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Fターム[4M109CA12]の内容

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Fターム[4M109CA12]に分類される特許

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【課題】
低粘度化による液状性と反応性を保持しつつ硬化物の低弾性率化と高靭性化をはかることができる、液状エポキシ樹脂組成物を提供する。
【解決手段】
常温で液状であるエポキシ樹脂組成物であって、組成成分として、
a)常温で液状であるエポキシ樹脂、
b)ポリビニルアセタール系改質材、
c)硬化剤及び硬化促進剤、
d)フィラー
を含有し、前記したポリビニルアセタール系改質材の配合割合は、常温で液状であるエポキシ樹脂100質量部に対して、0.5〜20質量部の範囲内であり、かつ、液状エポキシ樹脂組成物の全体量に対して、0.5〜7質量%の範囲内である。 (もっと読む)


【課題】電子部品同士を半田接合し、半田接合部の空隙を熱硬化性樹脂を含有する樹脂層で充填させ、半田接合部を補強する電子部品の製造方法において、空洞(エアギャップ)の発生を抑制することができ、さらに、ボイド(気泡)の発生をも抑制することができる、電子部品の製造方法および電子部品を提供する。
【解決手段】第1電子部品1または第2電子部品3の少なくとも一方に、熱硬化性樹脂を含有する樹脂層5を形成する第1の工程と、第1接続用金属電極2と第2接続用金属電極4を当接させる第2の工程と、両接続用金属電極を半田接合させる第3の工程と、を有する電子部品の製造方法において、第3の工程において、板状体を有する加圧装置で加圧を維持しながら前記半田接合に用いる半田の融点以上の温度に加熱し、さらに、前記半田接合に用いる半田の融点以上の温度で加圧を開放する。 (もっと読む)


【課題】SiOで作製された表面保護膜とポリシロキサンを主成分とする熱硬化性樹脂で作製されている被覆部との間に不均一な電荷分布が発生するのを回避して耐電圧性の低下を防止できる半導体装置を提供する。
【解決手段】この半導体装置は、SiC pn接合ダイオード10の表面を被覆すると共にSiOで作製された表面保護膜16の膜厚を2μmにすることによって、SiO表面保護膜16の静電容量を下げてSiO表面保護膜16とシリコン樹脂で作製された被覆部23との境界面に溜る電荷を低減できる。また、SiO表面保護膜16と被覆部23との境界面を高電界がかかる表面保護膜(SiO膜)16とワイドギャップ半導体(SiC等)との界面から離すことにより、表面保護膜(SiO膜)16と被覆部23との境界面の電界を低減できる。これにより、表面保護膜16と被覆部23との境界面での絶縁破壊を防止できる。 (もっと読む)


【課題】。外装シールドを確実に接地するとともに前記外装シールドと信号配線との短絡を抑制でき、小型・低背化を達成しつつ、生産性の高い半導体モジュールを提供する。
【解決手段】上面に電子部品2が実装された基板1と、上面を封止する絶縁性の封止樹脂層3と、封止樹脂層3の基板1と反対側を覆う導電性の外装シールド4と、封止樹脂層3の内部に配置され、外装シールド4と、基板1に備えられた接地端子13とを電気的に接続する接続部5とを備えた半導体モジュールA。 (もっと読む)


【課題】非窒素系溶媒溶解性とワニス安定性、低温乾燥/硬化性、低反り性、屈曲性、印刷適性、難燃性に優れ、かつ耐熱性、耐薬品性、電気特性、作業性及び経済性に優れるウレタン変性ポリイミド系難燃樹脂組成物を提供する。
【解決手段】(A)酸無水物基を有する3価及び/又は4価のポリカルボン酸誘導体、ジオール化合物、脂肪族ポリアミン残基誘導体及び/又は芳香族ポリアミン残基誘導体を必須の成分として生成されるウレタン結合を有するウレタン変性ポリイミド系樹脂、(B)ダイマー酸変性エポキシ樹脂、アクリロニトリルブタジエンゴム変性エポキシ樹脂、ポリオキシアルキレングリコール変性エポキシ樹脂、アルキレンジオール変性エポキシ樹脂、又はエポキシ化ポリブタジエンのうちの少なくとも1種からなるエポキシ樹脂、(C)無機あるいは有機フィラー、(D)非ハロゲン系難燃剤を含むことを特徴とするウレタン変性ポリイミド系難燃樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】樹脂層の膜厚を第五基板の厚さよりも薄くした構造であるとともに、材料間の熱膨張率の差に起因して発生する応力が、第五基板の回路形成部に作用する虞のない半導体装置を提供する。
【解決手段】一方の主面101Sに凹部を有する第一基板101と、凹部に内在され、一方の主面に電極108を備えた機能素子をなし、他方の主面を凹部の内底部101Bとの接合面とする第二基板103と、第二基板103の側面103Wと凹部側面101Wとの間を埋めるとともに、第一基板101および第二基板103を覆うように配された樹脂層104と、電極108上に設けられた樹脂層104を貫通する貫通孔、および一端側が樹脂層104上にあり、他端側が貫通孔を通して電極108に電気的に接続されてなる配線層105と、配線層105の一端側に載置されたバンプ107とを有する、ことを特徴とする半導体装置を提供する。 (もっと読む)


【課題】透明性を有し、より低硬度の硬化性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】1分子中に少なくとも1個の(メタ)アクリル基を有するポリシロキサンを重合して得られる架橋粒子(A)と、シリコーンレジン(B)と、ジオルガノシロキサン骨格を有するポリシロキサン(C)とを含有する硬化性樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】
本発明は、ポットライフに優れる光硬化型シリコーン樹脂組成物の硬化方法であって、シリコーン樹脂組成物を加熱初期の形状を維持したまま硬化することができる、シリコーン樹脂組成物の硬化方法を提供することを目的とする。
【解決手段】
(A)一分子中に2つ以上のアルケニル基を有するオルガノポリシロキサン、
(B)一分子中にケイ素原子に結合する水素原子を2つ以上有するオルガノハイドロジェンポリシロキサンの、前記(A)成分中のアルケニル基1当量に対しケイ素原子に結合する水素原子が0.1〜4.0当量となる量、及び
(C)光活性型触媒 触媒量
を含有するシリコーン樹脂組成物を加熱することにより硬化する方法であって、該方法が加熱する工程の前にシリコーン樹脂組成物に光を照射する工程を含み、該光が発光スペクトルにおける300nmから400nmの領域に最大ピーク波長を有し、かつ該光の300nmより短い波長領域にある各波長の放射照度が前記最大ピーク波長の放射照度の5%以下である事を特徴とする硬化方法。 (もっと読む)


【課題】高いガラス転移温度を有し長期耐熱性に優れ、デバイスとしての信頼性を向上させることができる高耐熱性を備えた熱硬化性樹脂組成物硬化体の製法を提供する。
【解決手段】下記の(A)〜(C)成分を含有する熱硬化性樹脂組成物を100〜200℃の温度にて1〜60分間加熱した後、さらに220〜350℃の温度で10〜6000分間加熱することにより上記熱硬化性樹脂組成物を硬化させ硬化物を作製する。
(A)アリル化ナフトール樹脂。
(B)エポキシ樹脂。
(C)硬化促進剤。 (もっと読む)


【課題】印刷グレードのグラブトップ材として用いられる、難燃性に優れた液状封止材、および、該液状封止材を用いて封止部位を封止してなる半導体装置の提供。
【解決手段】(A)エポキシ樹脂、(B)硬化剤、(C)難燃剤、および、(D)フィラーを含む液状封止材であって、前記(C)難燃剤として、(HCA)若しくはその誘導体、または、(HCA−HQ)若しくはその誘導体を反応成分の一つとする有機リン系難燃剤を含有し、平均粒径が0.4〜5.0μmのフィラー(D1)、および、平均粒径が7.0〜25.0μmのフィラー(D2)を含むことを特徴とする液状封止材。 (もっと読む)


【課題】高温下での接続信頼性に優れた、すなわち高温下でも充分な接着力、かつ良好な接続状態で半導体を封止充てんすることが可能な半導体封止充てん用熱硬化性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】熱硬化性樹脂、硬化剤、フラックス剤、平均粒径が異なる少なくとも2種類以上の無機フィラを必須成分としており、前記無機フィラは、平均粒径が100nm以下の無機フィラ、及び平均粒径が100nmより大きい無機フィラを含む半導体封止充てん用熱硬化性樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】 均一性が高く、短時間での硬化が可能で、さらに硬化後には、PCT試験での吸湿性が低いため、エポキシ樹脂組成物と基板の間での剥離を抑制する、耐湿信頼性に優れたエポキシ樹脂組成物を提供することである。
【解決手段】 (A)液状エポキシ樹脂、(B)スルフィド構造を含むエポキシ樹脂、(C)硬化剤、および(D)硬化促進剤を含み、かつ(A)成分と(B)成分の合計100質量部に対して、(B)成分を1〜50質量部含むことを特徴とする、エポキシ樹脂組成物である。 (もっと読む)


【課題】 先供給型封止剤として塗布した後、半導体チップを載せるまで、先供給型封止剤が塗布後の形状を保持し、かつ短時間での硬化が可能で、さらに硬化後には、PCT試験での耐湿信頼性に優れたエポキシ樹脂組成物を提供することである。
【解決手段】 (A)エポキシ樹脂、(B)硬化剤、(C)硬化促進剤、(D)形状保持剤、および(E)揺変剤を含むことを特徴とする、エポキシ樹脂組成物であり、好ましくは、(D)成分が、シロキサン系形状保持剤である。 (もっと読む)


【課題】集合基板に反り、うねり、厚みバラツキ等が発生している場合であっても、封止樹脂層形成後の封止樹脂層と集合基板との合計厚みが均一な電子部品モジュールの製造方法を提供する。
【解決手段】電子部品モジュールの製造方法であって、集合基板1に粘着性シート2を貼り付け、集合基板1の所定位置に切り込み部3を形成して、切り込み部3を形成した集合基板1の電子部品を実装した面を樹脂にて封止して封止樹脂層4を形成して、電子部品モジュールの間にて封止樹脂層4の天面から切り込み、電子部品モジュールの側面部を形成して、封止樹脂層4の天面及び電子部品モジュールの側面部を覆う導電性樹脂層7を形成して、電子部品モジュールの間にて、電子部品モジュールの側面部を形成する幅に比べて狭い幅で導電性樹脂層7の天面から切り込み、電子部品モジュールに個片化する。 (もっと読む)


【課題】 フラックス洗浄工程が不要で生産性に優れ、かつ半導体ウエハの裏面を研削した際の反りを低減することが可能な半導体装置の製造方法およびその製造方法で製造された半導体装置を提供すること。
【解決手段】 上記課題は、第1の接続電極が設けられた回路面を有する半導体ウエハの回路面にフラックス機能を有する樹脂組成物層およびバックグラインドテープをこの順に形成する第1の工程と、前記半導体ウエハの回路面とは反対側の面を研削する第2の工程と、前記半導体ウエハの回路面とは反対側の面にダイシングテープを積層する第3の工程と、前記バックグラインドテープを剥離する第4の工程と、前記フラックス機能を有する樹脂組成物層および半導体ウエハを個片化することにより前記フラックス機能を有する樹脂組成物層付き半導体チップを得る第5の工程と、さらに2つの工程を有する半導体装置の製造方法とすることにより解決することができる。 (もっと読む)


【課題】
湿式粗化工程において絶縁層表面の粗度が小さく、その上に十分なピール強度を有するめっき導体層を形成することができる樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】
特定のシロキサンイミド樹脂とエポキシ樹脂を含有する樹脂組成物を使用すること。 (もっと読む)


【課題】 AgやAuのような貴金属との接着性が良好で、耐リフロー性が良好となり、かつ成形性、流動性を低下させずに難燃性が良好な封止用エポキシ樹脂組成物、及びこれにより封止した素子を備えた電子部品装置を提供する。
【解決手段】 (A)エポキシ樹脂、(B)硬化剤、及び(C)下記一般式(III)で示されるシリコーン化合物を含有し、(A)エポキシ樹脂が、(A1)一般式(I)で示されるアラルキルノボラック型エポキシ樹脂と(A2)一般式(II)で示されるビフェニル型エポキシ樹脂を含有し、エポキシ樹脂(A2)の含有量がエポキシ樹脂(A1)とエポキシ樹脂(A2)の総和に対して、5〜70質量%である封止用エポキシ樹脂組成物。
【化1】
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【課題】 AgやAuのような貴金属との接着性が良好で、耐リフロー性が良好となり、かつ成形性、流動性を低下させずに難燃性が良好な封止用エポキシ樹脂組成物、及びこれにより封止した素子を備えた電子部品装置を提供する。
【解決手段】 (A)エポキシ樹脂、(B)硬化剤、及び(C)リン酸エステルを含有し、(A)エポキシ樹脂が、(A1)一般式(I)で示されるアラルキルノボラック型エポキシ樹脂と(A2)一般式(II)で示されるビフェニル型エポキシ樹脂を含有し、エポキシ樹脂(A2)の含有量がエポキシ樹脂(A1)とエポキシ樹脂(A2)の総和に対して、5〜70質量%である封止用エポキシ樹脂組成物。(C)リン酸エステルを(A)エポキシ樹脂100質量部に対して5〜30質量部含有すると好ましい。 (もっと読む)


【課題】AgやAuのような貴金属との接着性が良好で、耐リフロー性が良好となり、かつ成形性や耐湿性、高温放置特性等の信頼性を低下させずに難燃性が良好な封止用エポキシ樹脂組成物、及びこれにより封止した素子を備えた電子部品装置を提供する。
【解決手段】(A)下記一般式(I)で示されるエポキシ樹脂、(B)硬化剤、(C)無機充填剤及び(D)特定の環状ホスファゼン化合物を含有する封止用エポキシ樹脂組成物。


(ここで、R、Rは水素原子、炭素数1〜6のアルキル基及び炭素数1〜2のアルコキシ基から選ばれ、互いに同一であっても異なってもよい。nは0〜10の整数を示す。) (もっと読む)


【課題】 作業性、ハンドリングの容易性、狭ピッチ化対応のため、液状であり、短時間での硬化が可能で、短時間で半導体チップ-基板間のボイドを抑制し、さらに硬化後には、半導体チップ-基板間を接着するためのボンディング性、THB試験での抵抗値変化の抑制、PCT試験での剥離抑制に優れた先供給型封止材樹脂組成物を提供する。
【解決手段】 (A)液状エポキシ樹脂、(B)特定の構造のエポキシ樹脂、(C)酸無水物硬化剤、(D)特定の構造のイミダゾール化合物硬化促進剤および(E)シランカップリング剤を含み、(A)成分と(B)成分の質量割合が、84:16〜16:84であり、(A)成分のエポキシ当量と(B)成分のエポキシ当量の合計1に対して、(C)成分の酸無水当量が0.8〜1.1であり、かつ(A)成分と(B)成分の合計100質量部に対して、(D)成分が1.7質量部より多く10.3質量部未満で、成分(E)が0.1質量部より多く2.3質量部未満であることを特徴とする、先供給型液状半導体封止樹脂組成物。 (もっと読む)


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