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Fターム[4K044AA13]の内容

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Fターム[4K044AA13]に分類される特許

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【課題】 ガスが徐々に放出されるような微小な隙間が極めて少ない複合構造物を提供する。
【解決手段】 複合構造物10は、金属やセラミックス、樹脂あるいはこれらの複合材料からできている基材11と、この表面にエアロゾルデポジション法によって形成される脆性材料からなる構造物12と、さらにこの表面に形成されるセセラミック膜13とからなる。 (もっと読む)


【課題】 400℃以上の高温の酸化雰囲気でも長時間の使用に耐え、セラミック部材と金属部材との接合強度を維持させることが可能なセラミック部材と金属部材の接合体を提供すること。
【解決手段】 本発明のセラミック部材と金属部材の接合体は、表面にメタライズ層2が形成されたセラミック部材1と、メタライズ層2にろう材5を介して接合された金属部材4とから成り、メタライズ層2とろう材5とをガラスを含む被覆材6で気密に覆ったものである。メタライズ層2とろう材5とが被覆材6により保護され、400℃以上の高温の酸化雰囲気でもメタライズ層2とろう材5とが酸化されて劣化するのを防止することができる。 (もっと読む)


【課題】誘電体層におけるクラックの発生を抑制し、誘電体デバイスの製造時の歩留まりを向上させる。
【解決手段】誘電体デバイス10は、基板11と、ベース電極12と、誘電体層13と、を備えている。ベース電極12は、基板11の上に固着して設けられている。ベース電極端縁部12aの前記表面が、斜面状の部分を有するように、ベース電極12が形成されている。誘電体層13は、ベース電極12を覆うように、基板表面11aに固着されている。この誘電体層13は、粉末状の誘電体を基板表面11aに噴射することで得られた成膜層を熱処理することによって形成されている。よって、誘電体層13における、ベース電極端縁部12aと対向する部分である、三重点近傍部13aは、他の部分と同様に、緻密な組織を有するように形成されている。 (もっと読む)


本発明は、少なくとも部分的に防食加工され、特に光沢のある、金属及び/又は非金属支持体の製造方法であって、a)支持体に、少なくとも部分的に被覆され得る少なくとも1つの面を設ける段階と、b)第1の金属、第1の貴金属又は第1の金属合金を含む少なくとも1層の金属保護層と、第2の金属、第2の貴金属及び/又は第2の金属合金の少なくとも1種の酸、酸化物、複酸化物、酸化物水和物、硫化物、ハロゲン化物、窒化物、炭化物、窒化炭素、ホウ化物、ケイ化物、オキシハロゲン化物及び/又は塩と、を付与する段階と、を含む製造方法に関する。更に本発明は、少なくとも部分的に防食加工され、特に、光沢の在る支持体であって、支持体と、第1の金属、第1の貴金属又は第1の金属合金及び第2の金属、第2の貴金属及び/又は第2の金属合金の少なくとも1種の酸、酸化物、複酸化物、酸化物水和物、硫化物、ハロゲン化物、窒化物、炭化物、窒化炭素、ホウ化物、ケイ化物、オキシハロゲン化物、特にオキシフッ化物及び/又は塩を含む少なくとも1層の金属保護層と、を含む支持体に関する。 (もっと読む)


【課題】 表面層として耐久性(高硬度、耐スクラッチ性、耐摩耗性、耐薬品性、耐熱性)に優れた酸化ハフニウム層を有する多機能材を提供する。
【解決手段】 少なくとも表面層が炭素ドープ酸化ハフニウム層又は炭素ドープハフニウム合金酸化物層からなる多機能層を具備する。 (もっと読む)


【課題】 環境汚染となるクロム酸や過マンガン酸等を使用せずに、特に平均粒径が20μm以下の微粒子であっても優れためっき密着性を有する導電性無電解めっき粉体及びその工業的に有利な製造方法を提供する。
【解決手段】 導電性無電解めっき粉体は芯材粉体の表面をメラミン樹脂で被覆処理し、更に無電解めっきにより金属皮膜が形成されてなることを特徴とする。また、その製造方法は該芯材粉体と該メラミン樹脂の初期縮合物を接触させて該初期縮合物の重合反応を行って該メラミン樹脂を被覆した該芯材粉体を得る工程、次いで該メラミン樹脂を被覆した該芯材粉体の表面に貴金属を担持させる工程、次いで該貴金属を担持させた該芯材粉体を無電解めっき処理する工程とを、含むことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】時計仕掛けのシリコンひげゼンマイ(1)のような絶縁材でできた微小機械部品は、図の左側部分に示すように、移動中にてんぷ受け(9)のような隣接部品に付着する傾向がある。この欠点を解決しようとするものである。
【解決手段】そのため本発明は、表面の全部又は一部に、好ましくは金、白金、ロジウム又はシリコンのような、非酸化かつ非磁性である金属のような導電性材料層の薄い堆積を実行することによって、図の右側部分に示すように、取り除かれる。 (もっと読む)


【課題】より高性能の誘電体デバイスを提供すること。
【解決手段】誘電体デバイス10は、基板11と、下部電極12と、誘電体層13と、上部電極14と、から構成されている。下部電極12は、基板11の上に固着して設けられている。この下部電極12の上に、誘電体層13が固着して設けられている。この誘電体層13は、粉末状の誘電体と微粒子状の金属とを噴射することで得られた成膜層を熱処理することによって形成されている。この成膜層は、金属が誘電体のマトリックス内に分散された状態に形成され、この成膜層を熱処理することで、金属が当該成膜層内を移動する。この金属の移動により、誘電体層13における、下部電極近傍部13cと上側表面近傍部13dとでは、金属の含有率が異なる。 (もっと読む)


【課題】 成膜性や耐久性、信頼性に優れたプラズマ処理装置用部材を提供する。
【解決手段】 基材上に、純度98%以上であるセラミックス膜を有している。セラミックス膜は、膜を構成している粒子の粒子径が50nm以下であり、膜からの放出水分量が1019分子/cm以下である。 (もっと読む)


【課題】強い腐食性環境下で、プラズマエッチング加工が行われる半導体加工用装置などの容器内配設部材の耐久性の向上を図ること。
【解決手段】金属製または非金属製基材の表面に、直接またはアンダーコート層を介して、周期律表IIIa族酸化物の溶射皮膜からなる多孔質層を有し、その層上には、電子ビームやレーザービームなどの高エネルギーを照射処理によって形成される二次再結晶層が形成されてなるセラミック被覆部材。 (もっと読む)


【課題】耐摩耗性の低摩擦被覆組成物、被覆を施した部品およびその被覆方法を提供する。
【解決手段】被覆物の摺動、転動、微動または衝撃付与部材用の組成物が、TiB対BN比が1:7乃至20:1の範囲にあるTiBおよびBNの複合材粉末、ならびにニッケル、クロム、鉄、コバルト、アルミニウム、タングステン、カーボンおよびその合金から成るグループから選ばれる金属マトリックスを調製することにより形成される。マトリックス形成合金はW、Co、Cr、Fe、Ni、Mo、Al、Si、Cu、Y、Ag、P、Zr、Hf、B、Ta、V、Nbから成るグループから選ばれる合金およびその合金類である。 (もっと読む)


少なくとも一つの有機半導体化合物を用い、基板表面にパターン形成する方法において、(a)規定した凹凸パターンを形成された多数の凹部を含む表面を有するスタンプが提供され、前記凹部は、スタンピング表面と隣接し、スタンピングパターンを規定し、(b)基板表面と結合することができ、且つ少なくとも一つの有機半導体化合物(S)と結合することができる、少なくとも一つの化合物(C1)で前記のスタンピング表面を被覆し、(c)基板表面の少なくとも一部分が前記のスタンピング表面と接して基板上に前記の化合物(C1)の堆積が可能になり、(d)スタンピング表面を離して、基板表面上に結合サイトのパターンを提供し、(e)基板表面に有機半導体化合物(S)の多数の微結晶を適用し、適用した微結晶の少なくとも一部分が、基板表面上の結合サイトの少なくとも一部分と結合する。
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【課題】ガラスやセラミックスなどの平面または立体的な絶縁物表面への導電金属層を形成するために、環境影響の少ない電気メッキ方法を提供する。
【解決手段】平面または立体的な絶縁物の表面に導電金属層を電気メッキする方法において、(a)平均粒子径0.05〜20μmの黒鉛粒子1〜20質量%と、上記黒鉛粒子に対して0.1〜30質量%の、上記黒鉛粒子を水媒体中に分散させる天然または合成の有機物または界面活性剤と、媒体の水とからなり、pHが5〜12の範囲である黒鉛分散液を、上記絶縁物の表面に塗布する工程と、(b)上記絶縁物上の塗布物を乾燥させて、黒鉛粒子を主とする被膜を形成する工程と、(c)上記被膜上に、導電層として金属または合金を電気メッキする工程とを備える。 (もっと読む)


高温の水性環境下における予備被覆基板(102)の保護を改良する装置(100)および方法が提供される。装置(100)は、実質的に多孔性の蒸着皮膜(104)を有する予備被覆基板(102)と、予備被覆基板(102)に非蒸着技術により塗着された1つ以上の非孔性セラミック酸化物系層(106)からなる。非孔性セラミック酸化物系層(106)に相当する熱膨張係数は、蒸着皮膜(104)の熱膨張係数と実質的に調和して、両者の熱的適合性を助成する。更に、非孔性セラミック酸化物系層(106)は、実質的に多孔性の蒸着皮膜(104)の孔内に浸透し、実質的に多孔性の蒸着皮膜(104)を通じた予備被覆基板(102)への流体の侵入を制限する良好に接着された気密シールを提供する。
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本発明は、一つの反復単位が、炭素、ケイ素および水素を主成分とする2〜100層(A、B)からなる1〜1000の反復単位と、任意に機能性表面層(FSL)を含む、低摩耗率かつ低摩擦係数の耐食性薄膜多層構造体に係わる。本発明は、そのような薄膜多層構造体を含む構成要素、およびそのような薄膜多層構造体を堆積する方法にも係わる。
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【課題】高級感があり、耐傷付き性に優れ、傷等による外観品質の劣化が起きにくく、しかも、ステンレス鋼被膜に近い、高級感のある白色被膜を有する装飾品を提供する。
【解決手段】本発明の白色被膜を有する装飾品は、最外層として貴金属または貴金属の合金からなる白色色調を有する被膜が乾式メッキ法により形成された装飾品において、金属またはセラミックスからなる装飾品用基材と、該基材表面に形成された下地層と、該下地層の表面に乾式メッキ法により形成された耐摩耗層、および該耐摩耗層の表面に乾式メッキ法により形成された最外層からなる発色層とから構成され、前記発色層は、厚み0.2〜1.5μmの耐摩耗層と厚み0.002〜0.1μmの最外層とからなる、ステンレス鋼色調を有する硬質の白色被膜であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】プラチナまたはプラチナ合金被膜特有の色調が得られ、へこみや傷等による外観品質の劣化が起きにくく、しかも、高級感のある白色被膜を有する装飾品及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の白色被膜を有する装飾品は、金属またはセラミックスからなる装飾品用基材と、該基材表面に形成された下地層と、この表面に乾式メッキ法により形成された炭化チタン層と、この表面に乾式メッキ法で形成されたプラチナまたはプラチナ合金からなる装飾被膜層とで構成される。これにより、上記装飾品は、傷等による外観品質の劣化が起きにくく、しかも、プラチナまたはプラチナ合金被膜特有の色調が得られ、高級感のある白色被膜を有する。 (もっと読む)


【課題】熱処理を行わずに、金属を含有した連続膜を形成する金属含有膜の形成方法を提供する。
【解決手段】水素化アルミニウムリチウムとシクロペンタシランとを含有する液体12をセル11内に充填し、液体12とセル11の内壁面11aとを接触させる。次いで、セル11の外壁面11bの一領域11b’にスポットUV照射器14を密着させて紫外線Vを照射することで、領域11b’の裏面側となる内壁面11aの一領域11a’にシリコン膜21aと金属膜21bとが順次積層された金属含有膜21を形成する。 (もっと読む)


【課題】各種の描画対象体に対して十分に小さい図画を容易に描画し得る描画方法を提供する。
【解決手段】描画対象体(物体:基材10)の一面に描画用ガスを吹き付けると共に描画すべき図画Ga(星の絵)を構成する各画素に対応する一面上の各所定位置(形成位置Pb10,Pc10・・)に描画用ビームを照射して描画用ビームの照射領域に描画用ガス中の描画材料を堆積させることにより、描画対象体の一面とは電気抵抗値が相違する点(マーク4a)を所定位置に形成して図画Gaを描画する。 (もっと読む)


【課題】例えアスペクト比が高く、深さが深いビアホール等の凹部にあっても、銅等の金属材料を、内部にボイドを発生させることなく、凹部内に高速かつ確実に埋込むことができるようにする。
【解決手段】凹部202を有し該凹部202の内部を含む表面に通電層206を形成した基板Wを用意し、凹部202の内部を除く通電層206の表面に電着法で高分子絶縁膜208を形成し、高分子絶縁膜208を形成した基板Wの表面に電解めっきを行って凹部202内に金属材料210を埋込む。 (もっと読む)


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