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Fターム[4K053RA59]の内容

化学的方法による金属質材料の清浄、脱脂 (9,294) | 処理剤 (3,156) | 成分 (2,663) | 有機化合物 (1,164) | 複素環化合物 (21)

Fターム[4K053RA59]に分類される特許

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【課題】水分を十分に除去しながら、IPA(イソプロピルアルコール)あるいはこれに代わる水切り乾燥液の使用量が少ない水切り工程を含む洗浄方法・装置を提供する。
【解決手段】洗浄装置1(洗浄方法)は、被洗浄物に洗浄溶剤を適用する第1洗浄処理槽2及び第2洗浄処理槽3(薬剤洗浄工程)と、洗浄処理後の被洗浄物を水ですすぐ第1すすぎ槽4及び第2すすぎ槽5(すすぎ工程)と、被洗浄物に付着した水分を除去するための水切り乾燥槽群6(水切り乾燥工程)を備える。水切り乾燥槽群6は、前記被洗浄物を浸漬した後で引き上げる温純水引き上げ槽11(水引き上げ工程)と、水を取り込む乾燥用溶剤の蒸気を当てる溶剤乾燥槽13(溶剤乾燥工程)を含む。 (もっと読む)


【課題】金属素地の腐食を抑制するとともに、酸洗後の金属材表面の品質を低下させることなく、金属材表面に付着している酸化物皮膜およびスケールの除去速度を速い状態で維持する金属材用酸洗浄液、およびこれを用いる金属材の酸洗浄方法を提供する。
【解決手段】金属材用酸洗浄液は、塩酸(HCl)水溶液に、(A)平均分子量が150〜1500の低分子ポリアミンと、(B)低分子カルボン酸(またはその塩)を含み、更に(C)アセチレンアルコール、(D)ヘキサメチレンテトラミン、(E)ポリエチレングリコールを含むことが出来る。 (もっと読む)


【課題】 MRT樹脂等の配位結合を有する樹脂を使用して硫酸酸性の銅電解液中のビスマスを選択的に回収する方法において、樹脂から溶離されたビスマスを含有する硫酸溶離液を高い硫酸濃度で捕集する。
【解決手段】 樹脂から溶離されたビスマスを含有する硫酸酸性の溶離液の捕集を開始する時点を、樹脂塔出口から流出される液の圧力変化によって特定する。具体的には、樹脂塔出口の圧力が、溶離工程開始時における樹脂塔出口の圧力の1.2倍以上となった時点で、樹脂から溶離されたビスマスを含有する硫酸溶液の捕集を開始する。 (もっと読む)


【課題】特に、金属加工後のアルミニウム及びアルミニウム合金に対して、良好な耐食性を有すると共に、新生面の変色を防止し、かつ防錆性及び消泡性に優れる水溶性洗浄液を提供する。
【解決手段】(A)炭素数8〜18のアルキル基を有するジフェニルエーテルジスルホン酸ナトリウム、炭素数8〜18のアルキル基を有するナフタレンスルホン酸ナトリウム、炭素数15〜18のアルキル硫酸ナトリウム、及び炭素数8〜18のオレフィンスルホン化物のナトリウム塩の中から選ばれる少なくとも一種を含むことを特徴とする水溶性洗浄液である。 (もっと読む)


【課題】 本発明は、研磨工程由来の有機残渣除去性能、銅配線の腐食抑制効果(銅腐食抑制効果)に優れ、かつ腐食防止剤が残留しない銅配線半導体用洗浄剤を提供することを目的とする。
【解決手段】 有機アミン、4級アンモニウム化合物、ウレア基またはチオウレア基を含有する化合物、および水を必須成分とし、pHが7〜12であることを特徴とする銅配線半導体用洗浄剤である。 (もっと読む)


【課題】 洗浄力、乾燥性、安全性、経済性、有害性等の要求項目を満たす洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】 ジエチレングリコールジエチルエーテル及び3−メチル−3−メトキシ−1−ブタノールからなる洗浄剤組成物、特にジエチレングリコールジエチルエーテルの含有量が10〜90容量%、3−メチル−3−メトキシ−1−ブタノールの含有量が90〜10容量%からなる洗浄剤組成物は、自動車、機械、精密機器、電気、電子等の各種工業分野において扱われる部品等に付着する加工油類に対する洗浄力に優れ、特に水溶性加工油等の水及び油分が複合した汚れの洗浄に適しており、沸点が170℃以上であるため揮発性が低く、VOC排出抑制に効果があり、且つ良好な乾燥性を有する。 (もっと読む)


本発明は、(a)加工物表面の少なくとも一部を、金属塩不含イオン液体及び/又は有機溶剤を含有する処理剤で処理する工程を有し、その際に有機溶剤が、場合によりハロゲン化された炭化水素又は2種又はそれ以上のそのような炭化水素の混合物である、加工物から金属塩含有イオン液体の残留物を除去する方法に関する。加工物上の金属塩含有イオン液体の残留物は、電解浴に由来し、かつ例えばEMIMCl×1.5AlCl3(アルミニウムでの金属加工物の電解コーティング用の塩化アルミニウム含有1−エチル−3−メチルイミダゾリウムクロリド)である。有機溶剤(ヘプタン、トルエン、デカリン等)での加工物表面の処理後に、洗浴中に存在するEMIMCl×1.5AlCl3の下層は、相分離により電解浴へ返送される。 (もっと読む)


【課題】低k誘電体材料又は銅相互接続材料を損なわずに、マイクロ電子デバイスの表面からのCMP後の残渣及び汚染物質材料を効果的に洗浄を達成すること。
【解決手段】化学的機械的研磨(CMP)後の残渣及び汚染物質を、自身上に前記残渣及び汚染物質を有するマイクロ電子デバイスから洗浄する洗浄組成物及びプロセス。洗浄組成物は新規の腐食防止剤を含む。 (もっと読む)


【課題】短時間に、かつ洗浄廃液処理のCODMn濃度が低い新缶ボイラの缶内処理方法を提供する。
【解決手段】エルソルビン酸、アスコルビン酸およびそれらの塩からなる群から選ばれる少なくとも一種と、金属水酸化物と、リン酸塩と、を添加した純水を新設ボイラ缶内に供給し、温度120〜230℃(圧力0.2〜2MPa)の条件下に4〜24時間加熱処理する新設ボイラの缶内処理方法である。エルソルビン酸、アスコルビン酸およびそれらの塩からなる群から選ばれる少なくとも一種や金属水酸化物、リン酸塩の配合量を特定の量とすることにより、より洗浄、安定化効果が向上した結果が得られる。 (もっと読む)


【課題】 高酸濃度および高温という過酷な金属酸洗条件下でも、金属素地の腐食を大幅に抑制し、酸洗速度を遅らせることが非常に少ない腐食防止剤を提供する。
【解決手段】 イミダゾリウム系4級アンモニウム塩100重量部、ポリアミン化合物10〜100重量部および有機硫黄化合物10〜100重量部を含む腐食抑制剤を金属酸洗液に添加することによって、たとえば、硫酸を高濃度で含み、90℃以上の高温下での酸洗処理においても顕著な腐食防止効果が得られる。 (もっと読む)


本発明は、(i)リン酸、二リン酸またはポリリン酸のエステル;(ii)下記一般式(I):



(式中、基R1、R2、R3、R4およびR5は、各々同じかまたは異なり、水素原子、アルキル基、アルケニル基またはアシル基である)で表されるベンゾトリアゾール誘導体;(iii)一般式:R6−PO−(OH)2 (II)(式中、基R6はアルキル基、アルケニル基、アリール基またはアリールアルキル基である)で表されるホスホン酸;ならびに(iv)酸源を含有する、腐食しやすい金属または合金の表面の洗浄用酸性組成物に関する。本発明は、さらに使用溶液および洗浄方法に関する。
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【課題】 同一水系内で水と接触するアルミニウム材と鉄材及び/又は銅材とを構成要素として含む装置・設備において、それぞれの金属材の表面に付着したスケールを、同時に除去することができるスケール洗浄剤及びそれを用いた金属材表面のスケール除去方法を提供すること。
【解決手段】 乳酸又は乳酸とその塩を含んでなることを特徴とするスケール洗浄剤、及びそれを用いたスケール除去方法。前記スケール洗浄剤には還元剤、スケール再付着防止剤を含んでいてもよい。
なし (もっと読む)


低k誘電体材料、エッチング停止材料、および/または金属スタック材料を、その上にこれらを有する不良微小電子素子構造から除去する除去組成物およびプロセス。除去組成物はフッ化水素酸を含む。組成物は、これらをその上に有する微小電子素子構造の表面からの材料の少なくとも部分的な除去を、前記構造のリサイクルおよび/または再使用のために、半導体構造に用いられている下位のポリシリコンまたはベアシリコン層に損傷をあたえることなく達成する。
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【課題】電子ビーム溶接等の高エネルギー処理における、処理前の洗浄において、溶接阻害性が少なく、金属吸着性がある成分を洗浄液に添加して金属表面をプロテクトし、ワーク表面の変色を防止する。
【解決手段】脂環式アミン0.0001〜0.012wt%と、液状脂肪酸0.0001〜0.006wt%と、非イオン界面活性剤0.0001〜0.0015wt%とを主剤として含有し、更に高分子多価カルボン酸モルホリン中和剤を0.0001〜0.005wt%含むことを特徴とする水溶性洗浄剤。 (もっと読む)


【課題】銅板等の金属板に対する洗浄力と腐食防止効果の両方に優れた金属用アルカリ洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】アルカリ剤と防錆剤と特定比率のキレート剤とを含有し、アルカリ剤の濃度a(重量%)と防錆剤の濃度b(重量%)とが、下記式(1)を満足する金属用アルカリ洗浄剤組成物。
−0.95≦0.333a−25b−0.2≦0.09 式(1) (もっと読む)


【課題】 金属表面の錆やスケールなどの酸化物皮膜を除去するためのキレート剤・有機酸洗液に添加し、洗浄液中の金属素地の腐食、孔食を抑制する添加で変異原性物質を含まない製剤を提供すること。
【解決手段】腐食抑制剤は、
(1) 両性の界面活性剤である2-アルキル-N-カルボキシアルキル-N-ヒドキシアルキルイミダゾリニウムベタインおよび/またはβ-アルキルアミノカルボン酸のアルカリ金属塩の1種以上からなること。
(2) (1)の物質にメルカプタン基(HS−)、チオシアン酸基(−SCN)、もしくはメルカプタン基のアルカリ金属塩(NaS−、KS−,LiS−)を有する有機化合物から選ばれる少なくとも1種を混合する製剤を使用すること。 (もっと読む)


【課題】 洗浄時の金属の腐食を抑えることができる酸洗腐食抑制剤、及びこの酸洗腐食抑制剤を含有し、錆及びスケール等を十分に除去することができ、且つ金属そのものの腐食抑えることができる耐食性酸洗液を提供する。
【解決手段】 本発明の酸洗腐食抑制剤は、レゾルシノールジグリシジルエーテル、ヒドロキノンジグリシジルエーテル及びカテコールジグリシジルエーテルのうちの少なくとも1種のエポキシ化合物とポリアミン(メタキシリレンジアミン等の芳香族アミン、トリエチレンテトラミン等の脂肪族アミンなど)とを反応させてなる化合物の塩(塩酸、硫酸等との塩)を含有する。また、本発明の耐食性酸洗液は、本発明の酸洗腐食抑制剤を含有する。 (もっと読む)


【課題】
添加剤を含む洗浄液で電子部品を洗浄した後、該電子部品表面に付着している添加剤を、電子部品表面を酸化させることなく除去し、添加剤による汚染が低減された良好な表面を実現するための新規な後洗浄液及び該洗浄液を用いた洗浄方法の提供。
【解決手段】
水溶性アルコール系溶媒及び/又は水溶性の酸化イオウ含有溶媒、フッ素化合物及び水を含有することを特徴とする電子部品用の後洗浄液及び該洗浄液を用いた電子部品の洗浄方法。 (もっと読む)


水、少なくとも1種の酸、アルキンアルコキシレート及び任意に別の添加剤を含む組成物で、金属表面を処理することにより、金属表面を酸洗する方法。好ましい実施の形態では、アルキンアルコキシレートが、錯化剤と共に使用される。 (もっと読む)


本発明は、ガスタービン洗浄剤を対象とする。本発明の組成物は、グリコールアルキルエーテル化合物と、炭素数約3〜18のアルキル鎖長を有するアルコキシル化界面活性剤と、金属防食剤成分とを含む。 (もっと読む)


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