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Fターム[4K044AA11]の内容

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【課題】長尺方向と短尺方向とを有する射出開口を備え、気体に固体粒子を分散させて成るエアロゾルを噴射するエアロゾル噴射ノズルであって、このノズルから噴射されるエアロゾルの空間分布や速度分布をより均一なものとするための構造を提案する。
【解決手段】エアロゾルを導入する導入開口36と、略直交する長尺方向と短尺方向とを有しエアロゾルを噴射する射出開口31と、導入開口36から射出開口31までエアロゾルが通過する流路であって流体が進むにつれて流路面積が小さくなる面積漸減部33を有するエアロゾル流路30をエアロゾル噴射ノズル25に備える。面積漸減部33の流路断面積を、射出開口31の長尺方向と略平行な二本の線分82,82と二つの円弧81,81とで画成されるトラック形(競技場形)とする。 (もっと読む)


【課題】高温付加製造システムを提供する。
【解決手段】本高温付加製造システム(29)は、金属堆積物(40)を供給するようになった高温付加製造装置(38)と、ツーリングシステム(30)とを含み、ツーリングシステム(30)は、金属堆積物を受けかつ該金属堆積物に形状を与えるようになったマンドレル(32)と、マンドレル(32)に施工されて、金属堆積物(40)の汚染を減少させるようになった金属クラッディング(34)と、マンドレル(32)と関連して、該システム(30)から熱を除去するようになった少なくとも1つの冷却チャネル(36)とを含む。 (もっと読む)


本発明は、超硬、サーメット、セラミックス、高速度鋼(HSS)、多結晶ダイヤモンド(PCD)又は多結晶立方晶窒化ホウ素(PCBN)の本体を含み、硬質でかつ耐摩耗性のコーティングが適用されて、陰極アーク蒸発又はマグネトロンスパッタリングなどの物理気相成長(PVD)によって成長される切削工具インサートに関する。このコーティングは、(ZrxAl1-x)Nyの少なくとも1つの層を含み、0.45<x<0.85及び0.90<y<1.30であり、0.5〜10μmの厚さを有する。当該層は、単一立方晶相又は六方晶相と立方晶相の混合物からなるナノ結晶微細構造を有する。このインサートは、高温を生じる金属切削用途において特に有用であり、改善されたクレーター摩耗抵抗性を有する。
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【課題】或る程度の膜厚を有し、緻密で欠陥のない平坦なナノシート堆積膜を1回の処理で得るようにする。
【解決手段】TiO、KCO、LiCO、MoOを所定量秤量して混合し、焼成した後、水洗して不純物を除去し、さらにHClで処理して水素型の層状結晶体を生成する。次いで、この層状結晶体をゾル化溶液に投入して撹拌し、層状結晶体に単層に剥離させ、チタニアナノシートが分散したナノシート分散溶液を作製する。一方、基板6に紫外線照射して親水性を付与し(a)、その後、基板とシラン化合物とを接触させて基板6の表面に有機分子膜7を形成し、表面電位を付与する(b)。そして、表面電位が付与された基板6を、超音波を照射しながらナノシート分散溶液に浸漬し、基板6上にチタニアナノシートを堆積させ、ナノシート堆積膜8を作製する(c)。 (もっと読む)


【課題】 金属酸化物がナノメートルオーダーのファイバー、粒子又はリボン形状を有し、これらを基本ユニットとして集合してなるナノ構造体で固体基材が被覆されている構造物とその簡便且つ効率的な製造方法を提供すること。
【解決手段】 ポリエチレンイミン骨格を有するポリマーを含有する溶液中に固体基材を浸漬させた後取り出し、該固体基材の表面にポリマー層を形成させる工程(I)と、前記工程(I)で得られたポリマー層を有する固体基材と、金属酸化物のソース液とを接触して、固体基材表面のポリマー層中に金属酸化物を析出させナノ構造複合体被覆型構造物を得る工程と、前記工程(II)で得られたナノ構造複合体被覆型構造物を焼成する工程(III)と、を有することを特徴とする金属酸化物を主構成成分とするナノ構造体で被覆された金属酸化物被覆構造物の製造方法。 (もっと読む)


【課題】アルカリ可溶性基板に対して、高い密着強度で密着された無電解めっき膜を形成することができる無電解めっき物の製造方法の提供。
【解決手段】アルカリ可溶性基板101上に、金属酸化物層102を形成する金属酸化物層形成工程と、金属酸化物層102上に、カップリング剤及びトリアジンチオールの少なくともいずれかによるパターン状の密着層103aを形成する密着層形成工程と、密着層103a上に、無電解めっきにより、めっき層からなる配線層105を形成するめっき層形成工程とを含むことを特徴とする無電解めっき物の製造方法。 (もっと読む)


構成部品を用意するステップと、前記構成部品に環境バリアコーティングを付着させるステップであって、前記環境バリアコーティングが、亜鉛アルミネートスピネル、アルカリ土類ジルコネート、アルカリ土類ハフネート、希土類没食子酸塩、緑柱石、およびそれらの組合せからなる群から選択されるカルシウムマグネシウムアルミノシリケート(CMAS)緩和組成を含む、別個のCMAS緩和層を有するステップとを含む、CMAS緩和能力を有する構成部品を作製する方法。 (もっと読む)


多成分ナノ粒子材料、そのための装置及びプロセスが開示されている。本開示の一つの特徴は、溶液又は縣濁液から、又は、火炎合成又は火炎噴霧熱分解により形成された粒子を分離し、結果として得られた粒子は、回収又は堆積する前に、チャンバー内で混合される。本開示の他の特徴は、ナノ粒子は、よどみ又はブンゼン火炎で合成され、移動基板上に熱泳動により堆積される。これら技術は、多成分ナノ粒子材料及び膜の大量生産を可能とする。 (もっと読む)


【課題】工程が簡単であり、所望の形態に製造が可能である金属カーバイドの製造方法を提供する。また、前記金属カーバイドの製造方法によって製造された金属カーバイドを提供する。さらにまた、前記金属カーバイドを利用して製造された成形品を提供する。
【解決手段】(A)金属または金属酸化物と炭素系物質の混合物に物理的力を加えることによって、金属または金属酸化物表面に炭素系物質が被覆された、および/または炭素系物質の表面に金属または金属酸化物が被覆されたハイブリッド粒子を製造する段階;及び(B)前記ハイブリッド粒子を熱処理する段階;を含む金属カーバイドの製造方法、並びにこれから製造された金属カーバイドが提供される。 (もっと読む)


【課題】導電性粒子を含む異方性導電材料を使ったフリップチップ実装において、接続抵抗を低減し、安定で信頼性の高い接続を実現する。
【解決手段】導電性粒子は、導電性の心材と、前記心材を覆う導電層と、を有し、前記導電層は前記心材の表面において、凹凸部を構成する網目状構造を形成することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】施工性及び作業効率の向上を図ることが可能な、金属材の保護層を備える樹脂構造体の製造方法及び樹脂構造体製造装置を提供する。
【解決手段】樹脂材から形成される基材Bの表面上に、コールドスプレー法を用いて金属材から形成される保護層Rを形成する保護層形成工程を有するという構成を採用する。 (もっと読む)


【課題】低極性、低粘度の化合物を用いた金属膜の製造方法を提供することであり、また、低温で金属膜を製造する方法を提供することを課題とする。
【解決手段】以下の式1で示される化合物存在下で加熱処理を行う金属膜の製造方法。
【化1】


(式中、Xは水素原子または−OR基、R、Rはそれぞれ独立に水素原子または炭素数1〜6のアルキル基、Rは炭素数1〜4のアルキル基、Yは水素原子、炭素数1〜6のアルキル基または−O−C(=O)−Xを表す。) (もっと読む)


【課題】金属酸化物の製造法および金属酸化物コーティング法の提供。
【解決手段】次式Iの化合物を加水分解して金属酸化物を製造する。


式中、MはAl、Ti、V、Zn、In、Sn等であり、XはO1/2又はORであり、Rはアルキルであり、R1、R2、R3、R4、R5、R6及びR7は各々独立にH、アルコキシ、C1−C10アルキル等である。式Iの1種以上の化合物で基材を被覆してから上記化合物を加水分解すること及び/又は上記化合物を約50〜約450℃に加熱することによって、1種以上の金属酸化物を含有する物品を製造する。 (もっと読む)


【課題】金属、セラミックス等へ充分な付着性と硬度等において立方晶窒化ホウ素本来の特性を示す立方晶窒化ホウ素被覆膜複合材料を提供する。
【解決手段】基体2と、前記基体表面上に形成された周期律表の第4族金属(Ti、Zr、Hf)、第5族金属(V、Nb、Ta)、前記第4族金属及び第5族金属の窒化物又はホウ化物或いはホウ窒化物の内から選ばれるいずれか1種以上の成分よりなる中間層3と、前記中間層3の表面に被膜した立方晶窒化ホウ素を主成分とする表面膜4とから形成される立方晶窒化ホウ素被覆膜複合材料であって、前記表面膜4の立方晶窒化ホウ素の光学的縦波モードのフォノンによるラマン散乱又は光学的横波モードのフォノンによるラマン散乱のいずれか一方の半値幅が、50cm−1以下のピークを示すか、X線解折で立方晶窒化ホウ素の特定結晶面の反射ピークの2θの半価巾が特定値である立方晶窒化ホウ素被覆膜複合材料。 (もっと読む)


【課題】本発明は、膜厚精度に優れた金属酸化物膜を形成することができ、かつ、容易にパターン状の金属酸化物膜を形成することが可能な積層体の製造方法を提供することを主目的とする。
【解決手段】本発明は、金属源として金属塩または有機金属化合物が溶解した原料溶液を用いて、基材上に、金属酸化物膜の前駆体である前駆体膜を形成する前駆体膜形成工程と、上記前駆体膜に対して、上記前駆体膜の表面側から、方向性を有する加熱処理を行い、上記金属酸化物膜を形成する加熱処理工程と、を有することを特徴とする積層体の製造方法を提供することにより、上記課題を解決する。 (もっと読む)


【課題】単結晶ナノ構造を基板の上に成長させる方法を提供する。
【解決手段】基板1の主表面上にパターン2を最初に形成する工程であって、パターン2は基板1の表面まで延びた開口部を有する工程と、パターン2の開口部中の、露出した主表面の上に、金属3を供給する工程と、開口部をアモルファス材料4で、少なくとも部分的に埋める工程と、アモルファス材料4と金属化合物3とを、300℃と1000℃の間の温度でアニールし、金属媒介結晶化により、アモルファス材料4を単結晶材料5に変える工程と、を含む。 (もっと読む)


【課題】高圧を要することなく、Bi欠陥を抑制でき、数十μm程度と比較的厚くかつ緻密な構造を得ることが可能な、Bi系ペロブスカイト型酸化物を主成分する酸化物体を提供する。
【解決手段】酸化物体13は、基材11上に形成され、AサイトがBiを主成分とするBi系ペロブスカイト型酸化物を主成分とするものであり、下地12との界面及びその近傍にアンカーリング層が形成されている。酸化物体13は、エアロゾル化されたセラミックス原料粉を基材11上に衝突させて、原料粉の破砕物を基材11上に堆積させる堆積工程を有する製造方法により製造されたものである。 (もっと読む)


【課題】無駄を省いた状態で、所望とする微細なパターンに電着による膜が形成できるようにする。
【解決手段】まず、容器151内に電着液152を収容し、電着液152の中で、白金からなる対向電極153に基板101の金属パターン104形成面を対向させて配置する。この状態で、定電圧源154により、対向電極153に正電圧を印加し、シード層102に負電圧を印加する。ここで、金属パターン105に必要な配線を接続することで、シード層102に対する負電圧の印加を行う。このようなカチオン電着により、金属パターン104および金属パターン105の露出している面(上面)に、電着液152中の電着成分が付着(析出)し、電着絶縁膜106が形成される。 (もっと読む)


マイクロ電子構造を形成する方法及びその形成構造について記載する。無水溶媒に金属前躯体を溶液槽にて溶解し、配線開口を有する基板を溶液槽に配置して、金属前躯体により配線開口内に単分子層を形成する。また、基板を共反応体の混合液中に配置して、共反応体と金属前躯体とを反応させて薄いバリア層を形成する。 (もっと読む)


【課題】一部の領域を加圧することにより、加圧した領域と加圧していない領域との間に材料特性の差異を生じさせることが可能な機能性の高い多孔質膜を有する構造体、前記多孔質膜を簡単にパターニングすることができるパターニング方法、および、加圧した領域の前記多孔質膜を導電性の接合膜として、基材と被着体とを効率よく接合可能な接合方法を提供すること。
【解決手段】構造体1は、基材20と、この上に設けられ、複数の金属粒子101、102が複数の空孔105を囲うように配列した多孔質膜13とを有し、この多孔質膜13は、各金属粒子101、102と複数の樹脂粒子とを含む液状材料を基材20上に供給し、各金属粒子を自己組織化させた後、前記各樹脂粒子を除去することにより、被膜中に空孔105を形成して作製されたものである。この多孔質膜13は、一部の領域を加圧すると、加圧領域と非加圧領域とで材料特性の差異を発現するものである。 (もっと読む)


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