【課題】浸炭品質のバラつき度合の判定を容易にして浸炭品質の管理を容易に行うことができる真空浸炭の品質管理方法及び真空浸炭炉であり、また、浸炭品質の再現性を向上させ、浸炭品質のバラつきを少なくしてその均一性を確保できる真空浸炭炉を提供する。
【解決手段】処理品に要求される浸炭深さと表面炭素濃度に応じて、被処理品内部への炭素の拡散に基づいて、浸炭処理に必要な浸炭ガスの理論流量の時間変化を求め、該理論流量の時間変化に基づいて、この理論流量における浸炭反応により生じる水素の処理室内の全圧力に対する分圧比を理論水素分圧比とし、この理論水素分圧比の時間変化を求め、この理論水素分圧比の時間変化と、実際の浸炭処理時における処理室内の全圧力に対する水素分圧比の時間変化とを比較し、その近似度合に基づいて、同一操業バッチ内における浸炭品質のバラつき度合を判定する。 （もっと読む）

【課題】簡素な構造で、取り扱いも容易であり、被加熱物全体をムラなく均等に加熱することができ、加熱効率も良好である加熱装置を提供する。
【解決手段】加熱装置１０は、断熱材１１ａで形成されたケーシング１１内に、被加熱物Ｗを収容する円筒状の収容部材１２と、収容部材１２の外周面１２ａから隙間Ｖを隔てて配置された円筒状発熱体１３と、収容部材１２内にその軸心１２ｃ方向に沿った一定方向の気体流Ｒを発生させる送風ファン１４と、を備えている。収容部材１２はステンレス鋼管で形成されている。円筒状発熱体１３は収容部材１２の外周面１２ａを囲繞するような状態で、且つ、収容部材１２の軸心１２ｃと、円筒状発熱体１３との軸心１３ｃとが同軸をなすように配置されている。収容部材１２の後方開口部１２ｒに臨む領域に配置された送風ファン１４の回転軸１４ａも軸心１２ｃ，１３ｃと同軸をなしている。 （もっと読む）

【課題】ワークの浸炭処理時の熱損失を抑制することができ、従来よりもエネルギーの消費量を低減させることができる浸炭処理装置を提供する。
【解決手段】浸炭処理装置１の処理室１０の殻壁１１および誘導加熱コイル２０とワークＷとを区画して処理室内を対流する浸炭雰囲気ガスがワークＷ側から処理室１０の殻壁１１側および誘導加熱コイルＷ側へ流動するのを規制する筒状の方向規制部材３１を設けた。これにより、浸炭雰囲気ガスと、殻壁１１および誘導加熱コイル２０との間の熱交換を抑制する。 （もっと読む）

【課題】高精度なプロセス処理および高い安全性を実現することができる熱処理装置及び基板の製造方法を提供する。
【解決手段】熱処理装置１０は、基板を処理する反応管４２と、反応管４２を支持するマニホールド４４と、反応管４２の周囲に設けられ反応管４２内を加熱するヒータ４６と、ヒータ４６より下方の反応管４２の側方を囲うように設けられる囲い部５００と、囲い部５００と反応管４２との間の間隙５０６を強制排気する排気装置３０１と、反応管４２とマニホールド４４との間の当接部に設けられる密閉部材１５０と、を有し、囲い部５００には、排気装置が囲い部５００の外側の雰囲気を間隙５０６へ吸気する吸気口５０１が設けられる。 （もっと読む）

本発明は、基板（２０）を熱加工するための熱処理内側チャンバ（３）であって、壁（１０）を備え、該壁（１０）は、熱処理内側チャンバ（３）の内室（２４）を包囲し、熱加工の間に基板（２０）を支承するための支承装置（８）を備え、熱処理内側チャンバ（３）の内室（２４）にエネルギを導入するためのエネルギ源（１１）を備え、壁（１０）の内側面の少なくとも一部は、エネルギ源（１１）により導入される出力を反射するように形成されるものにおいて、壁（１０）の内側面の少なくとも一部は、少なくとも赤外線高反射性の材料から成ることを特徴とする。さらに本発明は、基板（２０）を熱加工するための熱処理内側チャンバ（３）であって、壁（１０）を備え、該壁（１０）は、熱処理内側チャンバ（３）の内室（２４）を包囲し、熱加工の間に基板（２０）を支承するための支承装置（８）を備え、熱処理内側チャンバ（３）の内室（２４）にエネルギを導入するためのエネルギ源（１１）を備えるものにおいて、壁（１０）の少なくとも一部を冷却するための冷却装置（１４）を設ける。
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【課題】真空熱処理装置のシーリング用Ｏリングの劣化を防止する。
【解決手段】加熱容器（３）を排気ポンプへ結合し且つ真空処理チャンバ内に収容する接合チャンバの開口周囲フランジ（１３）と加熱容器（３）の開口周囲フランジ（１５）との接合面はＯリング（２１）でシーリングされる。接合チャンバの開口フランジ（１３）の開口縁にひさし状の突起部（２４）を設け、約１μ程の接合面の隙間から輻射熱が入りＯリングを加熱しないような構成によって、Ｏリングの劣化を防止している。 （もっと読む）

【課題】扉側のシャッタの構成の簡素化を図りつつ、炉口と扉との間の機密性を保つためのシールにおいて発塵が生じることを効果的に防止し、かつ、炉口と扉との間の機密性を長期間に亘って維持することが可能な熱処理装置を提供する。
【解決手段】 ＩＲ炉１０は、炉体１２および扉２０を備えている。炉体１２は、ワーク１５の搬入および搬出を行うための炉口を有する。炉体１２には、炉口を囲むように第１のシール部４０が設けられている。扉２０は、第１のシール部４０に対応する位置に配置された第２のシール部３０を備え、第１のシール部４０および第２のシール部３０を介して炉口を気密的に閉塞可能に構成される。第１のシール部４０は、断熱性および弾力性を有する第１の樹脂部材４２と、第１の樹脂部材４２を被覆するように構成された耐熱性を有する樹脂シート４４とを備える。第２のシール部３０は、耐熱性を有する板状の第２の樹脂部材３２を備える。 （もっと読む）

【課題】工業炉における金属材料／金属ワークピースの熱処理用のプロセスガスを調製する方法を提供する。
【解決手段】金属材料／金属ワークピースを熱処理するためのプロセスガス３を調製する方法および装置によって、各プロセスガス３を、工業炉１内の少なくとも１つの処理チャンバ１．１に、実際に完全に調製して、均質化して、かつ、加熱して供給する。この際に、上記方法を、上記装置を用いて、工業炉１の、新たに作成したユニット、および特に既に設置されているユニットにおいて行う。ここで、プロセスガス３は、処理チャンバ１．１内の温度からは切り離された温度で、処理チャンバ１．１内の熱処理プロセスとは別個のプロセスにおいて、約１２５０°Ｃまでの温度範囲において圧縮されて調製され、熱処理のために、節約されながら、かつ、排気が少ない状態で使用される。 （もっと読む）

【課題】真空加熱処理作用が終了した被処理物へ対して加圧又は冷却用の気体を供給するとき、当該気体中に水分が含有されていると、その水分が被処理物に水分が付着することになり、被処理物に不良が発生するので、不良品の発生しない加圧冷却処理方法を提供する。
【解決手段】処理室２４内を加圧又は冷却する際に気体供給源より送給される気体の温度及び蒸気圧を露点調整手段１４によって調整し、気体を室２４内に導入する時、当該処理室２４内の露点が少なくともドライ・クリーンルーム内における気体の露点と同じか少なくともそれより僅かに低い露点になるように調整する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、赤外線を用いて透明及び／又は半透明なガラス及び／又はガラスセラミック製品を均一に加熱する方法に関する。
【解決手段】ガラス及び／又はガラスセラミック製品に、２０〜３０００℃、特に２０〜１７０５℃で、加熱処理を施す。本発明は、ガラス及び／又はガラスセラミック製品に直接的に作用する赤外線の成分と、このガラス及び／又はこのガラスセラミック製品に間接的に作用する赤外線の成分とを用いて加熱がなされることを特徴とする。ガラス及び／又はガラスセラミック製品に間接的に作用する成分は、全放射出力の５０％以上に及ぶ。 （もっと読む）

【課題】成形材に対する熱伝播効率をより一層向上させると共に省力運転を可能とするオートクレーブのガス循環方法および装置を提供する。
【解決手段】圧力容器２内に、マッフル炉３を設置し、前記マッフル炉３内を流通するガスへ熱量を補給し、以って、前記圧力容器２内で材料を加圧、加熱、冷却し、成形材を接着、成形するオートクレーブの熱風循環方法において、前記マッフル炉3内の長手軸に沿うガスの主たる流れに混・乱流を発生させる螺旋流を形成するオートクレーブの熱風循環方法とその装置。 （もっと読む）

【課題】 ランニング・コストを低廉化することができるとともに、冷却速度を高めることが可能な金属熱処理炉を実現する。
【解決手段】 ピッチが調整自在のコイルに高周波電流を流すことにより発熱するカーボンを用いた発熱体を備える加熱部２０を、加熱室１０内に配設する。加熱室１０の下方に、発熱体により加熱された被加熱金属を冷却するための冷却室８０を、連結部６０を介して加熱室１０と連通するようにして配設する。被加熱金属を支持して加熱室１０内に進入可能な水冷昇降軸９０を、冷却室８０の底部を貫通して配設する。水冷昇降軸９０により支持されて加熱室１０内から冷却室８０内に移動した、加熱された被加熱金属を冷却するガスを冷却室８０内に導入するガス導入管８１を、冷却室８０に配設する。 （もっと読む）

【課題】多室型熱処理装置において、熱処理室間における受渡しの際に熱処理対象物が冷却されることおよび受渡し環境が汚染されることを抑制する。
【解決手段】複数の熱処理室間にて熱処理対象物Ｘを受渡しを行う受渡し装置５を備え、該受渡し装置５は、前記熱処理室において加熱された前記熱処理対象物Ｘを保温する保温手段を備え、該保温手段は、前記受渡し装置５に収容された前記熱処理対象物Ｘを囲う断熱室５ｈと、該断熱室５ｈの内部に配置されるヒータ５ｉを備える。 （もっと読む）

【課題】低温域での昇温リカバリーにおける収束時間を短縮し、ＴＡＴの短縮及びスループットの向上を図る。
【解決手段】制御装置は、処理容器内を初期温度から該初期温度よりも高く且つ１００〜５００℃の範囲内の目標温度にする温度制御を行うため、１つの制御量によりヒータ及び送風機への給電を制御し、正方向の絶対値の増加によりヒータへの給電を増加させ、負方向への絶対値の増加により送風機への給電を増加させるように制御量を準備する工程と、制御量に従って送風機への給電を停止すると共に、ヒータに所定供給量で給電することにより目標温度下の所定温度まで処理容器内を加熱する工程と、所定温度になった時点から、制御量に従って、送風機に所定供給量で給電して冷却空気を送風すると共に、ヒータへの給電を停止することにより処理容器内を目標温度に収束させる工程と、次に制御量に従って、送風機への給電を停止すると共に、ヒータに所定供給量よりも小さい値で給電することにより処理容器内を目標温度に維持する工程とを実行する。 （もっと読む）

【課題】単位枚数あたりのワークを処理するのに要する熱処理空間を拡張させることなく、また、炉体内部のクリーン度を維持しつつ、簡易な構成によって大型の平板状ワークを均一に加熱することが可能な熱処理装置を提供する。
【解決手段】熱処理装置は、炉体１２、循環ファン２２、加熱ヒータ２０、耐熱フィルタ１４、および熱風整流板１６を備える。熱風整流板１６は、耐熱フィルタ１４とワーク１８との間に配置される。熱風整流板１６は、ワーク１８の上面においては、第１の側面側からワークに供給される熱風の風量を、第２の側面側からワークに供給される熱風の風量よりも多くする一方で、同じワーク１８の下面においては、第２の側面側からワーク１８に供給される熱風の風量を、第１の側面側からワーク１８に供給される熱風の風量よりも多くするようにする。 （もっと読む）

本発明は、巻鉄心（４）を焼鈍処理するための高温炉であって、該高温炉が、焼鈍台（２）と支持装置（３）とを備えており、該支持装置（３）が、巻鉄心（４）を焼鈍台（２）の上方に間隔を置いて同軸的に支持するための載置面（１７）を形成しており、前記高温炉が、焼鈍台（２）を支持装置（３）と共に同軸的に取り囲む保護フード（６）を備えており、該保護フード（６）が、保護ガス供給管路（１０）と保護ガス排出部とに接続されていて、円筒状の周壁（７）と、該周壁（７）を上方で閉鎖する丸天井（１６）とから成っており、前記高温炉が、焼鈍台（２）と保護フード（６）との間に設けられた全周にわたって延びるシール部材（９）と、保護フード（６）を間隔を置いて取り囲む加熱フード（１３）とを備えている形式のものに関する。均一な被焼鈍物加熱を可能にするために、本発明によれば、焼鈍台（２）からの支持装置（３）の載置面（１７）の高さ間隔（ｈ）によって規定された保護フード（６）の軸方向の周壁区分が、丸天井面の少なくとも３／４を成す面を有している。
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【課題】高温で熱処理が可能な熱処理炉を提供すべく、熱処理炉内の圧力変化があっても所定の熱処理雰囲気を維持可能となるエンドキャップ、及びそれを用いた熱処理炉を提供する。
【解決手段】シール面２０４を備えるシャッター部材により密閉可能な、熱処理炉の収容部の搬入口１０２に装着可能なエンドキャップであって、前記搬入口１０２の内周面に挿入される第１の挿入管部１２と、連接し一周する溝１５と、前記搬入口１０２にフランジ面１８で当接可能な第１のフランジ２０と、前記シール面２０４と当接してシール可能なフランジ面２５を備える第２のフランジ２４と、前記第１のフランジ及び前記第２のフランジの間の連結部に接続された炉内に連通する開口を備える排気管と、前記溝内に開口し、前記連結部から半径方向に突出するシールガス導入管と、を備えるエンドキャップ。 （もっと読む）

【課題】処理室内に設置した熱処理対象物を冷却するにあたり、前記処理対象物の冷却の不均一を抑制すること。
【解決手段】真空熱処理炉１０は、処理室１３と、支持部と、回転部１６とを含む。処理室１３は、熱処理対象物１１を加熱し、加熱した熱処理対象物１１を冷却ガス１２でガス冷却する。支持部は、処理室１３内に設けられて、熱処理対象物１１の長手方向が処理室１３への冷却ガス１２の入口から出口に向かうように、熱処理対象物１１を支持するものであり、支持部材１９と、環状部材２０と、取り付け治具２１とで構成される。回転部１６は、熱処理対象物１１と当接しており、自身が回転することで熱処理対象物１１を回転させる。 （もっと読む）

【課題】真空室内に配置された被加熱物の接触状態を検出して効率良く加熱する真空加熱装置および方法を提供する。
【解決手段】前記被加熱物に、ヒータ加熱面と温度検知部を接触させ、前記温度検知部から得られた情報に基づいて、加熱初期の被加熱物の温度上昇度を算出し、該温度上昇度が、所定規定値（Ｂ）以上のときは、前記被加熱物とヒータ加熱面との接触状態が良好であると判別し、所定規定値（Ｂ）未満のときは、前記被加熱物とヒータ加熱面との接触状態が不良であると、前記被加熱物とヒータ加熱面との接触状態を判別し、前記被加熱物とヒータ加熱面との接触状態が不良であると判別した場合には、前記ヒータ加熱面を前記被加熱物から離したのち、再度、前記ヒータ加熱面を前記被加熱物に接触させてから、前記温度検知部から得られた加熱初期の被加熱物の温度上昇度に基づいて、前記被加熱物とヒータ加熱面との接触状態を判別する。 （もっと読む）

【課題】マイクロ波加熱の採用を前提とし、各種の被加熱物に対してさらに効率的な加熱処理を施し得るように改良する。
【解決手段】被加熱物Ｇに加熱処理を施すべく当該被加熱物Ｇを収容する内容器２０と、この内容器２０を収容する外容器３０と、内容器２０内に過熱水蒸気を供給する過熱水蒸気発生装置５０と、外容器３０，３０′内にマイクロ波を照射するマイクロ波発振装置４０とを備えて加熱装置１０が構成されている。そして、特に内容器２０は、内部の加熱空間を覆う容器本体がマイクロ波を透過し得る材料によって形成されている。マイクロ波を透過し得る材料としてセラミックスが採用されている。 （もっと読む）