【課題】不活性ガスを内有した乾燥処理装置又は焼成処理装置等においては、当該装置内へ被加工ワークを供給したり又はそこからワークを取出す際に、装置内部の不活性ガスが装置外部へ漏洩する。不活性ガスの漏洩を防止若しくは最小にするワーク出し入れの為の開口部をできるだけ小さくできる乾燥処理装置又は焼成処理装置を提供する。
【解決手段】不活性ガス雰囲気下で被加工ワークを処理するための不活性ガス雰囲気炉装置であって、炉本体と大扉１４とにより構成されており、複数のワーク保持手段と、少なくとも１つのワーク移送開口と、小扉３４と、大扉移動手段３０と、小扉開閉手段と、ワーク移送ロボットと、封止手段２０及びクランプ手段と、シール手段と、から成る不活性ガス雰囲気炉装置。 （もっと読む）

【課題】減圧下、加熱を行う工程で、断熱材ケーシングの内部が蒸気で飽和又は飽和に近い状態にならない熱処理炉を提供すること。
【解決手段】真空チャンバー２と、真空チャンバー２内に配置され、その内部に熱処理部４及び熱源５を有する断熱材ケーシング３と、を備え、断熱材ケーシング３には、断熱材ケーシング３の内部と外部を連通する通気孔６が形成されており、通気孔６の通気方向の軸線９上に、断熱材ケーシング３と所定間隔を離隔した状態で配置される断熱面８を有する断熱部材７を有する熱処理炉１。 （もっと読む）

【課題】二酸化炭素を排出せず、短時間で均一な加熱と熱の有効活用が可能なアルミニウム溶解炉，熱処理装置，鋳造システムを提供する。
【解決手段】アルミニウム鋳造システム１０は、過熱蒸気生成部２０，溶解炉３２及び保持炉７０を備えたアルミニウム溶解炉３０，鋳造装置１００，熱処理装置１１０により構成される。溶解炉３２は、坩堝を囲む加熱室に、過熱蒸気の通路を形成するための螺旋状のフィンを備えている。前記加熱室に導入された過熱蒸気は、坩堝の周囲を回りながら上昇し、坩堝全体を均一に加熱して短時間で高品質の溶湯を得る。溶解炉３２から回収された過熱蒸気は、予備加熱機９０と保持炉７０へ送られる。保持炉７０で利用された過熱蒸気は、回収されて温度調整ユニット９４で加熱され、鋳造装置１００の金型温調器１０２と熱処理装置１１０の処理室１１２Ａ〜１１２Ｃへ送られ再利用される。 （もっと読む）

【課題】処理ガスの流出による固化物の発生を未然に防止できる新規なガス窒化炉およびガス軟窒化炉の提供。
【解決手段】被処理物Ｓを窒化処理する加熱室１０と前記被処理物Ｓの前後処理を行う前後処理室２０との間に、前記被処理物Ｓを通過および待機させる待機室３０を備えたガス窒化炉１００であって、前記待機室３０に、当該待機室３０内を所定温度以上に加熱する加熱手段３８と、当該待機室３０内のガスを排気する排気手段Ｌ３とを備える。これによって待機室３０へ流出してきた処理ガスが固化することなくそのまま排出されるため、処理ガスの流出による固化物の発生による処理炉全体の処理効率の低下を未然に防止できる。 （もっと読む）

【課題】徒に多量、高圧の冷却ガスを投入することなく、凹凸のある熱処理対象物の焼き割れ、焼き曲がりを回避する。
【解決手段】冷却ガスを吸引し吐出するファン５と、対象物が搬入される冷却室２と、冷却ガスを冷却室２内部に吹出させる吹出口２３と、冷却室２内部に吹出した冷却ガスをファン５に向けて還流させる還流路上に設けられ開度を調節するシャッタ８１が付帯した還流口２４とを具備する熱処理装置を構成した。本熱処理装置によれば、還流口２４の開口面積を絞ることで冷却室２内の気圧を高め、部位により質量の異なる対象物全体を均一に冷却することができる。
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【課題】加熱処理によって排出される熱風に含まれる有機物を高い効率にて分解することができる基板熱処理炉を提供する。
【解決手段】炉体本体部１０の内部に熱風を吹き出すことによりガラス基板Ｗの加熱処理が進行する。炉体本体部１０から排出された熱風は循環経路２０を経由して再び炉体本体部１０に帰還する。その経路途中において、熱風の一部は排気ライン２３に排出される。排気ライン２３には、メタルフィルタに触媒を担持して構成される触媒フィルタ部７１が設けられている。これにより、排気される熱風と触媒との接触効率が高くなり、有機物の分解効率を高めることができる。また、パーティクル状の有機物をも捕集することが可能となり、トータルとしての有機物の分解効率を高いものとすることができる。 （もっと読む）

【課題】複数枚の金属板を同時加熱可能であると共に加熱された金属板を個別に取り出すことができ、加熱温度の厳密な管理が可能であって金属板の高温加熱にも使用でき、更には、装置の設置面積を比較的小さくすることができる多段式加熱装置を提供する。
【解決手段】多段式加熱装置の装置本体１０は、熱源によって加熱される加熱室を内部に有している。装置本体の前側壁１２には、上下に並んだ複数段の開口部１８が設けられ、各段の開口部１８ごとに、それを開閉する扉２３が設けられている。各段の扉２３ごとに、それを装置本体の前後方向に水平移動可能に支持する扉可動支持機構（２１，２２）が、装置本体の左右両側壁１４，１５の外側に設けられている。各段の扉２３の内側には、加熱対象物である金属板Ｍを支持するための支持具（例えば複数本の支持棒２４）が水平に支持されている。 （もっと読む）

【課題】抵抗発熱体の熱膨張収縮時の支持体と抵抗発熱体との間の摩擦抵抗を低減して抵抗発熱体の残留応力による永久歪の発生を抑制し、耐久性の向上を図る。
【解決手段】被処理体ｗを収容して熱処理するための処理容器３を囲繞する筒状の断熱材４と、該断熱材４の内周面に沿って配置される螺旋状の抵抗発熱体５と、上記断熱材４の内周面に軸方向に沿って設けられ抵抗発熱体５を所定ピッチで支持する支持体１３と、上記抵抗発熱体５の外側に軸方向に適宜間隔で配置され断熱材４を径方向に貫通して外部に延出された複数の端子板１４とを備えた熱処理炉において、上記支持体１３は抵抗発熱体５の内側に位置する基部１７と、該基部１７から抵抗発熱体５のピッチ間を通って炉の半径方向外方へ延出する複数の支持片１８とを有するように櫛状に形成され、該支持片１８の上面部が抵抗発熱体５の熱膨張収縮移動時の摩擦抵抗を低減するべく曲面状に形成されている。 （もっと読む）

【課題】熱処理装置に用いられるヒータ素線が断線する前にその寿命を事前に予測する際に，ヒータ素線の断線の兆候が現れ易い期間（例えば昇温期間）のデータを利用することにより，ヒータ素線の寿命を従来以上に的確に予測する。
【解決手段】ウエハを熱処理するのに先立ってヒータ素線に電力を供給して熱処理温度まで上昇させる昇温期間内においてヒータ素線に供給された電力の大きさの最大値を検出するとともに電力の振幅の大きさを示す指標を求め，これら電力の大きさ及び電力の振幅の大きさを示す指標がそれぞれの閾値を超える場合にヒータ素線の寿命が近いことを知らせる。 （もっと読む）

【課題】フランジ部の外周面にのみ開口した複数対の凹部を設け、各凹部に作業者が手指を挿入できるようにし、専用の器具等を用いることなく炉内に対する運搬を容易に行うことができるようにする。
【解決手段】石英プロセスチューブ２の底部に形成されているフランジ部２０の外周面に、複数対の凹部２１を形成した。各凹部２１には複数の作業者の手指が挿入される。 （もっと読む）

【課題】加熱炉の熱反射板としては、反射率の大きい金属板が使用できるが、高温では酸化により、反射率は大きく低下してしまうため、高温でも使用できる熱反射板であって、熱伝導によって外壁に伝わる熱輸送を抑制できる熱反射板を備えた加熱炉を提供する。
【解決手段】セラミック粒子の粒子径及びそれぞれの並べ方を制御して、面内周期性及び積層周期性を持つように積層した微細構造１を表面に形成して、特定波長の反射率を向上させた熱反射板を備える加熱炉。 （もっと読む）

【課題】被処理物が昇温する際の、被処理物の表面温度のばらつきを、ある一定の温度差に納めることができ、一定時間内に大量に加熱することができる、加熱方法及び間欠送り式トンネル炉、バッチ炉を提供する。
【解決手段】進行方向に対して複数に区画された炉室１ｊと、被処理物２０を炉室１ｊ間で間欠的に搬送する搬送手段と、この炉室１ｊ内の炉内ガスを循環させて、この炉内ガスを炉室１ｊの両側方から炉室１ｊ内に送風する送風手段４と、前記炉内ガスを加熱して熱風を生成する加熱手段７と、炉室１ｊの両側方から送風される熱風の送風量を制御する送風量制御手段６を有し、隣接する炉室１ｊの両側方から送風される熱風の送風量の比率を交互に変えるように構成する。 （もっと読む）

【課題】被加熱物の熱処理に伴って発生する生成ガスや、生成ガスが冷却されて発生するいわゆる昇華物の漏出を抑制可能な熱処理装置を提供する。
【解決手段】被加熱物が配される熱処理室１２と、当該熱処理室１２の室温を上昇させる熱源１４と、前記熱処理室１２に被加熱物を出し入れ可能な換装部６とを有し、前記換装部６は、熱処理室１２の外部と内部とを繋ぐ空間であり、当該換装部６に、熱処理室１２の内部から外部へ流れる気流を遮ることが可能な遮断手段が熱処理室１２の内部から外部に向かう方向に複数配置されている。 （もっと読む）

【課題】高温下での、上記ヒータの減肉、スパークの発生をおさえ、更に、シアンの発生をも阻止でき、更に、効率のよい温度上昇を得る。
【解決手段】炉材で囲われるとともに、ヒータを配設した本体空間を、均熱筒で、試料空間とその外部の加熱空間とに遮断し、試料ガス供給手段が、試料空間に試料雰囲気を供給する構成とし、さらに、ヒータガス供給手段が、加熱空間にヒータ雰囲気を供給するヒータガス供給手段とする。ヒータ雰囲気としてヒータを侵さない不活性ガス、例えばヘリウムガス、を用いる。この場合、炉周壁からの熱放散が大きくなるのを防止する目的で、炉の周壁が大気圧時の１／１０程度の熱伝導率が達成可能な真空断熱層で覆われる。これによって、より効率的な温度上昇が得られる。 （もっと読む）

【課題】処理品を効率よく熱処理することができ、しかもヒートパターンの多様な要請に応じられるようにする。
【解決手段】複数のバッチ式熱処理チャンバ２ａ〜２ｃと、搬送ユニット３とを備え、前記バッチ式熱処理チャンバには処理品Ｗを加熱するヒータ１３が夫々設けられ、前記搬送ユニットは保温チャンバ２０と受渡チャンバ２１とを台車２３上に支持することでレール１，１上を走行可能に設けられ、該受渡チャンバには処理品を前記バッチ式熱処理チャンバとの間および保温チャンバとの間で受け渡しする受渡機構５２が設けられ、保温チャンバには処理品を保温するヒータ２８および炉内ガスを強制循環することにより処理品を冷却するガス冷却手段３８，３８を設ける。 （もっと読む）

【課題】透光性を有する被処理部材を急速昇降温させる場合であっても、加熱・冷却効率が高く、被処理部材の温度分布に生ずるバラツキを抑えることができる熱処理方法を提供する。
【解決手段】誘導加熱を利用してウェハ２４を加熱し、誘導加熱コイル１６の配置経路に沿って流す冷媒によりウェハ２４を冷却する熱処理方法において、前記誘導加熱コイル１６により誘導加熱されるグラファイト２０とウェハ２４とを近接させると共にこれらの間に気体層２６を介在させて、誘導加熱により加熱されたグラファイト２０から放射される輻射熱と気体層２６を介した熱伝達によりウェハ２４を加熱し、前記冷媒により冷却されたグラファイト２０による輻射熱の吸収と気体層２６を介した熱伝達によりウェハ２４を冷却することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】被熱処理体の熱処理を実施する熱処理装置において、基板上への塵落下を防止するとともに、電力削減および製品品質の向上を実現できる熱処理装置、その方法、および、プラズマディスプレイパネルを提供する。
【解決手段】熱処理装置は、連続的に配置した連続炉を備え、各区画室は、互いに独立の処理空間となっている。ヒータ３７，３８によって昇温され、その各区画室内の各基板を所定温度に加熱処理する。各区画室内には、マッフルと呼ばれる耐熱性のガラス上板３９ａ、ガラス側板３９ｂ，３９ｃが設けられ、特に、ガラス上板３９ａは、基板から２０〜６０ｍｍ離れた位置に設置される。マッフルとして用いられるガラスは、日本電気硝子社製のネオセラム（商品名）が好適に用いられ、このネオセラムの表面に、金属を溶媒に溶かした溶液を塗布して有機金属化させた透明マッフルを使用することができる。 （もっと読む）

【課題】熱処理装置の、炉心管内の温度変化を減少させ、炉心管及び枝管、ガス導入管のメンテナンスが容易な炉心管構造を提供。
【解決手段】金属線材３が通過可能にされ炉心管１０と加熱装置１３と断熱材１６とこれらを収容する筒状の隔壁部２ｃを有する金属線材の熱処理装置１において、炉心管の長手方向中央部で接続されたガス導入管１１を炉心管に沿わせながらガス導入管の継手部４０を炉心管の開口部１０ａに隣接して設け、継手部で軸直角方向に延出する外部ガス導入管５２に接続する。熱処理室２の一部を分割・分離可能にし、開口部１０ａと継手部を露出可能にする。炉心管及びガス導入管を出入り可能に保護筒５１，６１を設ける。金属製のガス導入管に非金属製の内管５５を挿入する。 （もっと読む）

【課題】簡単な構成にてシール性及び耐久性に優れた加熱炉のシール装置を提供する。
【解決手段】台車６に搭載された被熱処理材を加熱処理する加熱炉のシール装置は、台車６に固定され、自由な下端20aを有する第１のシールプレート20と、加熱炉の側壁12に固定され、第１のシールプレート20の下端20aに対して平行である自由な下端30aを有する第２のシールプレート30と、ヒンジ42の回りにて台車６側に傾動したときに第１のシールプレート20の下端20aから第２のシールプレート30の下端30aに渡るボックス40と、ボックス40を傾動させるために往復動するロッド60と、ボックス40に固定され、ボックス40が台車６側に傾動したときに第１のシールプレート20の下端20a及び第２のシールプレート30の下端30aに当接するブロック形状の耐熱部材50とを備える。 （もっと読む）

【課題】処理室内の温度を容易に制御することができるイナートガスオーブンを提供すること
【解決手段】配設孔２５ａを囲むように緩衝材３１を断熱壁２５に密着させ、緩衝材３１の開口を閉塞するように取付ベース３２との間を隙間なく密着させて、取付ベース３２の中央に配設孔２５ａと略同軸上にベース孔３２ａが形成した。また、取付ベース３２に取付部材３５によってモータ３６を配設し、モータ３６によって回転するシャフト３７を取付ベース３２に配設した磁性流体軸受３３で支持して断熱壁２５に形成された配設孔２５ａに遊挿し、シャフト３７の端部に送風ファン３８を取着した。 （もっと読む）