ポリマー膜（１）のウェブは、回転可能なドラム（１２）の助けを借りて、複数の炎帯状域を通して搬送されることにより、酸化物層、特にＳｉＯ_Xバリア層でコーティングされる。当該複数の炎帯状域は、ドラムの円周面に対して上方から半径方向に方向付けられており、この円周面上で支持および搬送されているウェブの幅全体にわたり、互いに対して或る距離を取って延在し、可燃性ガスと、酸化剤と、シリコン含有化合物とを含むガス混合物の供給を受ける。ここで、回転可能なドラムの円周面は、予め定められた温度まで冷却され、ウェブは、内炎領域の先端の区域を通って搬送される。上記の態様で生成された、バリア層を有するポリマー膜は、１０ｎｍ未満の薄い層厚においても、極めて良好なバリア特性を有する。加えて、周辺圧力で実施される当該処理を、極めて簡素な設備で実施することができ、必要であれば、連続するロール間処理またはインライン処理で実施することができる。
（もっと読む）

【課題】 本発明は一般に電気化学電池構造に関し、より具体的には、電気化学電池構造の改良及びこれに関連する製造及び処理技術の向上に関する。
【解決手段】 電気化学電池支持構造体は、複数の孔を定める導電性ベースと、導電性ベース上に配置されるグリッド層とを含む。多孔質支持層は、導電性ベース又は孔の少なくとも１つにグリッド層を少なくとも部分的に相互貫通させる。 （もっと読む）

【課題】 冷媒として炭酸ガス等の自然冷媒を用いた用途に対しても、十分な摺動耐力を有するコーティングを施したベーンを備えた密閉形圧縮機を提供することを目的とする。
【解決手段】 この発明に係る密閉形圧縮機は、密閉容器内に、圧縮要素と、この圧縮要素の駆動源となる電動要素とを有する密閉形圧縮機において、圧縮要素のベーン１４に、基材１４ｂに窒化処理を施して窒化拡散層１４ｃを形成し、さらに窒化拡散層１４ｃの上にＤＬＣ−Ｓｉ処理を施し、ＤＬＣ−Ｓｉコーティング層１４ｄを形成したことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】焼結体製基材に被覆した硬質膜を強靭にしてその寿命を延ばすようにした硬質膜被覆焼結部材を提供する。
【解決手段】セラミックス膜、BCN系超硬質材膜、金属とセラミックスの混合物膜のいずれかが前記硬質膜として前記焼結体製基材の表面に被覆され、かつ、均一に分布した直線状の転位の転位密度が１×１０^４〜９×１０^1０ｃｍ^-2である転位組織を前記焼結体製基材界面から数１０μｍ以下の範囲で有していることを特徴とする。 （もっと読む）

本発明は、腐食性材料部材を腐食から保護し且つ摩耗および摩擦からは一定程度まで保護することを意図する薄膜を含む被覆であって、該被覆は、本質的に、ケイ素、炭素、水素および窒素を含有し、これらの成分は、ERDA技術により測定された水素の原子濃度が20±5原子％であり、ラザーフォード後方散乱（RBS）技術により測定されたケイ素の原子濃度が15〜28原子％であり、窒素および炭素の原子含有量の比率（N/C）が0.9より大きく、前記材料の硬度は2100daN/mm²以下であるように配合される被覆に関する。 （もっと読む）

【課題】ガスタービンエンジンのタービン、燃焼器及びオーグメンタセクションを含む過酷な熱環境内で使用する構成部品（１０）の表面上で環境保護皮膜（２４）として使用するのに適した金属間組成物を提供する。
【解決手段】本皮膜（２４）は、ガンマプライム（Ｎｉ_３Ａｌ）ニッケルアルミナイド金属間化合物相と、ベータ（ＮｉＡｌ）ニッケルアルミナイド金属間化合物相又はガンマ固溶体相のいずれかとを含有する。本皮膜（２４）は、１４〜３０原子％の平均アルミニウム含有量と、少なくとも１〜１０未満の原子％の平均白金族金属含有量とを有し、本皮膜（２４）の残部は、ニッケルと、クロム、シリコン、タンタル及びコバルトの１つ又はそれ以上と、随意的にハフニウム、イットリウム、ジルコニウム、ランタン及びセリウムの１つ又はそれ以上と、随伴不純物とである。 （もっと読む）

【課題】ガスタービンエンジンのタービン、燃焼器及びオーグメンタセクションを含む過酷な熱環境内で使用する構成部品（１０）の表面上で環境保護皮膜（２４）として使用するのに適した金属間組成物を提供する。
【解決手段】本皮膜（２４）は、ガンマプライム（Ｎｉ_３Ａｌ）ニッケルアルミナイド金属間化合物相と、ベータ（ＮｉＡｌ）ニッケルアルミナイド金属間化合物相又はガンマ固溶体相のいずれかとを含有する。本皮膜（２４）は、１４〜３０原子％の平均アルミニウム含有量と、少なくとも１〜１０未満の原子％の平均白金族金属含有量とを有し、本皮膜（２４）の残部は、ニッケルと、随伴不純物と、随意的にハフニウムとである。 （もっと読む）

【課題】 ケイ素含有基体は高温、高速蒸気の多い環境で運転するガスタービンエンジンなどの高温セクションにおいてケイ素気体種を揮発させ、基体に望ましくない凹みをもたらす。
【解決手段】 ケイ素含有基体と、耐環境障壁コーティングとして機能するバリヤ層と、を備えてなる物品に関し、特にバリヤ層はケイ酸ハフニウム、および選択的にケイ酸ジルコニウムを備える。好ましい方法は、酸化ハフニウムとケイ素源との混合物を用意し、表面をこの混合物でコーティングし、その後熱処理してケイ酸ハフニウムを備えるコーティングを形成させる。従来のＢＳＡＳバリヤ層に比べて高温蒸気下での凹みの進行が制御される。 （もっと読む）

【課題】 ガスが徐々に放出されるような微小な隙間が極めて少ない複合構造物を提供する。
【解決手段】 複合構造物１０は、金属やセラミックス、樹脂あるいはこれらの複合材料からできている基材１１と、この表面にエアロゾルデポジション法によって形成される脆性材料からなる構造物１２と、さらにこの表面に形成される遷移金属炭化物、遷移金属窒化物、遷移金属ほう化物、ダイヤモンドライクカーボンのうちの一種以上からなる薄膜１３とからなる。 （もっと読む）

【課題】
プラスチック成形体表面に対し、シランカップリング剤によるカップリング処理を行った後、前記プラスチック成形体表面に金属被膜を形成している。
しかしながら、シランカップリング剤の塗布方法を用いると、前記プラスチック成形体基材表面に余分なシランカップリング剤が残り、残った前記シランカップリング剤が前記密着性の向上を邪魔し、適切に前記密着性を向上させることが出来ないという課題があった。

【解決手段】
プラスチック成形体基材と金属被膜間の密着性を向上させたプラスチック成形体ならびに前記プラスチック成形体を用いた物品を提供するために、プラスチック成形体基材の表面に単分子膜を形成する工程と、（ｂ）前記単分子膜上に、金属被膜をメッキ形成する工程を用いて、プラスチック基材の表面が基材表面に共有結合した単分子膜を介して金属被膜で被われているプラスチック成形体を提供する。 （もっと読む）

特定の実施形態において、本開示は、金属層を含み、中空内部表面を画成するターゲットを提供する。中空内部表面は内部頂点を有する。内部頂点の少なくとも２つの対向点間の距離は約１５μｍ未満である。特定の例において、該距離は１μｍ未満である。ターゲットの特定の実装は自立である。ターゲットは、コーン、ピラミッド、半球状およびキャップ付き構造を含む多数の開示の形状を有する。また、本開示はかかるターゲットの配列を提供する。フォトリソグラフ技術のようなリソグラフィー技術を用いて開示のターゲットのようなターゲットを形成する方法も提供する。特定の例において、ターゲット型をシリコンウエハから形成し、次に該型の１つ以上の辺を例えば１つ以上の金属のようなターゲット材料で覆う。
（もっと読む）

【課題】 簡易な構造で安定に動作し、製造コストも低いプラズモン共鳴型光電変換素子及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明のプラズモン共鳴型光電変換素子は、支持基板１０の上に正極集電体１２が形成され、その上には、光を照射されてプラズモン共鳴を起こす金、銀、白金、銅またはパラジウム等の金属で構成された電荷発生層１４が形成されている。この電荷発生層１４は、プラズモン共鳴を起こしやすくするために、突起部を有する。また、電荷発生層１４の上には、電荷発生層１４で発生した電荷を取り出す半導体層１６が形成されている。半導体層１６には、例えば酸化チタン等のｎ型半導体を使用することができる。半導体層１６の上には、ＩＴＯ等の透明電極１８が形成され、透明電極１８の上には、ガラス、プラスチック等の支持基板２０が形成される。 （もっと読む）

【課題】ステンレス鋼からなる装飾品で、耐食性が高く、長期にわたって錆発生が極めて起こりにくく、その上、耐傷付き性に優れた耐食性被膜を有する装飾品を提供すること。
【解決手段】ステンレス鋼からなる装飾品用基材と、該基材表面に湿式メッキ法で形成された耐食性被膜層と、該耐食性被膜層の表面に乾式メッキ法により形成された下地層と、該下地層の表面に乾式メッキ法により形成された硬質被膜層と、該硬質被膜層の表面に乾式メッキ法により形成された貴金属被膜層とから構成されていることを特徴とする。
、耐食性が向上し、長期にわたって錆発生が極めて起こりにくくなり、その上、耐傷付き性に優れ、傷等による外観品質の劣化も起きにくい。 （もっと読む）

本発明は、基材の表面を構造化する方法に関し、そこでは基材が、第１の工程で構造化され、第２の工程で、構造化の部分的なスムージングのためにゾル−ゲル法によって被覆され、特に拡散的に散乱する表面を与える。本発明はまた、このようにして構造化された基材、および、光学用途におけるその使用に関する。
（もっと読む）

【課題】真空中で使用された場合でも長期に渡って潤滑性能が良好である転がり支持装置を提供する。
【解決手段】内輪１および外輪２の軌道面に、水素（Ｈ）と炭素（Ｃ）とからなり水素含有率が４０原子％以上５３原子％以下であるダイヤモンドライクカーボン層を形成する。ボール３の間にポリエチレン製のスペーサ４を配置する。 （もっと読む）

【課題】 ケイ酸塩ガラスが形成しにくい環境障壁被覆膜を提供する。
【解決手段】 本発明の一実施形態によれば、物品が開示される。物品は、ケイ素材料から形成されたガスタービン部品と；基板の上に位置し、腐食性硫酸塩にさらされた場合の基板上のケイ酸塩ガラスの形成を低減する酸化セリウムから形成された環境障壁被覆膜とを具備する。 （もっと読む）

本発明は、層状構造体によって少なくとも部分的に被覆された金属基板（１１）に関する。この層状構造体は、基板（１１）に堆積した中間層（１４）と、中間層に堆積した四面体炭素層（１６）とを備える。中間層は、２００ＧＰａよりも低いヤング率を有する少なくとも１つの非結晶質炭素層を備えており、四面体炭素層は、２００ＧＰａよりも高いヤング率を有する。本発明は、さらに、基板に対する四面体炭素層の付着性を改良する方法、および金属基板のヤング率とこの金属基板に堆積した四面体炭素層のヤング率との差を埋める方法に関する。
（もっと読む）

【課題】 摺動性に優れたTiN系硬質被膜、及びそれを含む表面硬化材を提供する。
【解決手段】 B,Si,Vの群から選ばれる少なくとも１種を含むTiN結晶からなる被膜であって、被膜の表面に垂直な軸を基準としたとき、TiN結晶における(111)面の割合が(200)面の割合の５倍以上である。 （もっと読む）

【課題】 拡散防止機能を高めることが可能な半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】 （ａ）半導体基板上に形成された酸素を含有する絶縁体の表面上に、銅以外に少なくとも２種類の金属元素を含む銅合金皮膜を形成する。（ｂ）銅合金皮膜上に、純銅または銅合金からなる金属膜を形成する。（ｃ）工程ａまたは工程ｂの後に、絶縁体中の酸素と銅合金皮膜中の金属元素とが反応して絶縁体の表面に金属酸化物膜が形成される条件で熱処理を行う。 （もっと読む）

【課題】 摺動面の表面粗さが大きい場合であっても、低摩擦化が実現できる低摩擦摺動部材を提供する。
【解決手段】 本発明の低摩擦摺動部材１は、基材１１と、基材１１の摺動面側に形成され相手材と摺接する摺動層２１と、を備え、摺動層２１は、炭素を主成分とし、水素を３０ａｔ％を超え５０ａｔ％未満含み、珪素を１．５ａｔ％以上２０ａｔ％以下含み、該炭素のうちｓｐ² 混成軌道をもつ炭素量が４０ａｔ％以上７０ａｔ％以下である非晶質炭素からなる。低摩擦摺動部材１は、軟質な摺動層２１を有するため、摺動面２１ｆの表面粗さが大きい場合であっても摺動により平滑化する。
さらに、基材１１と摺動層２１との間に位置し、含まれる水素量が摺動層２１の非晶質炭素よりも少ない非晶質炭素からなる耐摩耗層２２を備えてもよい。耐摩耗層２２により、軟質な低摩擦摺動部材１に高い耐摩耗性が付与される。 （もっと読む）