【課題】 本発明は、比抵抗値が低く導電性被膜として好適な金属被膜を形成し得る新規な金属被膜の製造方法を提供するものである。従来、低温時での還元が困難であり抵抗値が高い被膜となりやすかった。かかる低温時の還元処理を克服する技術を提供するものである。
【解決手段】 本発明は、金属ナノ微粒子分散体を基板に塗布した後、水素ガスなどの還元性雰囲気中、１気圧より高い圧力下にて焼成することで、金属皮膜を製造する方法である。焼成温度は、５０〜２００℃で行うことが好ましい。 （もっと読む）

【課題】熱処理を行わずに、金属を含有した連続膜を形成する金属含有膜の形成方法を提供する。
【解決手段】水素化アルミニウムリチウムとシクロペンタシランとを含有する液体１２をセル１１内に充填し、液体１２とセル１１の内壁面１１ａとを接触させる。次いで、セル１１の外壁面１１ｂの一領域１１ｂ’にスポットＵＶ照射器１４を密着させて紫外線Ｖを照射することで、領域１１ｂ’の裏面側となる内壁面１１ａの一領域１１ａ’にシリコン膜２１ａと金属膜２１ｂとが順次積層された金属含有膜２１を形成する。 （もっと読む）

【課題】透明導電膜の光透過率を低下させることなく、且つ製造コストを低減し量産に向いた透光性導電膜基板の製造方法を提供する。
【解決手段】基材上（１０）に形成した透明導電膜（１）の表面に互いに分離したパターンを有する透明絶縁材料（２）を形成し、該透明絶縁材料が付着していない透明導電膜の露出部分に電気めっき法により選択的に金属膜（３）を形成することを特徴とする。透明導電膜の透過率の向上のために、透明絶縁材料のパターンを、透明絶縁材料を含む液状物質の粒径の異なる少なくとも２種類のミストの噴霧により形成してもよい。 （もっと読む）

【課題】各種の描画対象体に対して十分に小さい図画を容易に描画し得る描画方法を提供する。
【解決手段】描画対象体（物体：基材１０）の一面に描画用ガスを吹き付けると共に描画すべき図画Ｇａ（星の絵）を構成する各画素に対応する一面上の各所定位置（形成位置Ｐｂ１０，Ｐｃ１０・・）に描画用ビームを照射して描画用ビームの照射領域に描画用ガス中の描画材料を堆積させることにより、描画対象体の一面とは電気抵抗値が相違する点（マーク４ａ）を所定位置に形成して図画Ｇａを描画する。 （もっと読む）

【課題】 基材表面に形成された酸化イットリウムからなる構造物の機械的強度を向上させた複合構造物を提供する。
【解決手段】 本発明では、基材表面に形成された酸化イットリウムからなる構造物は、酸化イットリウム多結晶体が主成分であり、構造物を構成する結晶同士の界面にはガラス質からなる粒界層が実質的に存在せず、さらに酸化イットリウム多結晶体の結晶構造を立方晶系（ｃｕｂｉｃ）と単斜晶系（ｍｏｎｏｃｌｉｎｉｃ）とを混在させることにより、基材表面に形成された酸化イットリウムからなる構造物の硬度を酸化イットリウム焼結体の硬度よりも大きくすることを可能とした。 （もっと読む）

【課題】従来の真空蒸着による金属膜形成に比べ安価な、金属粉を基板に吹き付けることにより金属膜を形成する方法に於いて、金属粉末が酸化して基板に付着しなくなる課題があった。
【解決手段】加工室内を窒素ガス雰囲気とし、窒素ガス雰囲気で窒素ガスと金属粉末の混合流体を加工基材に吹き付けることにより、金属粉末が酸化することなく基材表面に金属膜が形成でき、簡単に安定して加工基板の金属による配線パターンを形成できた。 （もっと読む）

【課題】ＡＤ法によって基板上に形成された膜を容易に剥離することができる複合構造物等を提供する。
【解決手段】この複合構造物は、基板１１と、エアロゾルデポジション法を用いて、無機材料で形成された原料粉を基板に向けて吹き付けて原料粉を下層に衝突させることにより、衝突の際に原料粉が変形及び／又は破砕することによって新たに生じる活性面を有する粒子同士を結合させて原料粉を堆積させることによって、基板上に直接又は間接的に形成された多結晶の構造物であって、加熱されることによりガスを発生する不純物として、重量で１５０ｐｐｍより多いカーボンを含有する構造物１２とを含む。 （もっと読む）

【課題】銅表面の無光沢化および銅表面とレジストの密着力を確保し、現像あるいはレジスト剥離の際、銅表面にレジストが残らないことを可能とした銅表面の前処理方法及び配線基板を提供する。
【解決手段】銅表面にレジストまたはカバーレイを形成する際の前処理方法であって、銅表面に銅よりも貴な金属を離散的に形成する工程、その後、前記銅表面を酸化処理する工程を有する銅表面の前処理方法。 （もっと読む）

【課題】カーボンナノファイバーが分散された、セラミックス薄膜の製造方法及び基材を提供する。
【解決手段】本発明にかかるセラミックス薄膜の製造方法は、まず、エラストマーと、セラミックス粒子と、カーボンナノファイバーと、を混合して複合エラストマーを得る。次に、複合エラストマーと溶剤とを混合し、塗布液を得る。さらに、塗布液を基板４に塗布し、塗膜５を形成する。最後に、塗膜５を熱処理して塗膜５に含まれるエラストマーを除去すると共に、金属溶湯を塗膜５中に浸透させてセラミックス薄膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】新規な窒化チタンコーティングなどの窒化物コーティング法を提供する。
【解決手段】コーティングする基材を金属チタン粉末などの窒化物形成能を有する物質の粉末中に埋め込み、マイクロ波を照射して交番電界中に曝すことにより、該金属チタン粉末などの窒化物形成能を有する物質の粉末を固相の状態で大気中の窒素成分と反応させ窒化させると同時に、基材表面に生成した窒化チタンなどの窒化物をコーティングすることができる。大気にはチタンなどの自己燃焼反応を起こさない範囲で窒素を富化してもよい。 （もっと読む）

【課題】 高速での乾式切削にも耐え得る、高硬度で耐酸化性等に優れた硬質被膜を基材表面に形成した、切削工具や金型、摺動部材等として好適に用いられる、高硬度材料及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 基材表面に、下記式（１）で表される遷移金属窒化物に第３元素を置換添加して結晶構造を正方晶とした硬質被膜を形成することにより高硬度材料を得る。
ＭＮ （１）
（式中、Ｍは遷移金属を表す。）
好ましい遷移金属としてはクロムが挙げられ、第３元素としては１６属又は１７属の元素から選択されたもの、特に酸素を使用することが好ましい。また、硬質被膜中の第３元素の含有量は、硬質被膜を構成する全元素を基準として１〜４０原子％程度とすることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】 可視光透過率に優れ且つ耐プラズマ性などの耐性にも優れる複合構造物を提供する。
【解決手段】 体積基準による５０％平均粒径が１．０〜５．０μｍの酸化アルミニウム（Ａｌ_２Ｏ_３）微粒子と、体積基準による５０％平均粒径がサブミクロンオーダーの酸化イットリウム（Ｙ_２Ｏ_３）微粒子とを個数比で１：１〜１：１００の割合で混合した後、この混合粉体をキャリアガスと混合してエアロゾルを発生させ、このエアロゾルを透明な基材表面に高速で吹き付け、前記酸化アルミニウム微粒子を製膜補助粒子として、透明な基材表面に透明な酸化イットリウム膜を形成する （もっと読む）

【課題】 面積の大きな基板に対しても均一にミストを噴霧して、形成される膜の厚さを均一にすることを可能とした成膜装置を提供すること。
【解決手段】 スプレー熱分解法により被処理体の一面上に薄膜を形成する成膜装置であって、前記被処理体を載置する支持手段と、前記被処理体の一面に向けて、前記薄膜の原料溶液からなるミストを噴霧する吐出手段と、を少なくとも備え、前記吐出手段が備えるノズルは、ミスト搬入側となる第一の部位と、ミスト吐出側となる第二の部位とを有し、前記ノズル中を移動するミストの面速は、第一の部位における面速をＶ_１ とし、第二の部位における面速をＶ_２ としたとき、Ｖ_２ ＞１．５×Ｖ_１ である。 （もっと読む）

【課題】 簡易な構造で安定に動作し、製造コストも低いプラズモン共鳴型光電変換素子及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明のプラズモン共鳴型光電変換素子は、支持基板１０の上に正極集電体１２が形成され、その上には、光を照射されてプラズモン共鳴を起こす金、銀、白金、銅またはパラジウム等の金属で構成された電荷発生層１４が形成されている。この電荷発生層１４は、プラズモン共鳴を起こしやすくするために、突起部を有する。また、電荷発生層１４の上には、電荷発生層１４で発生した電荷を取り出す半導体層１６が形成されている。半導体層１６には、例えば酸化チタン等のｎ型半導体を使用することができる。半導体層１６の上には、ＩＴＯ等の透明電極１８が形成され、透明電極１８の上には、ガラス、プラスチック等の支持基板２０が形成される。 （もっと読む）

【課題】ｎ型特性であるアノード光電流またはｐ型特性であるカソード光電流の応答を高効率で示しかつ安定な新規半導体の一群を用いた高性能な形状の光半導体素子を提供する。また、アノード光電流だけでなくカソード光電流も同時に流せるユニークな光半導体素子を提供する。
【解決手段】鉛及びビスマスを含み複合酸化物半導体の多孔質薄膜が導電性基板上に形成されている半導体素子であって、電解液中でカソード光電流および／またはアノード光電流を示す、可視光応答性の半導体素子。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、基板に連続して表面処理を行った場合であっても、均一な状態に基板の表面を処理することが可能な表面処理方法、およびその表面処理方法に用いられる表面処理用装置を提供することを主目的としている。
【解決手段】 上記目的を達成するために、本発明は、基材、および前記基材上に形成され、少なくとも光触媒を含有する光触媒含有層を有する光触媒含有層側基板の前記光触媒含有層と、エネルギー照射に伴う光触媒の作用により表面が処理される被表面処理面を有する処理用基板の前記被表面処理面とを対向させて配置し、前記光触媒含有層にエネルギーを照射することにより、前記被表面処理面の処理を行う表面処理工程を複数回行って、複数の前記処理用基板の表面を処理する表面処理方法であって、
前記複数回行う表面処理工程の間に、前記光触媒含有層に付着した付着物を除去する付着物除去工程を行うことを特徴とする表面処理方法を提供する。 （もっと読む）

本発明は、基板における構造表面の製造方法であって、基板が、振動する状態にしたゾルに導入、特には浸漬されるか、または振動を設定されている基板が、随意に振動する状態にした、ゾルに導入、特には浸漬する、前記方法に関する。本発明は同様に、このように構造化された基板および光学的応用におけるこれらの使用に関する。 （もっと読む）

【課題】導電性材料の製造方法において、透明性と導電性が共に高く、かつ生産性の良い導電性材料が得られるための製造方法を提供する。
【解決手段】支持体上に少なくとも１層のハロゲン化銀乳剤層を含有する導電性材料前駆体を露光後、現像処理、定着処理、めっき処理を少なくともこの順に施す導電性材料の製造方法において、該導電性材料前駆体を露光、現像後にチオ硫酸塩を含有しないか、若しくは０．０５モル／Ｌのチオ硫酸塩を含有する定着液で定着処理することを特徴とする導電性材料の製造方法、若しくは支持体上に少なくとも１層のハロゲン化銀乳剤層を含有する導電性材料前駆体を露光後、現像処理、めっき処理、定着処理を少なくともこの順に施す事を特徴とする導電性材料の製造方法を用いる。 （もっと読む）

【課題】 偏光素子や回折格子として用いることができ、耐熱性ないし耐光性を備えた信頼性の高い光学素子の製造方法であって、安価で且つ量産性の高い製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明の光学素子の製造方法は、誘電体からなる基板１１Ａ上に縞状のパターンを有したレジスト１５を形成する工程と、前記レジスト１５に対して耐めっき性を付与する工程と、前記縞状にパターニングされたレジスト１５（１６）の隙間に対し、無電解めっき処理により第１金属膜２ａを形成する第１めっき処理工程と、前記第１金属膜２ａ上に、電解めっき若しくは無電解めっき処理により前記第１金属膜２ａとは異なる金属からなる第２金属膜２ｃを形成する第２めっき処理工程と、前記レジスト１５（１６）を剥離する剥離工程と、を具備してなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 水系無機塗料の塗装方法において、塗装前処理方法を確立することによって、薄膜（厚さ５μｍ以下）で平滑であり強靭で気泡のない塗膜を得られること。
【解決手段】 水系無機塗料製造工程Ｓ１で水系無機塗料が製造され、強アルカリ浸漬工程Ｓ２で、ワークをｐＨ１２に調整した強アルカリ水溶液を６０℃〜７０℃に加熱したものに５分間〜１０分間浸漬して、温純水洗浄工程Ｓ３で温純水で十分に洗浄して強アルカリ水溶液を完全に洗い流し、強酸浸漬工程Ｓ４でワークをｐＨ４に調整した強酸水溶液に５分間〜１０分間浸漬して、温純水洗浄工程Ｓ５で温純水で十分に洗浄して強酸水溶液を完全に洗い流し、乾燥工程Ｓ６でワークを水跡が残らないようにしながら十分に乾燥させ、遠心塗装装置で水系無機塗料がワークに塗装され（Ｓ７）、熱風乾燥機に入れて２５０℃で１０分以上加熱して（Ｓ８）、塗膜厚さ約２μｍの平滑で強靭な気泡のない無機塗膜を得た。 （もっと読む）