説明

Fターム[4K044AA13]の内容

その他の表面処理 (34,614) | 基体構成材料 (4,463) | 非金属質無機質のもの (577) | セラミックス (236)

Fターム[4K044AA13]に分類される特許

81 - 100 / 236


【課題】電子回路基板に前もって形成された貫通孔あるいは止り穴に導電性金属粒子を効率よく付着堆積させて電極または配線となる導電体を確実に形成することができる電子回路基板の製造方法およびその方法で製造された電子回路基板を提供すること。
【解決手段】電子回路基板に形成された貫通孔または有底の止り穴にコールドスプレー法により導電性金属粒子を付着堆積させて電極または配線となる導電体を形成する方法。前記導電性金属粒子を温度が20〜400℃の圧力気体に混合してなる混合気体を前記貫通孔あるいは止り穴に噴射して前記導電性金属粒子を固相状態のまま塑性変形させて付着堆積させて充填する。 (もっと読む)


【課題】高温酸化雰囲気下で使用される金属/セラミック接合体において、金属材料の耐熱性及び/又は耐酸化性、並びに、耐久性を向上させること。
【解決手段】セラミック材料と、該セラミック材料の表面に接合された金属薄層と、該金属薄層の表面に形成された表面層とを備え、前記表面層は、前記金属薄層への酸素の拡散を抑制する機能を有する第2の酸化膜を形成可能な第2の酸化膜形成元素の含有量が前記金属薄層より多い層からなる金属/セラミック接合体及びその製造方法。 (もっと読む)


【課題】耐食性および導電性に優れる耐食導電性皮膜を提供する。
【解決手段】本発明の耐食導電性皮膜は、Tiと、該Tiとは異なる元素であり酸化数が+α(例えば、3)となり得る第1元素(例えば、Fe)と、酸化数が−αとなり得る元素から構成される第2元素(例えば、P、N)とを必須構成元素とする。この耐食導電性皮膜は、従来の皮膜よりも安価であると共に非常に優れた耐食性または導電性を示す。 (もっと読む)


【課題】セラミックス部品の本体の機械的、化学的特性は維持しつつ、その表面にのみ持続的な低摩擦性摺動層、すなわち自己潤滑性皮膜を有するセラミックス構造体およびその製造方法を提供する。
【解決手段】セラミックス構造体の所定の表面に高融点金属法により密着性に優れた金属皮膜を形成し、前記金属皮膜上にめっき法により中間保護層としてニッケルめっき層を形成し、前記中間保護層上にめっき法によりニッケル・二硫化モリブデン共析物皮膜層を形成して、セラミック構造体の表面に密着性に優れた自己潤滑性皮膜を形成する。 (もっと読む)


【課題】
本発明は、簡単な製造方法によって、常温域から高温域に至るまでその機械的な強度や電気的な性能の劣化が無く、長期間の使用によっても信頼性を維持することが可能な導電性を有する多孔質材料とその製造方法およびその導電性多孔質材料を用いた燃料電池の電極集電材料を提供することを目的とする。
【解決手段】
骨材粒子と、この骨材粒子よりも小さく前記骨材粒子同士を結合する微細結晶および/または非晶質相とから形成されるとともに、その開気孔率が15乃至80体積%であり、少なくとも前記骨材粒子には導電性を有する皮膜が形成されており、前記骨材粒子は、金属、セラミックス、有機ポリマーのいずれか一種から選択される材料である。 (もっと読む)


【課題】従来に比較して、第2の無電解金属めっき層を安定して成膜することができ、製造コストの増加を抑制可能な多層金属めっき基材の製造方法を提供する。
【解決手段】基材の少なくとも一方表面に、第1の無電解金属めっき層、第2の無電解金属めっき層がこの順に積層されている多層金属めっき基材を製造するにあたり、基材表面に触媒を有するリード基材を、第2の無電解金属めっき浴に先に浸漬させた後、引き続き、基材表面に第1の無電解金属めっき層が積層された本体基材を、第2の無電解金属めっき浴に浸漬させる。 (もっと読む)


【課題】粒径や密度の小さい粒子を用いる場合であっても、性能にバラツキの少ない製品を得ることが可能な被処理物の表面処理方法を提供する。
【解決手段】高圧エア用ホース4からノズル2に高圧エアを供給する。貯留タンク1内の混合粒子が粒子供給用ホース3を介して該ノズル2内に吸引され、被処理物5の表面に向けて噴射される。該混合粒子中の第1の粒子は、該被処理物5の表面との衝突エネルギーによって一部が溶融し、該表面に固着する。混合粒子中の第2の粒子は、該被処理物5の表面との衝突エネルギーによっても溶融することがなく、該表面に固着しない。第2の粒子の材質、粒径、密度等の性状を適宜選択し、混合粒子の流動性を高くすることにより、ノズル2や粒子供給用ホース3等の詰まりを回避することができると共に、混合粒子の吐出量を安定させ、製品の性能のバラツキを少なくすることができる。 (もっと読む)


【課題】 従来の貴金属被膜形成方法は、基材表面に直接貴金属をメッキしたり、蒸着する方法が用いられているため、膜の密着性は、主として基材表面のアンカー効果に依存して耐剥離性が悪いという大きな課題があった。
【解決手段】 基材表面に、少なくともアルコキシシリル基含有のトリアジンチオール化合物またはチオール化合物で作成された下層被膜を介して形成されていることを特徴とする貴金属被膜を製造提供する。 (もっと読む)


【課題】希土類元素の有機錯体を加熱溶融し、その融液によって被膜を形成し、次に溶融状態において被膜に水蒸気を接触させることによって、配位子と水酸基の置換反応を起こさせることを特徴とする希土類水酸化物被膜の形成方法。
【解決手段】本発明によれば、有機錯体溶融成膜及び加水分解法によって焼成温度を下げて簡便に緻密平滑な希土類水酸化物被膜を得ることができ、また、得られた被膜は低温焼成にて酸化物被膜に変えることができ、産業上その利用価値は極めて高い。 (もっと読む)


【課題】複雑な形状のセラミックの成形が可能で、環境負荷物質である有機バインダーの使用を低減したセラミック製造方法およびセラミック製造装置の提供を図る。
【解決手段】基板3上に、所望の形状のマスク2を配置し、基板3と所望の形状のマスク2と基板3の間に隙間を形成し、原料粉4をキャリアガス5により分散してなるエアロゾル15を基板3上に噴射する。噴射されたエアロゾル15を基板3とマスク2の隙間の間に流入せしめることにより、エアロゾル15内の原料粉4を基板3とマスク2の隙間の間に堆積させることで、マスク2と同じ形状の成形体17を形成する。 (もっと読む)


(CASシステムに従った)IVB群、VB群、及びVIB群の金属、並びにAlから選択される一種類以上の金属で被覆された、耐摩耗性、及び耐腐食性のWCを基礎とした材料を製造するための方法を開示する。この方法は、前記被覆された構造体を、ハロゲン化された化合物を実質的に含まない電解質中で、電気化学的ホウ素化処理で処理することを含み、ここで該電解質はアルカリ炭化物及びホウ素供給源を含み、そして前記電解質は、電気分解の間、50kHz〜300kHzの間の電磁周波数を有する誘導加熱措置の下で加熱される。 (もっと読む)


【課題】大面積で導電性が高く、基板との密着性が高い透明導電膜を、低コストで、連続的に、簡易に生産効率よく製造することができる透明導電膜の製造方法や、この方法を用いて製造される透明導電膜を有する透明導電性部材を提供する。
【解決手段】透明導電材料微粒子にキャリアガスを混合してエアロゾルを形成する工程(I)、該エアロゾルをノズルから噴射して基板に衝突させ該基板上に透明導電膜を形成する工程(II)、及び該透明導電膜にマイクロ波又はプラズマの少なくとも1種を照射する工程(III)を含む。 (もっと読む)


【課題】原料に用いるアルミニウムドープ酸化亜鉛微粒子の導電性を損なうことなく、高い導電性、透明性を有する透明導電膜を簡易に効率よく、低コストで製造可能な透明導電膜の製造方法を提供する。
【解決手段】アルミニウムドープ酸化亜鉛微粒子にキャリアガスを混合してエアロゾルを形成する工程(I)、及び前記エアロゾルをノズルから噴射して基板に衝突させ基板上に前記微粒子からなる透明導電膜を形成する工程(II)を含む。 (もっと読む)


本願は、担体に懸濁された複数の金属ナノ粒子を含むインク組成物であって、担体が水および少なくとも1種類の水混和性の有機溶媒を含み、前記組成物がDPN用に遅い乾燥速度および適切な粘度であるように配合されている組成物を開示する。さらに、カンチレバーに前記組成物を付着させる段階を含む方法であって、該組成物が担体に懸濁された複数の金属ナノ粒子を含み、該担体が水および少なくとも1種類の水混和性の有機溶媒を含む方法を開示する。前記組成物は、カンチレバーを用いてパターンおよびアレイを形成する表面への直接書き込み、マイクロコンタクト印刷、インクジェット印刷、ならびに他の方法に用いることができる。前記組成物は特に、ナノスケール形状の作製、ならびに銀ベースの線およびドットを含む、高品質の連続的な導電線およびドットの形成に有用である。用途には表面修復が含まれる。

(もっと読む)


【課題】バナジウム酸化物薄膜パターン、その作製方法及びその部材を提供する。
【解決手段】APTS(3−Aminopropyltriethoxysilane,HNCSi(OCH)等を用いて、基表面にAPTS−SAM等を作製し、該APTS−SAMに、フォトマスクを介して、真空紫外光照射を行い、露光領域を、アミノ基終端シランからシラノール基へと変性し、このアミノ基終端シラン表面とシラノール基表面を有するパターン化自己組織化単分子膜を、バナジウム酸化物のパターニングのためのテンプレートとして、液相でバナジウム酸化物を析出させてなるバナジウム酸化物薄膜パターン、その作製方法及びバナジウム酸化物系デバイス。 (もっと読む)


【課題】サブミクロンオーダーの金属膜を透明基板上に確実に形成することができるメタルワイヤーパタンの製造方法、バックライトシステム及びそれらを用いた液晶ディスプレイを提供する。
【解決手段】モールド20aにナノインプリント法により凹凸部11を形成する凹凸部形成工程と、モールド20aの凹凸部11上に真空成膜法またはめっき法により金属膜13を堆積させる金属膜形成工程と、凹凸部11上に堆積した金属膜13のうち、凸部15上に堆積した金属膜13を透明基板30に転写してメタルワイヤー層32を形成する転写工程と、を有することを特徴とする。 (もっと読む)


この発明は表面に被覆する領域と除外すべき領域とを含んだ成形体を部分被覆する方法に係り、前記除外すべき領域上に保護層を塗付し、前記表面上に液体相の被覆を塗付し、さらに前記保護層が熱分解によって残留物無しに除去されるような温度まで被覆された成形体を加熱する。 (もっと読む)


【課題】本発明の目的は、ダイヤモンド粒子を含む被膜を基材上に密着性高く形成することにより耐摩耗性に優れた被覆体を提供することにある。
【解決手段】本発明の被覆体は、基材上に被膜が形成されたものであって、該被膜は、ダイヤモンド微粒子とセラミックス微粒子とを含み、該ダイヤモンド微粒子と該セラミックス微粒子とは、それぞれ1nm以上100nm以下の平均粒子径を有し、該基材と該被膜との界面には、上記ダイヤモンド微粒子と上記セラミックス微粒子とが上記基材に浸入したアンカー部が形成されていることを特徴とする。 (もっと読む)


本発明は、基板の表面処理方法、さらにまた、該方法並びに該方法から得られるフィルム、コーティングおよび装置の、限定するものではないが、電子機器の製造、プリント回路板の製造、金属電気めっき、化学侵食に対する表面の保護、局在化導電性コーティングの製造、例えば化学および分子生物学分野における化学センサーの製造、生体医療装置の製造等のような種々の用途における使用に関する。もう1つの局面においては、本発明は、少なくとも1層の金属層、該少なくとも1層の金属層に付着した有機分子の層、および該有機分子の層上のエポキシ層を含むプリント回路板に関する。
(もっと読む)


本発明の局面によれば、基材と、基材表面の少なくとも一部分を覆うセラミック被覆とを備える、部品が提供される。セラミック被覆は、基材と共形であるセラミック層によって接続される隆起セラミックシェルを含む。本発明の別の局面によれば、カーボンナノチューブの少なくとも一部分を覆うセラミック被覆を備える、カーボンナノチューブが提供される。シェルは、部分的または完全に充填されてもよく、またはそれらは、中空であってもよい。
(もっと読む)


81 - 100 / 236