【課題】食品による焦げ付き汚れの付着を抑制することができ、たとえ付着しても水拭き程度で簡単に除去することができ、しかも、この焦げ付き汚れの付着防止効果を長期に亘って持続させることができるコンロ用トッププレート及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明のコンロ用トッププレート１は、プレート本体２の表面に形成された凹凸構造４上に、ケイ素（Ｓｉ）と、ジルコニウム（Ｚｒ）と、酸素（Ｏ）とを含有し、ケイ素（Ｓｉ）を酸化ケイ素（ＳｉＯ_２）に、ジルコニウム（Ｚｒ）を酸化ジルコニウム（ＺｒＯ_２）に、それぞれ換算したときの、酸化ケイ素（ＳｉＯ_２）の、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ_２）と酸化ケイ素（ＳｉＯ_２）の合計量に対する質量百分率が４０質量％以下である薄膜５を成膜した。 （もっと読む）

【課題】リング状の金属構造やメッシュ状の金属構造を容易に作成することを可能とする。
【解決手段】ビーズを２枚の基板で挟んで押しつぶした状態で、メッキ処理を施すことでビーズの側面に金属コートが施されリング状の金属構造が得られる。使用するビーズの形状を選ぶことで、円環状、三角環状などの形状の金属構造を得ることができる。ビーズをポリマー溶液に入れてガラス基板上に滴下することで、ビーズの凝集を防いで欠けのないリング状の金属構造を作成できる。また、同様の方法により基板に対してメッシュ状の金属コーティングを施すことができる。この場合、ビーズを水に混ぜて滴下することで、自己組織化によってビーズを整列させることができ、メッシュ状の金属コーティングが得られる。 （もっと読む）

【課題】導電性ペーストの印刷によって作ったメッシュパターンをベースにして、高導電率で、膜強度が十分に強いメッシュパターン薄膜を透明基材上に形成した電磁波シールド部材を得ること、およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】透明基材上に導電性材料をメッシュパターンに形成した電磁波シールド部材であって、該導電性材料が、金属微粒子をバインダー樹脂によって結着した空隙率が２０〜８０％の金属微粒子結着体において、めっき金属が前記金属微粒子間を連結しているものであって、表面抵抗値が１０Ω／□以下である電磁波シールド部材である。
透明基材上に、印刷法を用いて、金属微粒子を樹脂バインダーによって結着した空隙率が２０〜８０％の金属微粒子結着体をメッシュパターンに形成し、このものをめっき処理する電磁波シールド部材の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】エアロゾルを用いた被膜形成方法及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】微粒子材料にキャリアガスを混合してエアロゾル化し、これをノズルから噴射して基板に衝突させ基板上に微粒子材料からなる被膜を形成する方法であって、該微粒子材料が有機金属錯体を１種以上含むものであり、基板上に形成された被膜中の前記有機金属錯体を、焼成及び／又は還元処理をして金属又は合金にすることを特徴とする被膜形成方法、及び微粒子材料にキャリアガスを混合してエアロゾル化し、これをノズルから噴射し開口パターンを有するマスクを介して基板に衝突させて基板上に微粒子材料からなるパターンを形成する方法であって、該微粒子材料が有機金属錯体を１種以上含むものであり、基板上に形成されたパターン中の前記有機金属錯体を、焼成及び／又は還元処理をして金属又は合金にすることを特徴とするパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】原料として安価な微粒子材料を用い、光導波路素子や薄膜キャパシター素子に適用可能な緻密で高透明、低リーク電流のサブミクロンオーダー、ナノメーターオーダー膜厚の脆性材料膜構造体を提供する。
【解決手段】脆性材料粒子を粒子径１００ｎｍ以下に粉砕後、基板に吹き付け、これを基板上に堆積することにより形成された、アモルファス相の含有体積分率３０％以下で、平均結晶粒径が５０ｎｍ以下の多結晶構造である脆性材料膜構造体。 （もっと読む）

【課題】粒子寸法が制御され、顕著な副生物がなく、安定化された金属コロイドを提供する。
【解決手段】周期律表のＩｂ族、ＩＩｂ族、ＩＩＩ族、ＩＶ族、Ｖ族、ＶＩ族、ＶＩＩｂ族、ＶＩＩＩ族、ランタノイド族及び／又はアクチノイド族の金属を含んで成り、粒子寸法が５０ｎｍ以下であり、支持電解質及び／又は安定剤として、第４級アンモニウム塩又はホスホニウム塩（それぞれＲ^１Ｒ^２Ｒ^３Ｒ^４Ｎ^＋Ｘ⁻又はＲ^１Ｒ^２Ｒ^３Ｒ^４Ｐ^＋Ｘ⁻であって、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４は同じ又は異なり、Ｃ_１−１８アルキル又はアリール基である。）が存在する、有機媒体に溶解性もしくは再分散性である金属コロイド、２成分系金属コロイドまたは多成分系金属コロイドである。更に、同様の水溶性金属コロイド、２成分系金属コロイドまたは多成分系金属コロイドである。 （もっと読む）

装置を通る移動経路に沿って移動する基板（２０）をコーティングする装置および方法。プラズマ源（３０）はプラズマジェット（３２）を放出し、そこにジェットの上流に配置された吐出オリフィス（１４４，１４６）から第１の試薬が注入される。第２の試薬は、ジェットの下流に配置された吐出オリフィス（２４４，２４６）からジェット内に注入される。制御装置（１６６）は、第１の組のパラメータに従って第１の試薬の流れを調整し、第２の組のパラメータに従って第２の試薬の流れを調整するように構成される。その結果、第１および第２の試薬が基板に塗布されて、基板上に少なくとも１つのコーティング層を形成する。
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【課題】非晶質薄膜及び／又は結晶性の低い薄膜を、薄膜の温度を低温に保ちつつ、短時間で結晶化させて得られ、均質で、且つ、樹脂基板上に形成可能である結晶薄膜、及び、その製造方法を提供する。
【解決手段】非晶質薄膜及び／又は結晶性の低い薄膜を、該薄膜の極近傍に薄膜面と平行に導電性の電極を配置した高周波印加装置内に配置し、高周波電界が該薄膜に集中する条件でプラズマを発生させ、温度を１５０℃以下に維持しながら、及び／又は、結晶化に要する時間１５分以内で、結晶化させて得られることを特徴とする。高周波電界が、非晶質薄膜等に集中するように、プラズマを発生させるために、高周波印加装置内の気体の圧力を最適に制御することが好ましい。 （もっと読む）

【課題】銅表面に１，０００ｎｍを超す凹凸を形成することなく、銅表面と絶縁樹脂との接着強度を確保し、各種信頼性を向上させることができる銅表面の処理方法、ならびに当該処理された配線基板を提供する。
【解決手段】銅表面の処理方法において、銅表面に貴金属を離散的に形成する工程、前記銅表面を、酸化剤を含むアルカリ性溶液で酸化処理して酸化銅を形成する工程、前記酸化銅を、還元剤を含むアルカリ溶液で還元処理して金属銅を形成する工程、前記金属銅の表面にニッケル、コバルト、ニッケルとコバルトの合金、ニッケルおよびコバルトの２層から選択される無電解めっき皮膜を形成する工程を有する銅表面の処理方法。 （もっと読む）

【課題】耐摩耗性および耐候性等の耐久性、水滴離水性（滑水性ともいう）、ならびに防汚性の向上した撥水撥油防汚性反射板およびその製造方法ならびにそれを用いたトンネル、道路標識、表示板、乗り物および建物を提供する。
【解決手段】第１の官能基３が表面に導入された反応性基材４、および第１の官能基３と反応して共有結合を形成する第２の官能基７が表面に導入された反応性透明微粒子９を接触させた状態で加熱し、次いで酸素を含む雰囲気中で加熱処理して得られる、表面に透明微粒子が融着された基材１ａの表面に撥水撥油防汚性被膜１１を形成することにより製造される撥水撥油防汚性反射板１２、ならびにこれを用いたトンネル、道路標識、表示板、乗り物および建物。 （もっと読む）

【課題】 誘電体層の成膜性を向上しつつ、より良好な特性を実現する。
【解決手段】 誘電体デバイスの製造方法において、以下の工程を有する。（１）混合工程：母材の粉末と、当該母材の焼結のための添加剤の粉末と、を混合する。（２）混合物熱処理工程：前記混合工程を経た、前記母材と前記添加剤との混合物を、熱処理する。（３）成膜層形成工程：前記混合物熱処理工程を経て得られた前記原料粉末を、前記基板に向けて噴射することで、当該基板に成膜層を形成する。（４）成膜層熱処理工程：前記成膜層形成工程を経て前記基板に形成された前記成膜層を熱処理することで、前記基板に前記誘電体層を形成する。 （もっと読む）

【課題】抗菌機能に優れて、さらに、繰り返しの使用によりクラック等が発生することのない高硬度の表面を形成する飲食物用容器を提供すること。
【解決手段】本体下部１１に蓋上部１２を被せることにより、その内部に飲料または食料の一方あるいは双方を収容可能な複数種の収容空間Ｓ１、Ｓ２を形成する飲食物用容器１０であって、本体下部および蓋上部が純チタンにより作製されており、少なくともその収容空間を形成する内面板１３、１４の表面が、チタン粉体を噴射して吹き付けることにより酸化チタン層を形成された後に、さらにその表面に陽極酸化処理を施されている。 （もっと読む）

【課題】製造効率が向上し、傷付き及び焼切れが防止され、均一な厚さで金属めっき層が形成された光透過性電磁波シールド材の製造方法を提供する。
【解決手段】シランカップリング剤とアゾール系化合物との混合物または反応生成物、および貴金属化合物を含む無電解めっき前処理剤を透明基板上に塗布、乾燥させ、透明基板上に前処理層を形成する工程、前処理層上にドット状のめっき保護層を形成する工程、めっき保護層が形成されずに露出した前処理層上に、無電解めっきすることによりメッシュ状の金属導電層を形成し、透明基板、めっき保護層及び金属導電層を有する積層体を得る工程、及び長尺状の積層体を、陽極及び陰極を浸漬させためっき液中に連続的に浸漬させた後、長尺状の積層体にめっき液を介して陽極及び陰極から通電して電気めっきを行うことにより金属導電層上に金属めっき層を形成する工程、を含む光透過性電磁波シールド材の製造方法。 （もっと読む）

【課題】金属蒸着層上に無機層状化合物を含有する樹脂組成物からなる層が積層されてなる多層構造体であって、ガスバリア性、特に高湿度条件下でのガスバリア性に優れる多層構造体の製造方法を提供する。
【解決手段】基材層と、該基材層の少なくとも一方の面に形成される金属および／または金属酸化物からなる第１の層と、該第１の層と隣接してなり、樹脂および無機層状化合物を含む樹脂組成物から形成される第２の層とを有する多層構造体の製造方法であって、以下の工程（１）、（２）を順に含む多層構造体の製造方法。
（１）金属および／または金属酸化物を蒸着処理することにより第１の層を前記基材層上に形成する工程
（２）樹脂、無機層状化合物および液体媒体を含み、ｐＨが７〜１４である塗工液を、前記第１の層上に塗工し、次いで液体媒体を除去して、第２の層を前記第１の層上に形成する工程 （もっと読む）

【課題】金属表面、ガラス表面、又はセラミック表面を有す基板であって、干渉顔料を含有するガラス状の層を付与された基板を製造する方法、該基板、及びその使用を提供する。
【解決手段】本発明は、金属表面、ガラス表面、又はセラミック表面を有し、且つ、干渉顔料を含むガラス状層が付与された基板を製造する方法に関し、誘電干渉層を有する該干渉顔料は湿式細砕により、好ましくは粒径が６μｍ以下になるまで、細砕され、粉砕された干渉顔料は珪酸塩含有懸濁液に分散され、該懸濁液は塗工組成物として前記金属表面、前記ガラス表面、又は前記セラミック表面に塗布され、前記粉砕干渉顔料を含む前記ガラス状層を形成するため６５０℃以下の温度で高密化される。前記干渉顔料の前記湿式細砕により、前記干渉顔料が達成しえる光学的効果を粉砕により損なうことなく高品質のガラス状層を金属表面、ガラス表面、又はセラミック表面上に得ることができる。
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【課題】光透過性をはじめとする磁気光学特性に優れた、チタン酸ジルコン酸鉛（ＰＺＴ）のマトリックス中にコバルト超微粒子が均一に分散された新規な磁気光学材料、及びその効率的な製造方法を提供する。
【解決手段】チタン酸ジルコン酸鉛微粉末結晶とコバルト超微粒子を均一に混合してなる原料粉末をキャリアガス中に浮遊させて、常温で基板の表面に吹き付けることにより常温衝撃固化現象を利用して基板表面で接合させて、コバルト超微粒子をチタン酸ジルコン酸鉛のマトリックス中に均一に分散させた薄膜を基板表面に形成することにより、光透過性の磁気光学材料を製造する。 （もっと読む）

【課題】基材上にエアロゾルデポジション法により形成された膜を備えた部材において、基材と膜との線熱膨張係数の差による膜の剥離やクラックの発生を効果的に抑制することができ、高温で繰り返し使用される半導体製造装置に好適に用いることができる部材を提供する。
【解決手段】基材表面の少なくとも一部に、少なくとも１層の中間層を介して、エアロゾルデポジション法により形成された膜を形成し、前記基材と膜との線熱膨張係数の差が３×１０^-6／Ｋ以上であり、前記中間層を、前記基材の構成材料と前記膜の構成材料との混合組成からなるように構成する。 （もっと読む）

【課題】均質な粉体膜を基板の表面に効率よく成膜できる粉体膜形成装置および粉体膜形成方法を提供する。
【解決手段】原料ｍを収容保持する処理容器２と処理容器２の内周面に近接配置した押圧部材１とが相対移動することにより、原料ｍに機械的外力を付与して原料ｍを微粒子化する微粒子生成手段Ｂと、微粒子生成手段Ｂにより生成された直後の微粒子Ｃを付着させる基板Ａを保持する基板保持手段４とを備え、基板Ａに付着した微粒子Ｃに圧縮力を付与する圧縮力付与手段Ｄを備えた。 （もっと読む）

【課題】耐熱性、耐熱衝撃性及び耐摩耗性に優れた摺動部材及び該摺動部材を含む摺動部品を提供する。
【解決手段】金属、セラミックス又はガラスである基材表面に、電解めっき、無電解めっき、溶射、接着、蒸着及びスパッタリングから選ばれる少なくとも１種の形成方法により形成され、層の厚さが、０．１〜１０００μｍであるＡｇ層を形成してなる摺動部材で、基材表面にＡｇ層を形成させることにより、高強度で、耐衝撃性、耐熱衝撃性、耐食性、耐熱性、耐摩耗性等に優れた摺動部材を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】製造効率が向上された光透過性電磁波シールド材の製造方法を提供すること。
【解決手段】シランカップリング剤とアゾール系化合物との混合物または反応生成物、および、貴金属化合物を含む無電解めっき前処理剤を、透明基板１１上に塗布、乾燥させ、前記透明基板１１上に前処理層１２を形成する工程（Ａ１）、前記前処理層１２上にドット状のめっき保護層１３を形成する工程（Ａ２）、前記前処理層１２を、還元処理する工程（Ａ３）、及び前記めっき保護層１３が形成されずに露出した前記前処理層１２上に、無電解めっきすることによりメッシュ状の金属導電層１４を形成する工程（Ａ４）、を含む光透過性電磁波シールド材の製造方法。 （もっと読む）