【課題】 長期間にわたって低い体積抵抗率を維持することができる銅薄膜およびこれを銅粒子分散体から形成する方法を提供する。
【解決手段】 工程（Ａ）：銅粒子分散体を含有する塗膜に過熱水蒸気による加熱処理を施す工程、工程（Ｂ）：工程（Ａ）で得られた銅薄膜層に防錆処理を施す工程、の少なくとも２つの工程を含む、銅薄膜の製造方法およびこの方法で製造された銅薄膜。前記塗膜は銅粒子分散体を絶縁性基板に塗布または印刷されたものであることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】 微粒子の凝集や、被塗布材の腐食等の抑制効果が期待できる非極性溶媒を用いた希土類フッ化物微粒子分散液を提供する。
【解決手段】 （Ａ）構造内に親水性基を有する希土類フッ化物微粒子と、（Ｂ）非極性溶媒と、（Ｃ）ノニオン系界面活性剤とを含む、希土類フッ化物微粒子分散液。（Ｂ）非極性溶媒が、誘電率１０以下の非極性溶媒、又は、この誘電率１０以下の非極性溶媒を含む２種類以上の混合溶液である希土類フッ化物微粒子分散液。希土類が、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐｍ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、Ｌｕ、Ｓｃ、Ｙの内、少なくとも一種類以上を含むものである希土類フッ化物微粒子分散液。 （もっと読む）

【課題】基材表面に厚付けした金属皮膜が剥離され易い従来のコールドスプレー法の課題を解決する。
【解決手段】スプレーノズル１８から作動ガスに伴って金属粒子を平滑な基材表面に噴射するコールドスプレー法によって前記基材表面に金属皮膜を形成する際に、スプレーノズル１８と基材表面との距離ｄを一定に保持すると共に、スプレーノズル１８からの金属粒子の基材表面に対する噴射角θを、鋭角であって、前記基材表面に衝突した金属粒子が基材表面を滑動して留まる角度に調整して、スプレーノズル１８から作動ガスに伴って金属粒子を基材表面に噴射しつつ、スプレーノズル１８を基材表面に沿って移動する。 （もっと読む）

【課題】基板とめっき層との密着性に優れた積層体、その製造方法、積層体を備える薄膜トランジスタ、積層体を備えるプリント配線基板を提供する。
【解決手段】
積層体１では、基板２上にシリカ層３および有機層４を介し、めっき層５が形成されている。シリカ層３はポリシラザンを前駆体として形成されているので、基板２との密着性が良好で、上面に無数の微細な凹凸が存在するシリカ層３が形成される。有機層４は、シリカ層３の上面の凹凸によって発現するアンカー効果により、シリカ層３と強固に結合する。また、有機層４の上面には、シリカ層３の上面の無数の微細な凹凸を反映して凹凸が形成されるので、めっき層５と有機層４とは、化学的もしくは電気的な結合に加え、アンカー効果により強固に結合される。よって、シリカ層３および有機層４を介して基板２上に形成されるめっき層５の基板２に対する密着性を向上できる。 （もっと読む）

【課題】部材表面、特に段差部に形成された破砕層を容易に消滅させることができる表面処理方法を提供する。
【解決手段】表面に破砕層２５ｈを有する炭化珪素からなるフォーカスリング２５に対し、表面に電子ビーム４５を照射するか、表面をプラズマトーチ５０で加熱するか、又はアニール処理装置６０に収容して加熱し、これによって、フォーカスリング２５の表面を、炭化珪素の再結晶温度、例えば１１００℃〜１３００℃まで加熱し、当該部分の炭化珪素を再結晶させて緻密層に改質してフォーカスリング２５をプラズマ処理装置１０に適用した際のフォーカスリング２５表面から放出される粒子数を減少させる。 （もっと読む）

【課題】摩擦攪拌加工で長寿命化を達成することができる摩擦攪拌接合用ツールを提供する。
【解決手段】本発明は、基材と、該基材上に形成される被覆層とを含むものであって、該被覆層の表面から１μｍの厚みを有する表面領域は、その表面領域に含まれるいずれの領域においても、積算残留応力が−２ＧＰａ以上１ＧＰａ以下の範囲内にある摩擦攪拌接合用ツールである。 （もっと読む）

【課題】表面改質ガス中の、改質化合物の混合比率を容易に制御できる表面改質装置および表面改質方法を提供する。
【解決手段】本発明の表面改質装置１０は、金属原子、半金属原子、または非金属原子、及び有機基を有し固体物質Ｓの表面を改質する改質化合物を収容するとともに、改質化合物を液体状態から気体状態に気化する気化室１２と、液体状態の改質化合物が含まれる気化室１２の液相１３中に、燃焼性のガスをバブリングして導入するガス導入部１６と、気体状態の改質化合物と燃焼性のガスとを含む表面改質ガス、及び酸素を含むガスを混合して燃料ガスとする混合室１８と、気化室１２から表面改質ガスを混合室１８に移送する移送部１７と、混合室１８に接続され燃料ガスの火炎を固体物質Ｓの表面に吹付ける噴射部１９と、を備える。 （もっと読む）

【課題】密着性のよい強固な膜状構造物をえるための、エアロゾル中の微粒子が、ある特定の方向に拡散しないような構造のノズルと、構造物形成方法および構造物形成装置を提供する。
【解決手段】ガス中に分散させた脆性材料微粒子を含むエアロゾルをノズルより基材６に向けて吹き付けることによって前記脆性材料微粒子を構成材料として含む構造物を基材上に形成するエアロゾルデポジション法による複合構造物作製装置に用いるノズルであって、前記ノズルと製膜対象となる基材６との間の、前記ノズルから吐出されるガスが膨張する少なくとも一部の場所に、エアロゾル吐出方向に略平行となるように障壁５２を設けたノズル。 （もっと読む）

【課題】形成された付着膜を容易に除去することができる成膜装置用部品を提供する。また、成膜装置用部品に形成された付着膜を効率よく除去することができる付着膜の除去方法を提供する。
【解決手段】本発明の成膜装置用部品は、基材と、前記基材に形成されたプレコート層と、前記プレコート層上に形成された多孔質溶射層を有する成膜装置用部品であって、前記プレコート層が、水性無機コーティング剤から形成されたものであり、前記基材の線熱膨張率（α₁）と前記プレコート層の線熱膨張率（α₂）との差（│α₁−α₂│）が１８×１０^-6／℃以下であることを特徴とする。
また、本発明の付着膜の除去方法は、付着膜形成後に、水および／または水蒸気によりプレコート層を処理した後、付着膜を除去することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】黒色の酸化イットリウム溶射皮膜の表面および／またはその表面の黒色二次再結晶層の表面を白色化させる技術を提案する。
【解決手段】黒色の酸化イットリウム溶射皮膜の表面を、酸素ガスやオゾンガス、亜酸化窒素ガスなどの強酸化性ガスによってシールした状態でレーザビーム照射することによって、黒色の皮膜を白色化するとともに、皮膜の表面を構成する酸化イットリウム粒子を溶融一体化させて二次再結晶層を生成させる。これによって、黒色皮膜の表面に白色の文字、数字、線模様などを描くことができる。 （もっと読む）

本発明は、超硬、サーメット、セラミックス、高速度鋼（ＨＳＳ）、多結晶ダイヤモンド（ＰＣＤ）又は多結晶立方晶窒化ホウ素（ＰＣＢＮ）の本体を含み、硬質でかつ耐摩耗性のコーティングが適用されて、陰極アーク蒸発又はマグネトロンスパッタリングなどの物理気相成長（ＰＶＤ）によって成長される切削工具インサートに関する。このコーティングは、（Ｚｒ_xＡｌ_1-x）Ｎ_yの少なくとも１つの層を含み、０．４５＜ｘ＜０．８５及び０．９０＜ｙ＜１．３０であり、０．５〜１０μｍの厚さを有する。当該層は、単一立方晶相又は六方晶相と立方晶相の混合物からなるナノ結晶微細構造を有する。このインサートは、高温を生じる金属切削用途において特に有用であり、改善されたクレーター摩耗抵抗性を有する。
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【課題】スジや透け等の発生を抑制した、均一な膜厚を有する被膜の成膜方法を提供する。
【解決手段】微粒子をガス中に分散させてエアロゾル化するエアロゾル調製工程と、減圧下、前記エアロゾルを噴射ノズルから被噴射体の表面に噴射して成膜する成膜工程と、を有するエアロゾルデポジション法による成膜方法であって、前記成膜工程は、前記被噴射体８に対する前記噴射ノズル６の相対的な位置を移動させつつ、前記被噴射体８の表面に前記エアロゾル９を噴射する第１の成膜工程と、前記被噴射体８に対する前記噴射ノズル６の相対的な位置を、前記第１の成膜工程における前記被噴射体に対する前記噴射ノズルの相対的な移動の方向と交差する方向に移動させつつ、前記第１の成膜工程において前記エアロゾル９が噴射された前記被噴射体８の表面に、前記エアロゾル９を噴射する第２の成膜工程と、を、少なくとも備えることを特徴とする、成膜方法。 （もっと読む）

【課題】或る程度の膜厚を有し、緻密で欠陥のない平坦なナノシート堆積膜を１回の処理で得るようにする。
【解決手段】ＴｉＯ_２、Ｋ_２ＣＯ_３、Ｌｉ_２ＣＯ_３、ＭｏＯ_３を所定量秤量して混合し、焼成した後、水洗して不純物を除去し、さらにＨＣｌで処理して水素型の層状結晶体を生成する。次いで、この層状結晶体をゾル化溶液に投入して撹拌し、層状結晶体に単層に剥離させ、チタニアナノシートが分散したナノシート分散溶液を作製する。一方、基板６に紫外線照射して親水性を付与し（ａ）、その後、基板とシラン化合物とを接触させて基板６の表面に有機分子膜７を形成し、表面電位を付与する（ｂ）。そして、表面電位が付与された基板６を、超音波を照射しながらナノシート分散溶液に浸漬し、基板６上にチタニアナノシートを堆積させ、ナノシート堆積膜８を作製する（ｃ）。 （もっと読む）

【課題】過酷な環境変化を受けても、樹脂との接着強度を維持することができる基板用金属材料、基板用金属材料表面粗化処理方法および基板用金属材料製造方法を提供する。
【解決手段】基板用の金属材料であって、略球状の金属粒子７が金属板６の表面の一部または全面に３段以上積み重ねられることにより表面粗化される。前記金属粒子７が銅、ニッケル、亜鉛、コバルト、鉄、モリブデン、タングステンの中の１種類、または２種類以上の合金から形成されるのが好ましい。 （もっと読む）

【課題】 摺動皮膜の構成成分の混合比率を自由に制御することができる摺動皮膜の形成方法を提供すること。
【解決手段】 相手部材に対して摺動し得る摺動部材１の摺動面２にＳｎをめっきし、次いで、摺動面２へ固体潤滑剤を投射することによって、摺動面２上に摺動皮膜７を形成する。Ｓｎをめっきする工程と、固体潤滑剤を投射する工程とが順次単独で実行されるため、各工程においてＳｎまたは固体潤滑剤の積層量を制御すれば、Ｓｎおよび固体潤滑剤の混合比率を自由に制御することができる。 （もっと読む）

【課題】多孔質体どうしを接合した積層構造体において、多孔質体の材質によらず接合性に優れるものを提供すること。
【解決手段】第１の多孔質体１１と、前記第１の多孔質体１１に積層された第２の多孔質体１２と、前記第１の多孔質体１１と前記第２の多孔質体１２との間に介在して両多孔質体間を接合する接合材１３とを有する積層構造体１であって、前記第１の多孔質体１１と前記第２の多孔質体１２との間には、両多孔質体間を連通させる連通部１４が形成され、かつ前記接合材１３の少なくとも表面部が金属材料からなるもの。 （もっと読む）

【課題】コールド・スプレーにより２つ以上の部品を結合するシステム及び方法を提供する。
【解決手段】本方法（１００）では、第１の部品（５４）及び第２の部品（５６）を整列させて、接合部（５８）を生成する。これらの部品は、前記第１の金属部品（５４）及び前記第２の金属部品（５６）に材料（６５）をコールド・スプレーして、前記接合部（５８）に接着部を生成することによって結合される。本システム（１０）は、コールド・スプレー銃（１２）を制御して、第１の金属部品（５４）と第２の金属部品（５６）との間に接着部を生成するように構成されている制御装置（１６）を含む。 （もっと読む）

【課題】 フラットパネルディスプレイ基板及びフォトマスク基板等の電子材料基板の表面の平坦性を損ねることなく適度なエッチング性を付与し、また界面活性剤を用いて基板表面から脱離したパーティクルの分散性を高めることで、優れたパーティクルの除去性を実現し、これにより、製造時における歩留まり率の向上や短時間で洗浄が可能となる極めて効率的な高度洗浄を可能にするフラットパネルディスプレイ基板及びフォトマスク基板等の電子材料用洗浄剤を提供する。
【解決手段】 界面活性剤（Ａ）を含有してなる電子材料用洗浄剤であって、有効成分濃度０．０１〜１５重量％における２５℃でのｐＨ及び酸化還元電位（Ｖ）［単位はｍＶ、ｖｓＳＨＥ］が下記数式（１）を満たすことを特徴とする電子材料用洗浄剤。
Ｖ ≦ −３８．７×ｐＨ＋５５０ （１） （もっと読む）

構成部品を用意するステップと、前記構成部品に環境バリアコーティングを付着させるステップであって、前記環境バリアコーティングが、亜鉛アルミネートスピネル、アルカリ土類ジルコネート、アルカリ土類ハフネート、希土類没食子酸塩、緑柱石、およびそれらの組合せからなる群から選択されるカルシウムマグネシウムアルミノシリケート（ＣＭＡＳ）緩和組成を含む、別個のＣＭＡＳ緩和層を有するステップとを含む、ＣＭＡＳ緩和能力を有する構成部品を作製する方法。 （もっと読む）

【課題】磁性膜を基体に付着させる際の適切な形成条件を定め、磁性膜の膜厚が２μｍを超えるような場合であっても剥離の生じないような磁性膜付着体の製造方法を提供すること。
【解決手段】磁性膜５を基体３に付着してなる磁性膜付着体１０の製造方法を提供する。この製造方法は、基体３を準備する工程と、交互に積層された有機物膜６及びフェライト膜７からなる磁性膜５を基体３上に形成する工程とを備える。この製造方法において、磁性膜５を形成する工程は、２０μｍ以下の膜厚を有するフェライト膜７をフェライトメッキ法により形成する工程と、０．１μｍ以上２０μｍ以下の膜厚を有する有機物膜６であって当該有機物膜６の膜厚ｔとヤング率Ｅとの比ｔ／Ｅが０．０２５μｍ／ＧＰａ以上である有機物膜６を形成する工程とを交互に行うものである。 （もっと読む）