して、前記電極（１３，１４）間に前記表面層形成用粉体を往復動させる電圧を印加することにより、前記ターゲット基板（１３）表面に炭素の表面層が形成されたターゲット材（３）を製造する場合に、アモルファスの炭素粒子を不活性ガス雰囲気中で２５００Ｋ以上の高温に加熱することでグラファイト化された炭素粒子により構成されたことを特徴とするガンマ線発生用のターゲット材料。 （もっと読む）

【課題】従来用いられている無電解銅めっき液と比較して安全性の高い無電解めっき液を用いて、ポリイミド樹脂に対して、良好な密着性と優れたエッチング性を兼ね備えた導電性皮膜を形成できる方法を提供する。
【解決手段】還元剤として次亜リン酸又はその塩を含む自己触媒型無電解めっき液を用いて、ポリイミド樹脂上にニッケル含有率２０〜７０重量％の銅−ニッケル合金めっき皮膜を形成することを特徴とするポリイミド樹脂上への導電性皮膜の形成方法。 （もっと読む）

【課題】 誘電体層の成膜性を向上しつつ、より良好な特性を実現する。
【解決手段】 誘電体デバイスの製造方法において、以下の工程を有する。（１）混合工程：母材の粉末と、当該母材の焼結のための添加剤の粉末と、を混合する。（２）混合物熱処理工程：前記混合工程を経た、前記母材と前記添加剤との混合物を、熱処理する。（３）成膜層形成工程：前記混合物熱処理工程を経て得られた前記原料粉末を、前記基板に向けて噴射することで、当該基板に成膜層を形成する。（４）成膜層熱処理工程：前記成膜層形成工程を経て前記基板に形成された前記成膜層を熱処理することで、前記基板に前記誘電体層を形成する。 （もっと読む）

【課題】３価クロムめっきの耐食性を向上させる。
【解決手段】鉄基板１０の表面に施された３価クロムめっき３０上にシランカップリング剤とシリカゾルとからなる耐食性皮膜４０を形成した。 （もっと読む）

【課題】金属蒸着層上に無機層状化合物を含有する樹脂組成物からなる層が積層されてなる多層構造体であって、ガスバリア性、特に高湿度条件下でのガスバリア性に優れる多層構造体の製造方法を提供する。
【解決手段】基材層と、該基材層の少なくとも一方の面に形成される金属および／または金属酸化物からなる第１の層と、該第１の層と隣接してなり、樹脂および無機層状化合物を含む樹脂組成物から形成される第２の層とを有する多層構造体の製造方法であって、以下の工程（１）、（２）を順に含む多層構造体の製造方法。
（１）金属および／または金属酸化物を蒸着処理することにより第１の層を前記基材層上に形成する工程
（２）樹脂、無機層状化合物および液体媒体を含み、ｐＨが７〜１４である塗工液を、前記第１の層上に塗工し、次いで液体媒体を除去して、第２の層を前記第１の層上に形成する工程 （もっと読む）

【課題】加熱のみで膜形成した場合に比べ、電気抵抗を大幅に低減した金属膜を得る。
【解決手段】金属コロイド粒子が金属粒子と保護剤で構成され、保護剤が分子中に窒素又は酸素のいずれか一方又はその双方を含む炭素骨格を有し、かつ窒素、酸素、窒素を含む原子団及び酸素を含む原子団からなる群より選ばれた１種又は２種以上をアンカーとして金属粒子表面に配位修飾した構造を有し、保護剤がハイドロキシアルキル基を分子構造に含み、金属コロイド粒子を水系又は非水系のいずれか一方の分散媒又はその双方を混合した分散媒に所定の割合で混合して分散させた金属コロイドを基材表面に塗布する工程と、基材を自然乾燥して金属コロイド中の分散媒を除去する工程と、基材を室温〜２００℃の温度に保持しながら、出力が５０〜６００Ｗかつ１ｃｍ²当りの照射時間が０．５〜６０ｓの条件でプラズマを照射することにより、基材表面に金属膜を形成する工程とを含む。 （もっと読む）

【課題】加熱のみで膜形成した場合に比べ、電気抵抗を大幅に低減した金属膜を得る。
【解決手段】金属コロイド粒子が金属粒子と粒子表面に配位修飾した保護剤とにより構成され、保護剤が分子中に窒素又は酸素のいずれか一方又はその双方を含む炭素骨格を有し、かつ窒素、酸素、窒素を含む原子団及び酸素を含む原子団からなる群より選ばれた１種又は２種以上をアンカーとして金属粒子表面に配位修飾した構造を有し、保護剤がハイドロキシアルキル基を分子構造に含み、金属コロイド粒子を水系又は非水系のいずれか一方の分散媒又はその双方を混合した分散媒に所定の割合で混合して分散させた金属コロイドを基材表面に塗布する工程と、基材を自然乾燥させて金属コロイド中の分散媒を除去する工程と、基材を室温〜２００℃の温度に保持しながら、照射量が、１０００〜１００００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射し、基材表面に金属膜を形成する工程とを含む。 （もっと読む）

【課題】簡易な方法により微細な線幅の金属導電層を形成することができる金属導電層形成方法、導電性ばね形成方法及び導電性ばねを提供する。
【解決手段】シリコン等で形成された基板１０の表面は、金属ナノ粒子分散液が流れ込む流路１２と流路１２に連通路１４により連通する液溜１６とを形成する。この状態で、液溜１６に金属ナノ粒子分散液を注入すると、毛細管現象により連通路１４を介して流路１２に金属ナノ粒子分散液が流れ込む。次に、基板１０を介してあるいは直接金属ナノ粒子分散液を加熱し、金属ナノ粒子を凝集させて金属導電層を形成する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、錆の発生を防ぐ化学的な処理において、赤錆の再発および塗料の剥離、飛散の懸念を払拭する、煙突内面の新規な処理方法について提案することを目的とする。
【解決手段】煙突内部の鉄素地上に発生した赤錆層の厚みを30μm以下に調整した後、該赤錆層上に錆置換液を20μm未満の塗布厚で塗布し、赤錆層を黒錆化した黒錆層とし、次いで黒錆層上にコーティング剤を塗布してコーティング層を形成する。 （もっと読む）