【課題】 物品等に、摺動性、耐磨耗性、潤滑性、撥水性、離型性などを付与する新規な表面処理方法を提供する。
【解決手段】 被処理物の表面を円盤状化合物少なくとも一種を含む組成物で覆い、該組成物に温度変化を与えることを含む表面処理法である。 （もっと読む）

【課題】 微粒子吹き付け法での成膜の利点は残しつつ、基板面内の膜厚、特性の均一性、成膜再現性を大幅に改善すること、及び微粒子吹き付け法での高配向な膜の成膜を実現可能にすることにある。
【解決手段】 基板１上に、第一の誘電体膜（ＰＺＴ薄膜３）を形成した後、前記第一の誘電体膜上に、同一材料の第二の誘電体膜（ＰＺＴ膜５）を微粒子吹き付け法によって形成する。又は、基板１上に、高配向な第一の誘電体膜（ＰＺＴ薄膜３ａ）を形成した後、前記第一の誘電体膜上に、当該第一の誘電体膜の配向を引き継いだ高配向な第二の誘電体膜（ＰＺＴ膜５ａ）を微粒子吹き付け法によって形成する。 （もっと読む）

本発明は、ワークを溶融金属中に挿入してワークを溶融金属に浸し、その後、ワークを溶融金属から取り出すことで、ワークに形成されている微細孔に金属を充填する金属充填方法であって、ワークを溶融金属中に挿入する際に、ワーク下面を溶融金属液面に対して、０．５°以上の傾斜をつけて行い、ワークを溶融金属から取り出す際、ワーク上面を溶融金属液面に対して、０．５°以上８５°未満の傾斜をつけて行うことを特徴とする金属充填方法である。ワークを溶融金属中に挿入する際、または、ワークを溶融金属から取り出す際に、ワークが割れてしまうという不具合を防止し、更に、ワークを溶融金属から取り出した後に、金属がワーク表面に残ってしまうという不具合を防止することができる。
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【課題】 大容量の光カードの光記録素子などに使用される有機無機複合薄膜、その製造方法、及びそれを利用した光記録媒体を提供する。
【解決手段】 基板上に規則的な二次元の格子状パターンを持つポリマーを有し、その格子の孔の部分に金属超微粒子を含有することを特徴とする有機無機複合薄膜により、耐光性が高くかつ、電子的性質、導電的性質、光学的性質等の新たな機能を充分に発揮する。また、有機無機複合薄膜を光記録媒体の記録層に用いることにより、金属超微粒子部位を照射光の回折限界よりも小さな面積を形成でき、ピックアップレンズの回折限界を超える記録密度で記録再生が可能でかつ再生安定性に優れた記録／再生信号を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】 多孔質表面構造を有する環境バリヤーコーティングを環境汚染物の悪影響から保護する。
【解決手段】 ガスタービンエンジンの苛酷な熱環境に暴露される物品（１０）のような、ケイ素含有材料からなる基材（１２）を含む物品（１０）。物品（１０）はさらに、環境バリヤー層（１６）（例えば、アルカリ土類金属アルミノケイ酸塩）と、環境バリヤー層（１６）に重なる物理バリヤー層（２０）とを含む。物理バリヤー層（２０）は、マグネシウム、カルシウム、スカンジウム、イットリウム及びランタニド金属からなる群から選択される金属の酸化物で安定化したジルコニア又はハフニアと、ニオビア及びタンタラ及びこれらの混合物からなる群から選択される低ＣＴＥ酸化物とを含む。ケイ素含有材料からなる基材（１２）上に環境バリヤーコーティング系（１４）を設けるための方法も開示される。 （もっと読む）

【課題】外力の印加した場合にも、基材の意匠性が維持される複合材を提供する。
【解決手段】本発明では、基材と、該基材上に設けられた被覆部とを有し、該被覆部は、（Ａ）シリカ、または平均組成式ＲｐＳｉＯ（４−ｐ）／２（式中、Ｒは有機基、Ｘはアルコキシ基、ハロゲン、窒素含有基の群から選ばれる少なくとも１種、ｐは、０＜ｐ＜４を満足する数である）の群から選ばれる少なくとも１種、（Ｂ）ふっ素樹脂粒子を含有してなることを特徴とする複合材であって、前記ふっ素樹脂粒子の被覆部中の含有量が１重量％以上かつ２０重量％未満であることを特徴とする複合材を提供する。 （もっと読む）

【課題】
液晶ガラス基板製造時に使用される各種ロールをはじめ、繊維強化プラスチック製各種部材の表面を金属化処理を施すことによって、金属質表面特性が求められるような特殊用途にもよく適合する技術を提案すること。
【解決手段】
繊維強化プラスチック基材の表面に、この基材構成成分である樹脂と同種の樹脂およびセラミック粒子との混合物の層からなる中間層を有し、この中間層の上に、金属及び合金からなる溶射被覆層からなるトップコートを有する繊維強化プラスチック基複合材料と、その製造方法。 （もっと読む）

【課題】１μｍを超えた厚膜で、クラック／剥離のない透明な無機多孔体被膜及びその製造方法等を提供する。
【解決手段】基板表面に形成されたナノスケールの微細な細孔を有するメソポーラス無機多孔体被膜において、水分及び有機成分が除去されており、ナノ細孔構造が維持されており、膜厚が１μｍ以上で、可視光領域から近赤外領域において９０％以上の高い透過率を示し、厚膜化に伴うクラック／剥離の発生がないクラックフリーであることを特徴とする透明無機多孔体被膜、及び該透明無機多孔体被膜からなる光学部材及び絶縁部材。 （もっと読む）

【課題】高い表面平滑性及び導電性を有するダイヤモンド膜及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】基体上に合成されてなるダイヤモンド膜であって、３×１０^１８ｃｍ^−３以上の窒素を含むことを特徴とする。このダイヤモンド膜は、基板上に、炭化水素、水素、及び０．５％以上の窒素源ガスを含む原料ガスを用いたＣＶＤ法により製造することが出来る。 （もっと読む）

【課題】バリア層と配線溝や接続孔からなる凹部を埋め込む銅層との間にチタンアルミニウム合金層を形成することで、ＳＩＶ耐性の向上、界面密着性の向上等による配線信頼性の向上を可能とする。
【解決手段】絶縁膜１１に形成された凹部１２に埋め込まれた導電層１６を有する半導体装置１であって、前記導電層１６は、前記凹部１２の内面に形成されたバリア層１３と、前記バリア層１３表面に形成されたチタンアルミニウム合金層１４と、前記凹部１２を埋め込むアルミニウムが固溶された銅層１５とからなるものである。 （もっと読む）

集積型光電気化学(photoelectrochemical, PEC)電池は放射により照らされている間に水素と酸素を水から発生させる。PEC電池は液状電解質、多接合型光起電性電極、そして、薄いイオン交換膜を用いている。PECシステムおよびこのようなPEC電池、PECシステムを作製する方法もまた開示されている。
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【課題】物理的堆積方法での被覆が不可能である複雑な形状のＳｉベース基材に保護被覆を効果的に被覆させる。
【解決手段】
一体型ベーンリングおよびブレード一体型ロータなどの複雑な形状を有するＳｉベース基材に、溶解塗装、化学蒸着法および物理蒸着法で導電層を堆積させ、その上に電気泳動堆積法（ＥＰＤ）により保護被覆として少なくとも１層のバリヤ層を堆積させる。化学蒸着法により、絶縁層を基材と導電層との間に塗布してもよい。この絶縁層は、ケイ素ベース基材のケイ素と、導電層およびこの導電層の上に堆積されるボンディングコートなどのあらゆる層との間に起こり得る化学反応を抑制するという利点がある。バリヤ層を堆積する前に、化学蒸着法および電気泳動堆積法でボンディングコートを絶縁層に堆積させてもよい。 （もっと読む）

【課題】物理的堆積方法での被覆が困難な複雑形状のＳｉベース基材に保護コーティングを効果的に被覆する。
【解決手段】
一体型ベーンアッセンブリなど複雑形状のＳｉベース基材に、電気泳動堆積法（ＥＰＤ）または静電堆積法（ＥＳＤ）により保護コーティングとして少なくとも１層のバリア層を堆積させる。バリア層を堆積させる前に、化学蒸着法により電気的導電層を堆積させると、コーティングの効率が著しく向上する。ＥＰＤかＥＳＤのいずれか一方でＳｉベース基材にボンディングコートを塗布してもよい。さらに、バリア層に、化学蒸着法（ＣＶＤ）または、セラミック前駆体およびセラミックのスラリでコーティングし、焼成する方法で、トップコートを堆積させる。 （もっと読む）

【課題】 均一な膜厚で強固に基材表面に結合した化学吸着膜を短時間で高効率に基材表面に形成する方法を提供する。
【解決手段】 本発明の化学吸着膜の形成方法は、基材表面を親水化する親水処理工程ＳＴ１と、親水化された前記基材表面に酸または塩基を付着させる処理工程ＳＴ２と、酸または塩基が付着している基材表面に化学吸着剤を接触させ、同表面に化学吸着膜を形成する成膜工程ＳＴ３とを含む。 （もっと読む）

【課題】本発明は、抵抗値の変動を防止して溶断性能の維持を確保した、高信頼、超寿命の回路保護素子を供給することを目的とする。
【解決手段】本発明は、基体２と、基体２に設けられた一対の端子電極３と、基体２を覆う導電膜５と、基体２に設けられた溶断部７を有する回路保護素子１であって、導電膜５は、熱処理された金属層を少なくとも一層以上含む構成とし、熱処理された金属層により高温状態での拡散を防止して抵抗値の変動を防止する回路保護素子１とする。 （もっと読む）

【課題】電極を低コストかつ短いタイムで形成し、比較的安価な薄膜素子を得る。
【解決手段】薄膜電極用ペーストは、Ｐｄ系合金，Ｐｔ系合金，Ａｕ系合金，Ａｇ系合金又はＮｉ系合金のいずれかからなる粒径が１〜４０ｎｍの金属微粒子と、その金属微粒子が分散した水又は有機溶剤とを備える。薄膜電極の製造方法は、基板１１の平坦な上面にそのペーストを塗布して所定の厚さに成膜する工程と、熱処理によりペーストにおける溶媒を除去して金属微粒子を焼成することにより基板１１上に薄膜電極１２を得る工程とを含む。薄膜素子の製造方法は、その第１薄膜電極１２上にゾルゲル法により誘電体材料膜１３を形成する工程と、更にそのペーストを塗布して所定の厚さに成膜した後に熱処理して金属微粒子を焼成することにより誘電体材料膜１３上に第２薄膜電極１４を形成する工程とを含む。 （もっと読む）

ナノスケールフィーチャを有するパターン（１８ａ）を型（１０）から基板（１４）上のパターン形成可能な層（１８）にインプリントする方法を提供する。この方法は、型（１０）を準備し、基板（１４）上にパターン形成可能な層（１８）を形成し、パターン形成可能な層（１８）上に型（１０）をインプリントすることを含み、このパターン形成可能な層（１８）は、固体状態から液体状態への室温より少なくとも１０℃高い範囲の転移温度を有する金属または合金を含む。
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発明の工作物は、その表面の少なくとも部分上に、Ａｌ_l-a-b-c-dＣｒ_aＸ_bＳｉ_cＢ_dＺの組成を含む耐摩耗性ハードコートを特徴として有し、ここで、ＸはＮｂ、Ｍｏ、Ｗ、またはＴａからの少なくとも１つの元素であり、ＺはＮ、Ｃ、ＣＮ、ＮＯ、ＣＯ、ＣＮＯからの１つの元素または化合物であり、かつ、０．２≦ａ≦０．５、０．０１≦ｂ≦０．２、０≦ｃ≦０．１、０≦ｄ≦０．１である。このような耐摩耗性コーティングを堆積させるためのＰＶＤプロセスがさらに開示され、少なくとも１つの工作物が真空コーティングシステムに設置され、前記システムは低圧アルゴン雰囲気中で動作し、少なくとも１つの反応ガスの少なくとも一時的な添加とともに、少なくとも２つの金属または合金のターゲットを利用し、基材に負の電圧を加える。
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【課題】 光ピックアップ用のレンズ駆動装置などに使用される高い磁気特性の希土類磁石の低コスト化を可能とする技術を提供すること。
【解決手段】 本発明の希土類磁石は、その質量が１ｇ以下とされる。希土類磁石の質量をこのように設定すると、希土類磁石の表面に保護膜を形成するバレルメッキ工程やイオンプレーティング工程でワーク同士が衝突する際の衝撃力が緩和され、ワークへのカケの発生が充分に抑制される程度の衝撃度となる。したがって、希土類磁石の質量を１ｇ以下とした場合には、その表面への耐食性被膜形成に先立ってワークに面取りを施す必要がなくなる。また、エッジ部の曲率半径（Ｒ値またはＣ値）が０．１ｍｍ以下となるように設定される。このような希土類磁石を着磁して磁気回路に組み込んで種々の用途に用いられるが、光ピックアップ用のレンズ駆動装置に採用すると特に好ましい効果を得ることができる。 （もっと読む）

複数の無機、金属、セミメタリック、および／又は金属酸化物粒子、および、粒子表面近傍における不均一重合反応により得られ、前記粒子の少なくとも一部を封入するスターグラフト共重合体上に環状および／又は直線状重合体構造を持つスターグラフト共重合体を含む表面処理された粒子。
前記表面処理は、ｗ、ｘ、ｙおよびｚはそれぞれ、四官能性、三官能性、二官能性、および単官能性のモノマー単位のモルパーセントであり、ｗ、ｘ、ｙおよびｚはそれぞれ、約０〜５０、０〜５０、５〜９９および０〜５であるＳｉ(ｗ、ｘ、ｙ、ｚ)を含み、ｗはテトラエチルオルトシリケートであり；ｘはγ−グリシドオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、ｎ−プロピルトリメトキシシラン、イソブチルトリメトキシシラン、ｎ−ヘキシルトリメトキシシラン、ｎ−オクチルトリメトキシシラン、ｎ−オクタデシルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、３−(トリメトキシシリル)プロピル無水コハク酸、ヘプタデカフルオロトリメトキシシラン、３−イソシアナートプロピルトリメトキシシラン、２−(ジフェニルホスフィノ)エチルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、ｎ−(トリメトキシシリルプロピル)ＥＤＴＡ、ペンタフルオロフェニルプロピルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、および、これらのモノマーのトリエトキシ含有の対応物(counterparts)からなる群から選択され；ｙはジシクロヘキシルジメトキシシラン、ジエチルジエトキシシラン、ジメチルジクロロシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジ−ｎ−ヘキシルジクロロシラン、ｎ−ヘキシルメチルジクロロシラン、メチルドデシルジエトキシシラン、ｎ−オクチルメチルジメトキシシラン、および、これらのモノマーのジエトキシ含有の対応物からなる群から選択され；ｚはｎ−オクタデシルジメチルメトキシシラン、トリエチルシラノール、トリメチルエトキシシラン、トリメチルメトキシシラン、および、これらのモノマーのエトキシ含有の対応物からなる群から選択される。表面処理されたＺｎＯおよび／又はＴｉＯ_２と定義される製品それ自体、およびパーソナルケア製剤における製品の使用それ自体は除外される。 （もっと読む）