【課題】簡易な装置によって酸素濃度等の内部雰囲気を調整するとともに、被加熱体を加熱することができる加熱炉を提供することを課題とするものである。
【解決手段】断熱部（１０）が外周に設けられた加熱炉本体（１）と、この加熱炉本体内に設けられ、この加熱炉本体内を気密的に区分するとともに、内部に被加熱体（ｗ）を収容する隔壁容器（２）と、上記加熱炉本体内を加熱するヒーター（１１）とを有する加熱炉とした。これに加えて、上記隔壁容器として、少なくとも一部を当該隔壁容器の内部又は外部に向けて酸素ガス又は水素ガスを選択的に透過可能な電気化学セル（３）によって構成し、上記酸素ガス又は水素ガスの透過に伴って放出される熱を利用して上記被加熱体を加熱する加熱炉とした。 （もっと読む）

【課題】発熱手段から気体への不純物混入が発生せず、均一加熱された気体を広範囲に吹き出すことができ、簡素な構造でメンテナンスも容易な気体加熱装置を提供する。
【解決手段】気体加熱装置３０は、気体導入口１４ｄを有する背面壁体１４ｃと、複数の貫通孔１４ｘを有する中間壁体１４ｂと、複数の気体吹出口１４ｙを有する正面壁体１４ａと、それぞれの壁体の間に配置されたスペーサ２６と、加熱手段として背面壁体１４ｃの外面に付設されたプレートヒータ１４ｈと、このプレートヒータ１４ｈ全体を被覆する保護部材３１とを備え、背面壁体１４ｃの気体導入口１４ｄには給気管１８が連結されている。枠状のスペーサ２６をそれぞれ介在させることにより、背面壁体１４ｃと中間壁体１４ｂとの間に第一気体拡散室２７が形成され、正面壁体１４ａと中間壁体１４ｂとの間に第二気体拡散室２８が形成されている。 （もっと読む）

【課題】扉の駆動手段としては、扉の上昇・下降駆動手段だけで、それ以外の駆動手段は特に必要がないシンプルかつ安価な構造の、真空浸炭炉の熱処理室の入口扉を提供。
【解決手段】ワーク５が入る熱処理室である冷却室２の前面の開口部６を閉じるようにシール部材 9、9を両面に配置した中間板12と、中間板12を鋏みかつシール部材 9,9の両面に接触可能に配置された２枚の外側入口扉1a及び内側入口扉1bと、を有し、外側入口扉1a及び内側入口扉1bは、直動軸受 14、14によりガイドされ、個別に上昇・下降可能にされている。中間板12は連通穴23を有し、外側入口扉1a及び内側入口扉1bが下降し中間板内周空間24を遮蔽する状態になったとき、中間板12の連通穴23を介して中間板内周空間24内を排気し、冷却室外の大気圧と冷却室２の内圧で外側入口扉1a及び内側入口扉1bを中間板12に押し付けるようにした。 （もっと読む）

【課題】長尺状のワークに対しても加熱処理後に上下方向について均等かつ高速に冷却できるようにする。
【解決手段】真空熱処理炉１０は、真空容器６、断熱材１、熱交換器２Ａ，２Ｂ、冷却ファン３Ａ，３Ｂ及びガス分配装置である冷却管４Ａ，４Ｂを備えている。真空容器６内に、断熱材１内の上側の範囲から熱交換器２Ａ、冷却ファン３Ａ、冷却管４Ａ及びノズル１３Ａをこの順に経由して断熱材１内の上側の範囲に戻る上部の気体流路と、断熱材１内の下側の範囲から熱交換器２Ｂ、冷却ファン３Ｂ、冷却管４Ｂ及びノズル１３Ｂをこの順に経由して断熱材１内の下側の範囲に戻る下部の気体流路と、を構成した。 （もっと読む）

【課題】比較的小型であって、しかも、電子部品が搭載される回路基板等の被加熱物の均一な加熱を可能にする。
【解決手段】加熱炉本体４を、分離可能な上加熱炉２および下加熱炉３で構成し、
電子部品が搭載された回路基板を、上加熱炉２内に水平に収容し、下加熱炉３の上面を、上加熱炉２の下面側に密着させ、上部送風路５および下部送風路６からそれぞれ熱風を回路基板の両面に送風し、回路基板の両面に沿って流れる熱風を、スリット９から排出し、これによって、回路基板を予備加熱し、その後、下加熱炉３を開放した状態で、上加熱炉２で回路基板の上面に熱風を送風して回路基板を保温しながら、回路基板の下面側の半田付けを行なうようにしている。 （もっと読む）

【課題】横方向及び縦方向に大きなスペースを必要としない、かつ炉体の剛性をアップと重量軽減を図り、炉の製作費、輸送費等のコスト低減をした小形真空浸炭炉を提供。
【解決手段】冷却室 2を縦型円筒部70形状とし、冷却室の入口側に入口角型部材72を貫通接続し、入口角型部材72には中間板74、入口扉 1が設置されている。冷却室 2の入口側の反対側に出口角型部材73を貫通接続し、出口角型部材73に冷却室出口フランジ33を取付け、加熱室 3を縦型円筒部80形状とし、冷却室出口フランジ33と加熱室 3との間にプレート60を設け、プレート60を冷却室出口フランジ33に連結し、プレート60と加熱室入口フランジ６とを連結して、冷却室 2と加熱室 3とを連結し、かつ昇降可能な中間扉 4を、冷却室出口フランジ33に連結したプレート60に取り付け、中間扉 4の昇降駆動手段は冷却室 2内部へ取り込んだ外接歯車 14、15の噛み合わせにより行うようにした。 （もっと読む）

【課題】比較的浸炭処理量が少量のバッチ型小形真空浸炭炉において、加熱室内の断熱材交換および中間扉の真空シール用Ｏリング、その他機械部品の交換を含むメンテナンス時において、装置の大きな分解作業を不要とした小形真空浸炭炉を提供。
【解決手段】冷却室出口フランジ33と加熱室３との間にプレート60を設け、プレート60と加熱室入口フランジ６とを連結しかつ第１ヒンジ５を含む開閉手段を介して冷却室２と加熱室３とを連結し、プレート60と加熱室入口フランジ６との連結を解くことにより冷却室２と加熱室３とを開閉可能とし（図４）。さらに昇降可能な中間扉４を第２ヒンジ40を含む開閉手段を介してプレート60に取付け、中間扉４を加熱室３に対して開閉可能とし、冷却室２に対して加熱室３が開いた状態で、かつ中間扉４に対して加熱室３が開いた状態で、断熱材11を脱着可能にした（図６）。 （もっと読む）

【課題】 バーナ部を設ける位置が制約を受けても燃焼ガスがショートパスしたりせず炉内の温度を均一にすることができる蓄熱式交番燃焼炉を提供する。
【解決手段】 炉壁１１に設けるバーナ部２１と、蓄熱体２２を収容した蓄熱室２３と、前記バーナ部２１と蓄熱室２３とを接続する給気路２４と、炉壁１１に形成した排気口１５と前記蓄熱室２３とを接続する排気路２６とを備えたバーナ２を対をなすように設ける。この対をなす両バーナ２の蓄熱室２３と給気ブロア３及び排気ブロア４とを四方弁５を介して接続する。一方のバーナ２ａにて燃焼中に他方のバーナ２ｂの排気路２６を介して炉内１０の燃焼ガスを排気する蓄熱式交番燃焼炉である。一方のバーナ２ａのバーナ部２１での燃焼により炉内１０に噴出される燃焼ガスが炉内１０の大部分を循環してから他方のバーナ２ｂの排気路２６に接続される排気口１５から排出されるようにバーナ部２１と排気口１５とを配置した。 （もっと読む）

【課題】浸炭品質のバラつき度合の判定を容易にして浸炭品質の管理を容易に行うことができる真空浸炭の品質管理方法及び真空浸炭炉を提供することを目的とする。また、本発明は、浸炭品質の再現性を向上させ、浸炭品質のバラつきを少なくしてその均一性を確保できる真空浸炭炉を提供することを目的とする。
【解決手段】処理品に要求される浸炭深さと表面炭素濃度に応じて、被処理品内部への炭素の拡散に基づいて、浸炭処理に必要な浸炭ガスの理論流量の時間変化を求め、該理論流量の時間変化に基づいて、この理論流量における浸炭反応により生じる水素の処理室内の全圧力に対する分圧比を理論水素分圧比とし、この理論水素分圧比の時間変化を求め、この理論水素分圧比の時間変化と、実際の浸炭処理時における処理室内の全圧力に対する水素分圧比の時間変化とを比較し、その近似度合に基づいて、同一操業バッチ内における浸炭品質のバラつき度合を判定する。 （もっと読む）

【課題】
ヒータ交換作業が安全で而も簡単であると共に交換コストの低い熱処理装置、及び該熱処理装置に於ける熱処理炉及び断熱材及び排気ダクトを提供する。
【解決手段】
ヒータユニット２１の上部に排気ダクト２２が設けられ、該排気ダクトに排気導出部２５，２６が接続された熱処理炉を有する熱処理装置に於いて、前記排気ダクトは断熱材で構成され、該排気ダクト内部はエルボウ状の排気路２３を形成する。
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【課題】 加熱室内及び冷却室内における処理対象物の配置スペースを広く確保すると共に、処理対象物の温度をリアルタイムで測定することで正確に冷却制御を行うことを目的とする。
【解決手段】 処理対象物を加熱処理する加熱室と、当該加熱室において加熱処理された処理対処物を冷却処理する冷却室とを少なくとも備える多室型熱処理装置であって、前記冷却室内における前記処理対象物の温度を検出し、当該温度を示す温度検出信号を出力する温度センサと、前記加熱室及び冷却室の外部に配置されると共に、前記温度センサから入力される温度検出信号が示す冷却室内における処理対象物の温度に基づいて前記冷却処理を制御する冷却制御部と、前記温度センサと前記冷却制御部とを接続する接続線とを備える、という手段を採用する。 （もっと読む）

【課題】エレベータ及びフォークの中間停止位置のばらつきがなく、かつ中間停止位置のばらつきのために位置検知領域を大きくしたり加熱室入口枠を上下方向に大きくとる必要がない熱処理炉を提供する。
【解決手段】気密に密封された、冷却室及び冷却室に並んで配置された加熱室を有し、冷却室には炉頂に固定された流体圧シリンダ１１の第１ロッド１２に上下移動可能に支持されたエレベータ、エレベータに支持されたフォーク及びエレベータに支持されたフォーク移動装置、及び冷却漕が設けられている。炉頂に固定された流体圧シリンダは、片ロッドである第１ロッドを駆動する第１シリンダ１３を取り巻きかつ第１シリンダを小ストロークの第２ロッドとした第２シリンダを一体的に設けた。 （もっと読む）

【課題】必要に応じて特定部位に対する冷却効果を強めて熱処理対象物全体を均一にガス冷却する熱処理炉を実現する。
【解決手段】ガス冷却空間２０に導入される冷却ガスを吸込み吐出する攪拌機３と、ガス冷却空間２０に配置した熱処理対象物Ｗに向けて吹出した冷却ガスを流入させ前記攪拌機３へと導く第一の還流ダクト２５と、熱処理対象物Ｗに向けて吹出した冷却ガスを前記第一の還流ダクト２５とは異なる方向に流入させて前記攪拌機３へと導く第二の還流ダクト２６と、前記第一の還流ダクト２５を経由して前記攪拌機３に吸込まれる冷却ガスの量を調節する第一の調節機構２８と、前記第二の還流ダクト２６を経由して前記攪拌機３に吸込まれる冷却ガスの量を調節する第二の調節機構２９とを具備する熱処理炉を構成した。
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【課題】炉芯管の温度均一性を良好にすると同時に、高温における炉心管の変形も防止するようにした高温熱処理炉を提供することを目的とする。
【解決手段】略水平に配置され、耐熱性の材質からなる直円筒状の炉芯管と、この炉芯管を収容して加熱する加熱手段とを備え、炉体内壁を断熱材で断熱された高温熱処理炉において、炉芯管の熱処理炉内部に位置する領域を断熱性の炉芯管支持台で連続的に支持することを特徴とする。 また、炉芯管と炉芯管支持台との間に炉芯管支持用の炉芯管支持部材を配置することを特徴とする。 （もっと読む）

本発明は、工作物（２）を加熱する際に汚染物質による工作物の汚染を抑える方法であって、第１の容器（１）中に置かれた工作物に伴って生じる方法において、 第１ステップにおいて、第１の容器（１）を保護ガスでフラッシングして充填し、さらに第１の容器（１）を第２の容器（３）中に配置し、第２ステップにおいて、第１および第２ステップの間に、工作物（２）を加熱する前に第１の容器（１）中の前記汚染物質に対する分圧を下げるよう、第２の容器（３）従って第１の容器（１）を排気して第１および第２の容器の内側を真空にすることを特徴とする方法。に関する。
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【課題】炉内の各構成部位における蓄熱を解消ないしは低減すると共に、排気に伴う輻射エネルギーの損失等を抑える一方、輻射エネルギーはできるだけ炉内に封じ込めて効率的に利用することができ、高温信頼性を確保しつつ実用に十分供することのできる熱輻射反射炉を提供する。
【解決手段】 内面に金膜が形成された耐熱管２と第１内管（石英管）３との間に、空気断熱層となる第１の間隙２１、第１内管３と第２内管（プロセスチューブ）４との間に第２の間隙２２がそれぞれ設けられている。第２の間隙２２内にはヒータ５だ配置されている。耐熱管２の外面は水冷ジャケット１に囲まれ、両者の間には、冷媒の通気路となる第３の間隙２３が設けられている。耐熱管２は水冷ジャケット１によって外面側から冷却され、その結果炉全体から外部へと放出される熱が冷却される。 （もっと読む）

【課題】 炉本体内の高温炉気を蓄熱室に通して排気する処理が短時間で完了する蓄熱式交番燃焼炉の金属蒸着防止方法を提供する。
【解決手段】 一対のバーナにそれぞれ蓄熱体を収容した蓄熱室を設け、給気ブロアを両バーナの蓄熱室にそれぞれ給気用開閉弁を備えた給気用配管を介して接続すると共に、排気ブロアを両バーナの蓄熱室にそれぞれ排気用開閉弁を備えた排気用配管を介して接続し、給気用開閉弁及び排気用開閉弁の開閉を切り換えて、一方のバーナの燃焼中に他方のバーナの蓄熱室で排熱を回収するようにした蓄熱式交番燃焼炉において、燃焼運転停止後に、バーナと給気ブロアを停止して給気用開閉弁を閉じると共に炉扉を半開きにし、両排気用開閉弁を開くと共に排気ブロアを運転して炉本体内の高温炉気を両バーナの蓄熱室内に同時に通して排気することで、蓄熱体の温度をその蒸着物の昇華温度以上に上昇させる。 （もっと読む）

【課題】作業者が真空加熱炉内に入ることなく、熱電対と補償導線との接続作業及び接続解除作業を行うことを可能とする。
【解決手段】ＰＣＢに汚損された小片状の被処理物を、収容筐体に収容した状態で真空加熱炉にて所定の減圧条件下で所定の温度に加熱処理して、前記被処理物からＰＣＢを分離・除去するようにした真空加熱設備において、前記収容筐体には、該収容筐体内に収容した被処理物の温度を測定するための熱電対を具備するとともに、前記熱電対を収容筐体側から真空加熱炉の開口部近傍位置へ導出・案内するための導出治具を設け、前記導出治具に沿って真空加熱炉の開口部近傍位置へ導出される熱電対と、真空加熱炉から外部へ引出されて測定機器に接続される補償導線とを、前記真空加熱炉の開口部近傍位置において外部から接続するように構成したことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】半導体等の加熱炉において、別途加熱装置を設けることなく供給ガスや排ガスを加熱できる経済的な加熱炉を提供する。
【解決手段】加熱炉において、不活性ガスやキャリアガスなどの流体を流す金属チューブ６を断熱炉壁１の外壁面と外被３の内面側との間の長手方向に延びるように設け、チューブにキャリアガスなどの流体を流し、断熱炉壁の蓄熱により加熱し、この加熱した流体で供給ガスを加熱し、及び／または密閉容器５内のワーク４の反応処理を終えた排ガスに混入させ加熱する。 （もっと読む）

【課題】 入手容易な飽和炭化水素ガス（都市ガス、プロパン）からアセチレン等不飽和炭化水素または炭化水素ラジカルを含有するガスに変成することができ、高濃度又は広い濃度範囲のアセチレン含有ガスを安定して供給することができ、炉内で浸炭に寄与しない又は悪影響を及ぼすガスを低減できる真空浸炭装置とその方法を提供する。
【解決手段】 飽和炭化水素ガス１からアセチレン等の不飽和炭化水素または炭化水素ラジカルを含有する変成ガス２を変成する変成装置１０と、変成ガスのガス組成を分析するガス分析装置１２と、アセチレン等の不飽和炭化水素または炭化水素ラジカルを含有する浸炭ガス４を用いる真空浸炭炉１４と、変成装置を制御する変成制御装置１６とを備え、変成制御装置により、浸炭ガス４に含まれる不飽和炭化水素（例えばアセチレン、エチレン）を所望の濃度範囲に制御する。 （もっと読む）