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Fターム[4K044AA13]の内容

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Fターム[4K044AA13]に分類される特許

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【課題】 放電表面処理技術を用いて、効率よく硬質物質の被膜を形成させ、射出成形機のスクリュ、ノズル等に硬質被膜を形成し、耐磨耗性を大きく改善する技術を確立する。
【解決手段】 射出成形機ノズル或いは射出成形機用スクリュの金属母材表面に、金属または金属の化合物の粉末を成形した電極を用いて加工液或いは気中においてパルス状の放電を発生させ、その放電のエネルギーにより、電極材料の被膜、あるいは放電のエネルギーにより電極材料が反応した物質の被膜を形成する。 (もっと読む)


【課題】
再生工程を簡易化させることができ、繰り返しの再生によっても耐久性に優れたプレス成形用成形型を提供する。
【解決手段】
本発明の成形型は、基材と、前記基材の表面に形成され、成形面とする保護膜と、前記基材と前記保護膜との間に形成されるエッチング停止膜とから構成されるものである。保護膜としては、Mを含有する組成、Mと炭素を含有する組成、Mと窒素を含有する組成、またはMと炭素と窒素を含有する組成であって、Mとしては、チタン(Ti)、アルミニウム(Al)、タングステン(W)、タンタル(Ta)、クロム(Cr)、ジルコニウム(Zr)、バナジウム(V)、ニオブ(Nb)、ハフニウム(Hf)、ホウ素(B)、白金(Pt)、イリジウム(Ir)、レニウム(Re)、ルテニウム(Ru)、ロジウム(Rh)、オスミウム(Os)及びこれらの組み合せなどの内から選ばれた少なくとも1つが用いられる (もっと読む)


【課題】 従来、減圧下でなければ、超微粒子を目標物上に衝突させて目標物上に膜を形成せしめることができないという欠点があった。
【解決手段】 本発明の目標物に対する膜の形成装置は、微粒子と、上記微粒子の加速ガスと、上記微粒子と上記加速ガスを目標物上に噴射せしめる手段とよりなり、上記噴射により上記目標物上に膜を形成せしめることを特徴とする。また、目標物に対する膜の形成方法は、微粒子を選別する工程と、上記選別した微粒子と加速ガスを目標物上に噴射せしめ、上記目標物上に膜を形成せしめる工程とより成ることを特徴とする。上記微粒子又は第1の微粒子はセラミックス粒子又は金属粒子である。上記第2の微粒子はレジン粒子又は金属粒子である。上記セラミックス粒子が歯質成分粒子であり、目標物は歯である。 (もっと読む)


【課題】 緻密で膜密着性が高く、結晶性の良好な膜を形成可能なエアロゾルデポジッション成膜装置を提供する。
【解決手段】 成膜材料の微粒子をエアロゾル化するエアロゾル形成部20と、エアロゾル29にレーザ光を照射しエアロゾル29を形成する微粒子27を加熱する加熱部30と、エアロゾル29を基板43に向けて噴射して成膜を行う成膜部40と、成膜部40を減圧雰囲気に保持する排気系50などから構成し、加熱部30において、エアロゾルを形成する微粒子にレーザ光を照射して微粒子を加熱し、微粒子を構成する材料に誘起されている歪みを低減する。さらに加熱により微粒子の結晶性を向上し、微粒子表面の付着物を除去する。加熱された微粒子は、成膜部40で噴射ノズル42により噴射された際に断熱膨張により冷却されるので基板43に熱的なダメージを与えない。赤外線、紫外線、マイクロ波等によりエアロゾルを加熱する例をさらに開示する。 (もっと読む)


【課題】 緻密で膜密着性の高い膜を形成可能なエアロゾルデポジッション成膜装置を提供する。
【解決手段】 成膜材料の微粒子27をエアロゾル化するエアロゾル形成部20と、エアロゾル29中の微粒子27を分散させる一次粒子化機構30と、エアロゾル29を基板43に向けて噴射してAD膜46を形成する成膜部40と、成膜部40を減圧雰囲気に保持する排気系50などから構成し、一次粒子化機構30は、配管28内に流路をほぼ塞ぐ第1障壁板31と、その下流に第1障壁板31と対向して配置された第2障壁板32から構成する。エアロゾル29を形成する微粒子凝集体27aは第1障壁板31と第2障壁板32とに衝突を繰り返し、微粒子凝集体27aが機械的に分離され、一次粒子化した微粒子27bからなるエアロゾルが形成される。 (もっと読む)


【課題】 任意の抵抗値を必要とするセラミックス、金属、ガラス、樹脂製電子・電気部材を簡易に調整できる製造方法、構造体を提供する。
【解決手段】 高温での使用、または部品として組み込み工程で一回以上高温状態になるセラミックス、金属、ガラス、樹脂基板にペルオキソ基を持つセラミックス前駆体とコロイド状の導電性超微粒子溶液を混合した後、含浸または塗布し、任意の温度で焼成、結晶化させて任意の体積抵抗、表面抵抗を得る。即ち、基板にペルオキソ基を持つセラミックス前駆体とコロイド状の導電性超微粒子溶液の混合物を含浸または塗布し、前記セラミックス前駆体を結晶化させて、前記基板の体積比抵抗が10〜1012Ω・cmであると共に表面比抵抗が10〜1011Ω/□である表面抵抗層を形成したことを特徴とする絶縁構造体である。 (もっと読む)


【課題】基体(105)と、基体(105)を覆って配置された複数(110)の皮膜ユニット(115、120、125)とを含む物品(100)を提供する。
【解決手段】各皮膜ユニット(115、120、125)は、酸素ゲッタ層(116)とバリヤ層(117)とを含む。本発明の実施形態は、皮膜システムの堅牢性を高めるために冗長性を導入する。基体(105)を覆って多重保護皮膜ユニットを配置して、皮膜ユニットの1つの破損により基体(105)が環境に直接露出する危険性を受ける可能性を非常に少なくするようにする。外側皮膜ユニット(115、120、125)の破損は、基体(105)又は低保護性皮膜層ではなくて、本来の保護皮膜ユニット(115、120、125)を単に露出させる。このようにして、本発明の実施形態は、1つの特定の皮膜層性能への依存度を大幅に低下させ、より堅牢かつ信頼性があるシステムを促進する。 (もっと読む)


【課題】 目的の生理活性物質を高効率に固定化可能で、かつ固定化された目的の生理活性物質を高効率に回収可能な機能性粒子を提供することである。
【解決手段】 芯材粒子と、当該芯材粒子の表面に形成されたニッケル膜またはニッケル合金膜と、当該ニッケル膜またはニッケル合金膜の表面に形成された貴金属膜とを有し、磁性を帯びていることを特徴とする機能性粒子。貴金属膜は金膜、金合金膜、白金膜又は白金合金膜である。 (もっと読む)


【課題】外力の印加した場合にも、基材の意匠性が維持される複合材を提供する。
【解決手段】本発明では、基材と、該基材上に設けられた被覆部とを有し、該被覆部は、(A)シリカ、または平均組成式RpSiO(4−p)/2(式中、Rは有機基、Xはアルコキシ基、ハロゲン、窒素含有基の群から選ばれる少なくとも1種、pは、0<p<4を満足する数である)の群から選ばれる少なくとも1種、(B)ふっ素樹脂粒子を含有してなることを特徴とする複合材であって、前記ふっ素樹脂粒子の被覆部中の含有量が1重量%以上かつ20重量%未満であることを特徴とする複合材を提供する。 (もっと読む)


【課題】 従来よりも低温で焼成して緻密化できるセラミック膜形成方法を提供する。
【解決手段】 助剤層20中の焼結助剤は、第1セラミック材料層18および第2セラミック材料層22内に拡散する。そのため、それらの焼結がその焼結助剤によって促進される。助剤層20は、その全体が第2セラミック材料層22に覆われており、表層部に位置しないことから、焼結助剤の揮散が好適に抑制され、延いては焼結が一層促進される。第1セラミック材料層18および第2セラミック材料層22は、何れも膜厚が薄いことから、この助剤層20からの拡散だけで十分に焼結が促進される。しかも、第1セラミック材料層18および第2セラミック材料層22内には、焼結助剤が含まれていないことから、焼結助剤の揮散に起因する気孔は生じない。 (もっと読む)


アルミノホスフェート化合物及び組成物は、基体又は複合体膜として使用することができ、その被膜は、限定されることなく、平坦化、抗生物付着及び/又は抗菌特性を提供する。 (もっと読む)


【課題】
透明性が改良された無機質膜−基板複合材料及びその製造方法を提供する。

【解決手段】
基板上に、0.15μm以下の微粒子を殆ど含まない0.2〜2μm以下の脆性無機質微粒子のエアロゾルを吹き付けるエアロゾルデポジション法<AD法>により、無機質膜を形成した複合材料であって、無機質膜が可視光線部において透過率85%以上であることを特徴とする無機質膜−基板複合材料。
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【課題】1μmを超えた厚膜で、クラック/剥離のない透明な無機多孔体被膜及びその製造方法等を提供する。
【解決手段】基板表面に形成されたナノスケールの微細な細孔を有するメソポーラス無機多孔体被膜において、水分及び有機成分が除去されており、ナノ細孔構造が維持されており、膜厚が1μm以上で、可視光領域から近赤外領域において90%以上の高い透過率を示し、厚膜化に伴うクラック/剥離の発生がないクラックフリーであることを特徴とする透明無機多孔体被膜、及び該透明無機多孔体被膜からなる光学部材及び絶縁部材。 (もっと読む)


【課題】耐摩耗性に優れた被膜を有する切削工具を提供する。
【解決手段】基材9表面の少なくとも刃先部位に、Al23膜が形成された切削工具であって、Al23膜29が多結晶であり、平均結晶粒径が1nm以上500nm以下であり、緻密度が60%以上、膜厚が0.5μm以上100μm以下である。 (もっと読む)


本発明は、Hv値が60以上の合金層又は単体金属層を下層とし、Hv値が40以下の合金層又は単体金属層を上層とすることを特徴とし、鉛を実質的に含有しないめっき皮膜である。このめっき皮膜は人体及び環境に無害で、摺動特性に優れている。
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【課題】改良された動的スプレーシステムと、それを高速製造環境内で使用するための方法を提供する。
【解決手段】改良された動的スプレーノズルシステムは、粉末/ガス調整チャンバ80の第1端部に接続されているガス/粉末交換チャンバ49と、集束発散超音波ノズル54とを備えており、超音波ノズルは、喉部58によって発散区画から分離されている集束区画を有しており、発散区画は第1部分59Aと第2部分59Bを備えており、集束区画は、粉末/ガス調整チャンバの第1端部とは反対側の第2端部に接続されている。本方法は、本開示のノズルシステムを、ノズルを詰まらせないようにしながら粒子温度を最大に高めることができる硬い粒子を加えて使用すること;所望の非常に速い送り速度と整合するように粒子供給速度を制御すること;及び基板を洗浄し粒子の結合性を高めるために基板を予加熱すること、を含んでいる。 (もっと読む)


熱線遮断組成物、これを利用した熱線遮断被膜およびこれらの製造方法を提供する。熱線遮断組成物は両性の溶媒に伝導性微粒子を酸と湿潤分散剤を利用して分散して製造され、これによって、バインダ樹脂の形態(含水、アルコール系、無水)に関係なしに、バインダ樹脂を使用することができるので、熱線遮断被膜を簡単で、かつ安価に形成することができる。
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【課題】
【解決手段】耐酸化性ユニット10は構造体20の表層側に備えられる電子伝導性領域32と、この電子伝導性領域32の表層側に備えられるイオン導電性を示す酸化物層42と、を備える構造体20と、構造体20の電子伝導性領域32内に負電荷を集積させる負電荷集積手段50と、を備えるものとする。この耐酸化性ユニット10によれば、イオンブロッキング作用と電気的反発作用により、構造体20の耐酸化性が付与あるいは向上される。 (もっと読む)


【課題】 無機基材とリン酸カルシウムまたは酸化チタンとを化学結合によって結合させた複合体およびその製造方法を提供する。
【解決手段】 イソシアネート基、アルコキシシリル基、カルボキシル基、および4‐メタクリロキシエチルトリメルリテートアンハイドライド基からなる群より選ばれる少なくとも1つの官能基を無機基材に導入する官能基導入工程と、リン酸カルシウムおよび/または酸化チタンと上記官能基とを反応させる反応工程を含む方法である。 (もっと読む)


【課題】 エアロゾルデポジション法により構造物が形成された板状基板は、構造物の持つ圧縮残留応力のため、板状基板が凸状に反ってしまう。
【解決手段】 板状基材表面に、セラミックスや半金属などの脆性材料からなる第1の構造物が形成された複合構造物であって、前記第1の構造物は多結晶であり、前記第1の構造物を構成する結晶は実質的に結晶配向性がなく、また前記結晶同士の界面にはガラス層からなる粒界層が実質的に存在せず、前記第1の構造物の厚みは1〜100μmであり、前記第1の構造物の緻密度は70%以上である複合構造物であって、かつ前記板状基板裏面には、セラミックスや半金属などの脆性材料からなる第2の構造物が形成された複合構造物であって、前記第2の構造物の厚みは前記第1の構造物より厚く、前記第2の構造物の緻密度は前記第1の構造物の緻密度より低い第2の構造物が形成されている。 (もっと読む)


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