【課題】 基材表面に形成された酸化イットリウムからなる構造物の機械的強度を向上させた複合構造物を提供する。
【解決手段】 本発明では、基材表面に形成された酸化イットリウムからなる構造物は、酸化イットリウム多結晶体が主成分であり、構造物を構成する結晶同士の界面にはガラス質からなる粒界層が実質的に存在せず、さらに酸化イットリウム多結晶体の結晶構造を立方晶系（ｃｕｂｉｃ）と単斜晶系（ｍｏｎｏｃｌｉｎｉｃ）とを混在させることにより、基材表面に形成された酸化イットリウムからなる構造物の硬度を酸化イットリウム焼結体の硬度よりも大きくすることを可能とした。 （もっと読む）

【課題】寸法精度や形状自由度に優れ、かつ、ボンド磁石よりも耐熱性や磁気特性に優れた磁石を提供する。
【解決手段】本発明による希土類合金系バインダレス磁石の製造方法は、希土類系急冷合金磁石粉末を用意する工程（Ａ）と、樹脂バインダを用いずに前記希土類系急冷合金磁石粉末を冷間にて圧縮して成形することにより、全体に占める前記希土類系急冷合金磁石粉末の体積比率が７０％以上９５％以下の圧縮成形体を形成する工程（Ｂ）と、工程（Ｂ）の後に３５０℃以上８００℃以下の温度で前記圧縮成形体に対して熱処理を施し、磁石体を形成する工程（Ｃ）と、磁石体の表面に気相金属めっき被膜を形成する工程（Ｄ）とを含む。 （もっと読む）

【課題】従来の真空蒸着による金属膜形成に比べ安価な、金属粉を基板に吹き付けることにより金属膜を形成する方法に於いて、金属粉末が酸化して基板に付着しなくなる課題があった。
【解決手段】加工室内を窒素ガス雰囲気とし、窒素ガス雰囲気で窒素ガスと金属粉末の混合流体を加工基材に吹き付けることにより、金属粉末が酸化することなく基材表面に金属膜が形成でき、簡単に安定して加工基板の金属による配線パターンを形成できた。 （もっと読む）

【課題】ＡＤ法によって基板上に形成された膜を容易に剥離することができる複合構造物等を提供する。
【解決手段】この複合構造物は、基板１１と、エアロゾルデポジション法を用いて、無機材料で形成された原料粉を基板に向けて吹き付けて原料粉を下層に衝突させることにより、衝突の際に原料粉が変形及び／又は破砕することによって新たに生じる活性面を有する粒子同士を結合させて原料粉を堆積させることによって、基板上に直接又は間接的に形成された多結晶の構造物であって、加熱されることによりガスを発生する不純物として、重量で１５０ｐｐｍより多いカーボンを含有する構造物１２とを含む。 （もっと読む）

【課題】カーボンナノファイバーが分散された、セラミックス薄膜の製造方法及び基材を提供する。
【解決手段】本発明にかかるセラミックス薄膜の製造方法は、まず、エラストマーと、セラミックス粒子と、カーボンナノファイバーと、を混合して複合エラストマーを得る。次に、複合エラストマーと溶剤とを混合し、塗布液を得る。さらに、塗布液を基板４に塗布し、塗膜５を形成する。最後に、塗膜５を熱処理して塗膜５に含まれるエラストマーを除去すると共に、金属溶湯を塗膜５中に浸透させてセラミックス薄膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】銅表面の無光沢化および銅表面とレジストの密着力を確保し、現像あるいはレジスト剥離の際、銅表面にレジストが残らないことを可能とした銅表面の前処理方法及び配線基板を提供する。
【解決手段】銅表面にレジストまたはカバーレイを形成する際の前処理方法であって、銅表面に銅よりも貴な金属を離散的に形成する工程、その後、前記銅表面を酸化処理する工程を有する銅表面の前処理方法。 （もっと読む）

【課題】乾式下であっても、大気中において、摺動部材の摩擦係数を低減することができる組合せ摺動部材を提供する。
【解決手段】この組合せ摺動部材は、摺動面に非晶質炭素膜を形成した第一摺動部材と、該第一摺動部材の摺動面と摺動する摺動面に窒化炭素膜を形成した第二摺動部材と、を有してなる。 （もっと読む）

【課題】焼結体製基材に被覆した硬質膜を強靭にしてその寿命を延ばすようにした硬質膜被覆焼結部材を提供する。
【解決手段】セラミックス膜、BCN系超硬質材膜、金属とセラミックスの混合物膜のいずれかが前記硬質膜として前記焼結体製基材の表面に被覆され、かつ、均一に分布した直線状の転位の転位密度が１×１０^４〜９×１０^1０ｃｍ^-2である転位組織を前記焼結体製基材界面から数１０μｍ以下の範囲で有していることを特徴とする。 （もっと読む）

金属表面構造物を発生させる方法およびそのための装置に関する。基材に金属粒子をコーティングし、そのコートした基材を、マイクロ波放射を用いて加熱することにより、その基材上に導電性表面パターンを生じさせる方法が開示される。この方法は、実施するのが容易であり、金属パターンを低コストで発生させるために使用することができる。 （もっと読む）

【課題】成膜プロセスにおいて膜厚制御を容易に行うことができる膜形成装置および膜形成方法を提供することにある。
【解決手段】成膜を行う成膜室１０と、膜厚を測定する測定室２０とが連通されており、それぞれ内圧を制御可能となっている。このような構成によれば、成膜室１０および測定室２０の内部を減圧した状態で、両室１０、２０の間で基板Ｂを行き来させ、成膜と測定とを繰り返し行うことができる。また、成膜と測定とを別室で行うようになっており、成膜を行う際には成膜室１０と測定室２０との間を遮断できるようになっているから、測定室２０の内部がエアロゾルによって汚染されることを回避して測定室内を清浄に保ち、測定精度を維持することができる。これらより、成膜プロセス中に膜厚を簡易かつ精確に測定して成膜条件へのフィードバックを行うことができる。 （もっと読む）

【課題】 可視光透過率に優れ且つ耐プラズマ性などの耐性にも優れる複合構造物を提供する。
【解決手段】 体積基準による５０％平均粒径が１．０〜５．０μｍの酸化アルミニウム（Ａｌ_２Ｏ_３）微粒子と、体積基準による５０％平均粒径がサブミクロンオーダーの酸化イットリウム（Ｙ_２Ｏ_３）微粒子とを個数比で１：１〜１：１００の割合で混合した後、この混合粉体をキャリアガスと混合してエアロゾルを発生させ、このエアロゾルを透明な基材表面に高速で吹き付け、前記酸化アルミニウム微粒子を製膜補助粒子として、透明な基材表面に透明な酸化イットリウム膜を形成する （もっと読む）

【課題】 ケイ素含有基体は高温、高速蒸気の多い環境で運転するガスタービンエンジンなどの高温セクションにおいてケイ素気体種を揮発させ、基体に望ましくない凹みをもたらす。
【解決手段】 ケイ素含有基体と、耐環境障壁コーティングとして機能するバリヤ層と、を備えてなる物品に関し、特にバリヤ層はケイ酸ハフニウム、および選択的にケイ酸ジルコニウムを備える。好ましい方法は、酸化ハフニウムとケイ素源との混合物を用意し、表面をこの混合物でコーティングし、その後熱処理してケイ酸ハフニウムを備えるコーティングを形成させる。従来のＢＳＡＳバリヤ層に比べて高温蒸気下での凹みの進行が制御される。 （もっと読む）

【課題】新規な窒化チタンコーティングなどの窒化物コーティング法を提供する。
【解決手段】コーティングする基材を金属チタン粉末などの窒化物形成能を有する物質の粉末中に埋め込み、マイクロ波を照射して交番電界中に曝すことにより、該金属チタン粉末などの窒化物形成能を有する物質の粉末を固相の状態で大気中の窒素成分と反応させ窒化させると同時に、基材表面に生成した窒化チタンなどの窒化物をコーティングすることができる。大気にはチタンなどの自己燃焼反応を起こさない範囲で窒素を富化してもよい。 （もっと読む）

【課題】 高速での乾式切削にも耐え得る、高硬度で耐酸化性等に優れた硬質被膜を基材表面に形成した、切削工具や金型、摺動部材等として好適に用いられる、高硬度材料及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 基材表面に、下記式（１）で表される遷移金属窒化物に第３元素を置換添加して結晶構造を正方晶とした硬質被膜を形成することにより高硬度材料を得る。
ＭＮ （１）
（式中、Ｍは遷移金属を表す。）
好ましい遷移金属としてはクロムが挙げられ、第３元素としては１６属又は１７属の元素から選択されたもの、特に酸素を使用することが好ましい。また、硬質被膜中の第３元素の含有量は、硬質被膜を構成する全元素を基準として１〜４０原子％程度とすることが好ましい。 （もっと読む）

本発明は、以下の工程、すなわち、表面を有する支持体を用意する工程、該表面上に一時的粒子の一つの単層を被着させる工程、該一時的粒子上に厚さが粒子径未満であるようにして皮膜を被着させる工程、該一時的粒子を除去して、それにより、多孔質皮膜であって、該皮膜の細孔は先に一時的粒子により占められていた空間に相当し該細孔の少なくとも一部は外部環境に連絡する多孔質皮膜を得る工程、皮膜の固定を行う工程、を特徴とするミクロ又はナノサイズ領域における構造を有する多孔質皮膜を製造するための方法であって、前記一時的粒子を、粒子被着後、５０％を超える一時的粒子が最大限二つの隣接粒子と接触し、さもなければ空間により分離されるようなやり方で、前記表面上に被着させることを特徴とする、多孔質皮膜の製造方法に関する。本発明はまた、この方法により得ることができる皮膜及び物体にも関する。
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【課題】 本発明は、基板に連続して表面処理を行った場合であっても、均一な状態に基板の表面を処理することが可能な表面処理方法、およびその表面処理方法に用いられる表面処理用装置を提供することを主目的としている。
【解決手段】 上記目的を達成するために、本発明は、基材、および前記基材上に形成され、少なくとも光触媒を含有する光触媒含有層を有する光触媒含有層側基板の前記光触媒含有層と、エネルギー照射に伴う光触媒の作用により表面が処理される被表面処理面を有する処理用基板の前記被表面処理面とを対向させて配置し、前記光触媒含有層にエネルギーを照射することにより、前記被表面処理面の処理を行う表面処理工程を複数回行って、複数の前記処理用基板の表面を処理する表面処理方法であって、
前記複数回行う表面処理工程の間に、前記光触媒含有層に付着した付着物を除去する付着物除去工程を行うことを特徴とする表面処理方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】高温に曝される状況下であっても、下地めっき層に含まれる成分（たとえばニッケル）が、表面めっき層に拡散するのを効果的に抑制し、表面めっき層と導電性接続材との接続安定性および信頼性を向上させ、またリペア性を向上させる
【解決手段】絶縁部材３０に形成された配線層３１，３２の所定部分に、下地めっき層３５，３６および表面めっき層３７，３８が積層形成された配線付き絶縁部材３において、下地めっき層３５，３６における表面めっき層３７，３８と接する表層部の全体３５Ｂ，３６Ｂを、ニッケルと、コバルトおよび鉄のうちの少なくとも一方とを含んだ固溶体を有するものとした。 （もっと読む）

本発明は、基板における構造表面の製造方法であって、基板が、振動する状態にしたゾルに導入、特には浸漬されるか、または振動を設定されている基板が、随意に振動する状態にした、ゾルに導入、特には浸漬する、前記方法に関する。本発明は同様に、このように構造化された基板および光学的応用におけるこれらの使用に関する。 （もっと読む）

本発明は、微細に分割された導電性金属粒子とバインダーを含む組成物で基材を少なくとも部分的に被覆し、そして被覆された基材を雰囲気温度から２００℃の範囲の温度でハライドイオン源の存在下少なくとも１回水により処理することによる、少なくとも表面の一部に導電性被覆を有する物品の製造方法に関する。本発明の方法は、導電性被覆を有する物品を簡単で、迅速かつマイルドな方法で生産することを可能にする。 （もっと読む）

【課 題】 平滑性の低い多孔質支持体上に、メソポーラス酸化物薄膜が均一に製膜されており、かつ前記多孔質支持体の内部に前記薄膜を構成する酸化物が実質的に存在しないメソポーラス複合体の提供。
【解決手段】（１）多孔質支持体に流動パラフィンを含浸させ、（２）前記（１）で得た流動パラフィン含浸多孔質支持体の表面に、界面活性剤および酸化物源からなるゲル薄膜を形成させることにより多層構造体とし、ついで（３）該多層構造体を焼成することにより流動パラフィンと界面活性剤とを除去して、多孔質支持体上にメソポーラス酸化物薄膜が積層されてなるメソポーラス複合体を製造する。 （もっと読む）