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Fターム[4K053RA48]の内容

化学的方法による金属質材料の清浄、脱脂 (9,294) | 処理剤 (3,156) | 成分 (2,663) | 有機化合物 (1,164) | カルボン酸誘導体 (310) | エステル (43)

Fターム[4K053RA48]に分類される特許

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【課題】銅系材や亜鉛系材について付着有機物の除去を適切に行いつつ、耐食層の除去に基づいて生じる洗浄上がりおよびめっき後の外観不良を抑制することが可能な洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】水溶性リン酸イオン物質、当該水溶性リン酸イオン物質以外の水溶性アルカリ性イオン物質、キレート剤、および界面活性剤を含有し、pHが10〜12であって、腐食抑制剤を含有しない水系組成物。 (もっと読む)


【課題】エレクトロニクス材料、金属、ガラス、サファイア、樹脂等の洗浄工程で要求される製品表面の高清浄度を実現することができる、水溶性洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】(A)アルキルアミンオキサイド0.01〜10重量%、(B)硫酸残基を有する陰イオン界面活性剤0.01〜20重量%、(C)スルホン酸基を有する陰イオン界面活性剤0.01〜20重量%、(D)キレート剤0.01〜20重量%を含有することを特徴とする水溶性洗浄剤組成物。 (もっと読む)


【課題】洗浄後の金型表面の発錆を抑える洗浄液を提供する。
【解決手段】脂肪酸グリセリルのモノエステル、ジエステル、および、トリエステルの3種混合物とジメチルスルホキシドを含む洗浄液である。脂肪酸グリセリルのモノエステル、ジエステル、およびトリエステルの混合比としては、好ましくは、モノエステル:ジエステル:トリエステル=30〜70:20〜60:1〜30、より好ましくは、モノエステル:ジエステル:トリエステル=40〜60:30〜50:2〜20である。 (もっと読む)


【課題】水溶性含浸液を用いた、鋳造品等の対象物の含浸工程において発生する、含浸液含有洗浄廃水から、洗浄水を経済的に有利に回収して、再利用し得る手法を提供する。
【解決手段】重合性成分として水溶性の(メタ)アクリル酸エステル類を含有する含浸液を含む洗浄廃水を、親水性精密濾過膜にて濾過して、洗浄廃水中の非水溶性成分を分離・除去した後、かかる含浸液の重合性成分を、炭素数が7〜12の一価のアルコールからなる抽出剤にて抽出することにより、得られた抽出残液を、洗浄水として再使用するようにした。 (もっと読む)


【課題】 冷間圧延終了後最終焼鈍前に酸化性雰囲気中での加熱を実施する電解コンデンサ電極用アルミニウム材の製造において、微量含有元素の含有量を適切に制御することにより、最終焼鈍後のアルミニウム材のエッチング特性が不十分であるという問題点を解決し、エッチング特性に優れた電解コンデンサ電極用アルミニウム材の製造方法、電解コンデンサ電極用アルミニウム材、アルミニウム電解コンデンサ用陽極材、電解コンデンサ用陽極材の製造方法およびアルミニウム電解コンデンサを提供する。
【解決手段】 電解コンデンサ電極用アルミニウム材の製造において、アルミニウム材のPbの含有量を0.3質量ppm以上2.5質量ppm以下とし、冷間圧延終了後最終焼鈍前のアルミニウム材を酸化性雰囲気中で加熱する。 (もっと読む)


【課題】アルカリ洗浄剤を用い、スケールの発生を抑えながら銅系金属等の各種の金属を腐食させずに高温で洗浄できるようにする。
【解決手段】浸漬された金属を70℃以上の高温で洗浄可能な洗浄剤は、アルカリ金属ケイ酸塩、カルシウム塩およびスケール分散剤を含む水溶液からなる。この水溶液は、カルシウム塩の濃度が20mg/kg以上に設定されており、また、スケール分散剤の濃度が下記の式(a)で規定される濃度以上でありかつ下記の式(b)で規定される濃度以下になるよう設定されている。
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【課題】 MRT樹脂等の配位結合を有する樹脂を使用して硫酸酸性の銅電解液中のビスマスを選択的に回収する方法において、樹脂から溶離されたビスマスを含有する硫酸溶離液を高い硫酸濃度で捕集する。
【解決手段】 樹脂から溶離されたビスマスを含有する硫酸酸性の溶離液の捕集を開始する時点を、樹脂塔出口から流出される液の圧力変化によって特定する。具体的には、樹脂塔出口の圧力が、溶離工程開始時における樹脂塔出口の圧力の1.2倍以上となった時点で、樹脂から溶離されたビスマスを含有する硫酸溶液の捕集を開始する。 (もっと読む)


【課題】種々の汚れ、特に金属加工油の種類に関わりなく、汚れを含んだ洗浄液から、汚れを効果的に分離除去し、洗浄液中の汚れ濃度を洗浄液の洗浄力が低下する濃度レベル以下に抑えること。
【解決手段】20℃における蒸気圧が1.33×103Pa未満の成分を含有する溶剤(a)と、20℃における蒸気圧が1.33×103Pa以上の成分を含有する溶剤(b)とを、質量比(a)/(b)=29/71〜90/10で含む洗浄液を用いて、被洗物の汚れを洗浄した後に、該汚れを含んだ洗浄液の溶剤(a)と溶剤(b)の質量比を(a)/(b)=10/90〜29/71にすることで、汚れを含んだ洗浄液から、汚れを分離除去する方法。 (もっと読む)


【課題】あらゆるタイプの汚れに対して、HCFC225に匹敵するような洗浄力を示すと共に低毒性で、引火性が低く、オゾン層破壊の恐れが全くない洗浄性に優れる高沸点溶剤を含有する洗浄剤を用いて、被洗浄物表面における汚れの再付着による洗浄性の低下を防止し、かつ、揮発性に優れるHFCやHFEによるリンス工程がなく省スペースを可能とする洗浄方法及び洗浄装置を提供することを課題とする。
【解決手段】蒸発速度の異なる20℃における蒸気圧が1.33×10Pa以上の非塩素系フッ素化合物(a)と20℃における蒸気圧が1.33×10Pa未満の成分(b)とを一定の組成比で併用し、かつ、洗浄時の洗浄条件として、「洗浄槽温度」と「洗浄槽温度と蒸気ゾーン温度との温度差」とを規定することで、洗浄剤を加熱して得られる凝縮液によるリンス工程のない洗浄方法で洗浄する。 (もっと読む)


【課題】被洗浄物に付着した水分等を除去するにあたり、乾燥速度が速いとともに、被洗浄物に対する濡れ性に優れ、かつ安全性が高い速乾性液体組成物、そのような速乾性液体組成物を用いた水分等の洗浄方法、および洗浄装置を提供する。
【解決手段】エチレングリコールモノノルマルブチルエーテル等と、水と、を含むとともに、全体量に対して、エチレングリコールモノノルマルブチルエーテル等の含有量を5〜60重量%の範囲内の値とし、かつ、水の含有量を40〜95重量%の範囲内の値とする速乾性液体組成物、そのような速乾性液体組成物を用いた水分等の洗浄方法および洗浄装置である。 (もっと読む)


【課題】超音波を用いてアルミニウム基体表面に存在する異常成長の原因を従来以上に低減させることが可能な洗浄方法、洗浄装置を提供することにあり、更に、異常成長の原因が少ないアルミニウム基体洗浄方法、及びそれを用いた電子写真感光体の製造方法を提供することにある。
【解決手段】少なくとも脱脂工程およびリンス工程を有する洗浄工程を有するアルミニウム基体を洗浄する洗浄方法において、該脱脂工程においては20kHz以上39kHz以下の周波数の超音波を超音波発生手段により少なくとも1つの脱脂槽の洗浄液に印加し、該リンス工程においては100kHz以上200kHz以下の周波数の超音波を超音波発生手段により少なくとも1つのリンス槽の洗浄液に印加することを特徴とする基体洗浄方法。 (もっと読む)


【課題】洗浄効率の向上を図ることにより環境負荷となる洗浄水自体の使用量を低減し、洗浄後の洗浄水の処理に要するコストを低減することを課題とするものである。
【解決手段】洗浄槽Wの底面は複数のインゼクターW1が分散して設置され、且つ洗浄槽Wの内部には被洗浄体を収容した洗浄用籠Bが設置されており、洗浄用籠Bの回転により洗浄用籠Bの受噴射籠面B2が洗浄槽Wの底面と平行状態となった時には、被洗浄体の多くは当該一面上に集合するので、複数のインゼクターW1から受噴射籠面B2に向けて気液混合物が噴射される。 (もっと読む)


【課題】バンプショートの発生を防止して半導体素子の歩留まりを向上させるフラックスの洗浄方法を提供すること。
【解決手段】フラックス洗浄剤によりウェーハ1を洗浄する洗浄処理工程(A)と、前記洗浄処理後、連続して、液温40℃以上の脱イオン水によりウェーハ1をリンスする第1リンス処理工程(B)と、前記第1リンス処理後、連続して、液温25℃以下の脱イオン水によりウェーハ1をリンスする第2リンス処理工程(C)と、を含む。 (もっと読む)


【課題】 被処理基板への銅の再付着を防止できる銅の再付着防止方法を提供すること。
【解決手段】 銅含有物質を含む膜が形成された被処理基板をチャンバ内に設置する工程(ステップ1)と、チャンバ内に設置された被処理基板から銅含有物質を、有機化合物を用いたドライクリーニングを用いて除去する工程(ステップ2)と、銅含有物質が除去された被処理基板を前記チャンバから搬出する工程(ステップ3)と、銅含有物質が除去された被処理基板がチャンバ内に無い状態で、このチャンバ内に飛散した銅含有飛散物を被覆する被覆膜をチャンバ内に堆積する工程(ステップ4)と、を具備する。 (もっと読む)


半導体材料処理装置のアルミニウムめっき構成要素が開示される。構成要素は、基板と、基板の少なくとも1つの表面に形成された任意の中間層とを含む。中間層は、少なくとも1つの表面を含む。基板上または任意の中間層上に、アルミニウムめっきが形成される。アルミニウムめっきが上に形成される表面は、導電性を有する。任意で、アルミニウムめっき上に陽極酸化層を形成することができる。アルミニウムめっきまたは任意の陽極酸化層は、構成要素のうちの処理にさらされる表面を備える。1つまたは複数のアルミニウムめっき構成要素を含む半導体材料処理装置、基板を処理する方法、およびアルミニウムめっき構成要素を作製する方法も開示される。 (もっと読む)


【課題】アルミニウム板表面をエッチングすることなく、しかも確実かつ簡便・安全にアルミニウム板を洗浄する方法を提供すること。
【解決手段】アルミニウム板叉はアルミニウム合金板の表面を水溶液で洗浄処理する工程を含むアルミニウム板又はアルミニウム合金板の洗浄方法であって、前記水溶液は、0.02〜10重量%の烏龍茶抽出物及び0.002〜10重量%の緑茶抽出物を含むものであり、前記烏龍茶抽出物の含有量xと前記緑茶抽出物含有量yの重量比x/yが0.08〜25の範囲であり、前記水溶液で洗浄処理した後、電気伝導度が200μS/cm以下、温度80℃以下の水でリンスする工程を含むことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】洗浄液として洗浄性の高い炭化水素類等を用いて洗浄した後に、リンス液としてハイドロフルオロカーボン類やハイドロフルオロエーテル類を用いて洗浄液をすすぎ乾燥させる処理を、長時間連続して良好な状態で継続する。
【解決手段】リンス液の一部を被再生液として抜き出して冷却し、冷却後の該被再生液を上層液と下層液に比重分離し、得られる下層液をリンス液として再利用する。 (もっと読む)


【課題】 洗浄物の洗浄効率の向上及び洗浄による清浄度の向上を図ること。
【解決手段】 洗浄物を洗浄する溶剤が充填された洗浄槽内に洗浄物を浸漬して、洗浄を行う洗浄物洗浄方法であって、洗浄槽内にマイクロバブルを発生させて、当該マイクロバブルにて洗浄物を洗浄する。そして、上記マイクロバブルは、微小なゴミを吸着する性質を有し、数μm〜十数μmという気泡径を有する微細気泡である。また、上記マイクロバブルを、洗浄槽内に浸漬した洗浄物の下方で発生させる。さらには、洗浄物を配置した洗浄物保持具を、洗浄物が下側を向くよう配置して洗浄槽内に浸漬し、マイクロバブルを洗浄物の下方で発生させる。 (もっと読む)


【課題】乾燥後に表面汚れや洗浄残渣油の滲み出しがなく、乾燥温度が水系洗浄剤よりも低く、乾燥から部品冷却までを短時間で行うことができる、経済的で、洗浄性に優れ、安全性が高い、焼結部品の洗浄方法を提供する。
【解決手段】本発明の焼結部品の洗浄方法は、(A)焼結部品を炭化水素系洗浄液と接触させて洗浄する洗浄工程、(B)次いで防錆剤を濃度が1〜10重量%となるように有機溶剤に均一に溶解して得た防錆剤溶液と接触させて焼結部品表面に防錆皮膜を形成するコーティング工程、及び(C)次いでハイドロフルオロカーボン及び/又はハイドロフルオロエーテル(HFC/HFE)と接触させて焼結部品に付着する炭化水素系洗浄液及び/又は有機溶媒を前記HFC/HFEで置換するリンス工程を含む洗浄方法である。 (もっと読む)


本発明は、(i)リン酸、二リン酸またはポリリン酸のエステル;(ii)下記一般式(I):



(式中、基R1、R2、R3、R4およびR5は、各々同じかまたは異なり、水素原子、アルキル基、アルケニル基またはアシル基である)で表されるベンゾトリアゾール誘導体;(iii)一般式:R6−PO−(OH)2 (II)(式中、基R6はアルキル基、アルケニル基、アリール基またはアリールアルキル基である)で表されるホスホン酸;ならびに(iv)酸源を含有する、腐食しやすい金属または合金の表面の洗浄用酸性組成物に関する。本発明は、さらに使用溶液および洗浄方法に関する。
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