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Fターム[4M109EC20]の内容

Fターム[4M109EC20]に分類される特許

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【課題】トランスファー成型性などの成型加工性が良好であり、高い耐光性および耐熱性を有する半導体のパッケージ用硬化性樹脂組成物を提供することである。
【解決手段】(A)SiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を1分子中に少なくとも2個含有する有機化合物、(B)1分子中に少なくとも2個のSiH基を含有する化合物、(C)ヒドロシリル化触媒および(D)無機フィラーを必須成分として含有することを特徴とする硬化性樹脂組成物からなるパッケージを与える発光ダイオードのパッケージ用硬化性樹脂組成物であって、無機フィラーの添加量が全組成物中の75〜95重量%であり、パッケージが発光ダイオード素子を搭載するための平板状の形状を有し、発光ダイオードの発光出力が20mAで5mW以上である硬化性樹脂組成物に関する。 (もっと読む)


【課題】特定温度以上の加熱により優れたリペア性を発現し、通常のヒートサイクルの熱衝撃に対しては、優れた電気的動作を維持することができる、液状エポキシ樹脂組成物及びこれを用いた半導体装置を提供する。
【解決手段】常温で液状のエポキシ樹脂、硬化剤、及び発泡剤を含む液状エポキシ樹脂組成物であって、発泡剤が熱分解型発泡剤であることとする。 (もっと読む)


【課題】スピンコート法により半導体ウェハー表面に塗布した場合において、厚みが均一な塗布膜を形成可能な、ウェハレベルアンダーフィル工法に用いられるプリアプライド用封止樹脂組成物を提供する。
【解決手段】本発明のプリアプライド用封止樹脂組成物は、半導体チップと基板との間隙を封止する封止樹脂層を得るために用いられる。当該封止樹脂層は、半田バンプを備えた半導体ウェハーの該半田バンプを備えた表面上にスピンコート法により塗布しB−ステージ化し、当該半導体ウェハーを個片化することにより得られる塗布膜付き半導体チップを、半田バンプを介して基板にフリップチップ実装することにより該塗布膜から形成される。当該プリアプライド用封止樹脂組成物は、(A)エポキシ樹脂と、(B)硬化剤と、(C)無機充填剤と、(D)溶剤と、を含んでなり、粘度a/粘度bで表されるチキソ比が1.5以下である。
粘度a:ブルックフィールド型粘度計を用い、0.5rpm、25℃で測定。
粘度b:ブルックフィールド型粘度計を用い、2.5rpm、25℃で測定。 (もっと読む)


【課題】放熱性に優れ、かつ成形が容易な封止材を備えた半導体パッケージを提供する。
【解決手段】半導体パッケージの封止材4が、熱硬化性樹脂組成物に、該熱硬化性樹脂組成物に対して容量比で70:30〜5:95の範囲にある無機酸化物フィラーが分散されてなる熱伝導性樹脂組成物であって、該無機酸化物フィラーが、容量比で5:95〜40:60の範囲にある酸化マグネシウム粉末と二酸化ケイ素粉末とを含むことを特徴とする熱伝導性樹脂組成物から形成されている。 (もっと読む)


【課題】ポリイミド回路基板において好適に使用できるポリイミド系のアンダーフィル材であり、高周波領域において発生しやすいノイズを抑制し、消費電力を抑えることができる、低誘電性アンダーフィル用樹脂組成物およびその硬化膜を提供する。
【解決手段】ポリイミドまたはその前駆体であるポリアミド酸(A)と、平均粒子径が100μm以下のポリオレフィン粒子(B)、溶媒(C)とを混合して得られるアンダーフィル用樹脂組成物であって、前記樹脂組成物を加熱乾燥して得られる硬化膜は、ポリイミドの連続相と、前記ポリオレフィン粒子(B)から得られる分散相とを有し、硬化膜の比誘電率は、前記ポリイミドの比誘電率よりも低いアンダーフィル用樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】電子部品同士を半田接合し、半田接合部の空隙を熱硬化性樹脂を含有する樹脂層で充填させ、半田接合部を補強する電子部品の製造方法において、空洞(エアギャップ)の発生を抑制することができ、さらに、ボイド(気泡)の発生をも抑制することができる、電子部品の製造方法および電子部品を提供する。
【解決手段】第1電子部品1または第2電子部品3の少なくとも一方に、熱硬化性樹脂を含有する樹脂層5を形成する第1の工程と、第1接続用金属電極2と第2接続用金属電極4を当接させる第2の工程と、両接続用金属電極を半田接合させる第3の工程と、を有する電子部品の製造方法において、第3の工程において、板状体を有する加圧装置で加圧を維持しながら前記半田接合に用いる半田の融点以上の温度に加熱し、さらに、前記半田接合に用いる半田の融点以上の温度で加圧を開放する。 (もっと読む)


【課題】非窒素系溶媒溶解性とワニス安定性、低温乾燥/硬化性、低反り性、屈曲性、印刷適性、難燃性に優れ、かつ耐熱性、耐薬品性、電気特性、作業性及び経済性に優れるウレタン変性ポリイミド系難燃樹脂組成物を提供する。
【解決手段】(A)酸無水物基を有する3価及び/又は4価のポリカルボン酸誘導体、ジオール化合物、脂肪族ポリアミン残基誘導体及び/又は芳香族ポリアミン残基誘導体を必須の成分として生成されるウレタン結合を有するウレタン変性ポリイミド系樹脂、(B)ダイマー酸変性エポキシ樹脂、アクリロニトリルブタジエンゴム変性エポキシ樹脂、ポリオキシアルキレングリコール変性エポキシ樹脂、アルキレンジオール変性エポキシ樹脂、又はエポキシ化ポリブタジエンのうちの少なくとも1種からなるエポキシ樹脂、(C)無機あるいは有機フィラー、(D)非ハロゲン系難燃剤を含むことを特徴とするウレタン変性ポリイミド系難燃樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】
本発明は、適度な粘度を有し、その硬化物の線膨張係数が小さい半導体封止材料、及び、該半導体封止材料を用いて封止されてなる半導体装置を提供する。
【解決手段】
分子量が1000以下で、環に縮合したエポキシ基を2つ以上有する、25℃で固体の脂環式エポキシ化合物A、分子量が1000以下で、環に縮合したエポキシ基を2つ以上有する、25℃で液体の脂環式エポキシ化合物B、25℃で液体の硬化剤、硬化促進剤、及びシリカを含有し、かつ、前記脂環式エポキシ化合物Aの含有量に対する脂環式エポキシ化合物Bの含有量の割合が、(脂環式エポキシ化合物B)/(脂環式エポキシ化合物A)の重量比で0.5〜2であることを特徴とする半導体封止材料、並びに、該半導体封止材料を用いて封止されてなる半導体装置。 (もっと読む)


【課題】半導体デバイスチップの3D積層化において、半導体デバイスチップ間のはんだバンプ等とランドの接合と同時に、熱伝導性の高い層間充填層を形成する層間充填材組成物、塗布液及び三次元集積回路の製造方法を提供する。
【解決手段】三次元集積回路用の層間充填材組成物が、120℃における溶融粘度が100Pa・s以下である樹脂(A)及びフラックス(B)を含有し、フラックス(B)の含有量が樹脂(A)100重量部当たり0.1重量部以上10重量部以下であるか、又は、120℃における溶融粘度が100Pa・s以下であって、熱伝導率が0.2W/mK以上である樹脂(A)と、熱伝導率が2W/mK以上、体積平均粒径が0.1μm以上5μm以下、かつ、最大体積粒径が10μm以下である無機フィラー(C)と、硬化剤(D)及び/またはフラックス(B)とを含有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】硬化後の、可視光から近紫外光の反射率が高く、耐熱劣化性やタブレット成形性に優れ、なおかつトランスファー成形時にバリが生じ難い熱硬化性光反射用樹脂組成物、ならびに当該樹脂組成物を用いた光半導体素子搭載用基板、光半導体装置およびこれらの製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】(A)エポキシ樹脂、(B)硬化剤、(C)硬化促進剤、(D)無機充填剤、(E)白色顔料および(F)カップリング剤を含む熱硬化性光反射用樹脂組成物であって、成形温度が100℃〜200℃、成型圧力20MPa以下、60〜120秒の条件でトランスファー成形した時に生じるバリ長さが5mm以下であり、かつ熱硬化後の、波長350nm〜800nmにおける光反射率が80%以上であることを特徴とする熱硬化性光反射用樹脂組成物、ならびに当該樹脂組成物を用いた光半導体素子搭載用基板、光半導体装置およびこれらの製造方法を提供する。 (もっと読む)


【課題】高温高湿信頼性および成形性に優れた半導体封止用エポキシ樹脂組成物を提供する。
【解決手段】下記の(A)〜(E)成分を含有する半導体封止用エポキシ樹脂組成物である。そして、下記の(C)成分の含有量が、エポキシ樹脂組成物の有機成分に対して0.8〜30.0重量%とする。(A)エポキシ樹脂。(B)フェノール樹脂〔ただし、下記(C)成分を除く。〕。(C)特定のシラン変性フェノール樹脂。(D)硬化促進剤。(E)無機質充填剤。 (もっと読む)


【課題】薄型で安価な半導体発光装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】実施形態によれば、半導体発光装置は、リードフレームと、LEDチップと、透明樹脂と、ハウジング樹脂とを備えている。透明樹脂は、LEDチップ及びリードフレームの上面を覆うとともに第1のリードフレームと第2のリードフレームとの間に充填され、一部がリードフレームの下面側に露出されている。ハウジング樹脂は、リードフレーム上に設けられ、透明樹脂の上面を覆う上部と、透明樹脂の側面を覆う側面部と、透明樹脂の側面の一部を露出させる開口部とを有する。 (もっと読む)


【課題】ケースとカバーとをレーザー溶接により接合する工程や、接着材を用いてケースとカバーとを接着する工程を省略することができ、剛性を向上させた電子回路装置を提供する。
【解決手段】金属製のケース101およびカバー102により形成される内部空間SPに収納される回路基板を備える電子回路装置であって、ケース101およびカバー102は、それぞれ内部空間SPを挟んで対向する対向面部101A,102Aと、対向面部101A,102Aの周縁から立ち上がる側面部101B,102Bとを有し、カバー102は、その側面部102Bがケース101の側面部101Bよりも内側に入り込むようにケース101に嵌め込まれており、カバー102の側面部102Bは、回路基板103Aを封止するようにケース101の内側に充填されて硬化された封止樹脂105によってケース101に固定されている。 (もっと読む)


【課題】硬化性、及び紫外部での透明性に優れる硬化物、並びに耐熱性を保持したまま、ボイドの発生を抑制でき、光学特性に優れる半導体発光デバイス及びその製造方法の提供。
【解決手段】半導体発光デバイスは、基体上の発光素子を封止する封止層と、前記封止層を覆う被覆層とを有する半導体発光デバイスであって、前記封止層及び被覆層が、シラノール基又はアルコキシシリル基を有するポリオルガノシロキサンと、アルキルシリケートとの硬化物からなり、前記封止層及び被覆層の触媒として、それぞれ異なる有機金属化合物を用い、前記封止層の平均厚みが、前記被覆層の平均厚みよりも厚い。 (もっと読む)


【課題】低反り性、耐熱信頼性、ワイヤースイープ性に優れた封止用エポキシ樹脂組成物及びそれを用いて封止した半導体装置を提供する。
【解決手段】エポキシ樹脂、硬化剤、カップリング硬化促進剤、無機充填材を必須成分とする封止用エポキシ樹脂組成物であって、特定の構造を有するエポキシ樹脂、硬化剤、
カップリング剤を配合することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】無機充填材を高充填しても成形時の流動性に優れ、かつ、耐水性と耐熱性のバランス等に優れた硬化物が得られる半導体封止用硬化性組成物を提供する。
【解決手段】エポキシ化合物と硬化剤とを必須成分とする半導体封止用硬化性組成物において、(A)グリシジルエーテル基および(B)アリルエーテル基を含み、かつ数平均分子量が500〜1200の範囲にあるフェノールノボラック系エポキシ化合物を少なくとも一種含むエポキシ化合物を用いる。 (もっと読む)


【課題】 低温で半導体素子を封入することが可能であり、しかも耐酸性に優れ、またガラス管成形時に結晶が析出し難い半導体封入用無鉛ガラス及び半導体封入用外套管を提供する。
【解決手段】 ガラス組成として、モル%で、SiO 45〜58%、Al 0〜6%、B 14.5〜30%、MgO 0〜3%、CaO 0〜3%、ZnO 4.2〜14.2%、LiO 5〜12%、NaO 0〜15%、KO 0〜7%、LiO+NaO+KO 15〜30%、TiO 0.1〜8%含有し、ZnO/LiOが0.84〜2の範囲内にあることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】無機充填材の高充填化が可能な低溶融粘度のエポキシ化合物を含む半導体封止用硬化性組成物を提供する。
【解決手段】エポキシ化合物と硬化剤とを必須成分とする半導体封止用硬化性組成物において、エポキシ化合物が(A)ジグリシジルエーテル化合物と(B)モノグリシジルエーテルモノアリルエーテル化合物とを含み、かつ(A)ジグリシジルエーテル化合物と(B)モノグリシジルエーテルモノアリルエーテル化合物として同一のビフェノール化合物の誘導体を用いる。 (もっと読む)


【課題】耐硫化性に優れ、かつ、高温下での長期信頼性にも優れるシリコーン樹脂組成物を提供する。
【解決手段】エポキシ基、(メタ)アクリロイル基、アミノ基、カルビノール基、メルカプト基、カルボキシ基およびフェノール基からなる群より選ばれる少なくとも1種の反応性官能基を1分子中に1個以上有するオルガノポリシロキサン(A)と、亜鉛化合物(B)と、ホウ素化合物(C)および/またはリン酸エステル(D)と、を含有し、上記亜鉛化合物(B)の含有量が、上記オルガノポリシロキサン(A)100質量部に対して0.01〜5質量部であり、上記ホウ素化合物(C)および/または上記リン酸エステル(D)の含有量が、上記オルガノポリシロキサン(A)100質量部に対して0.01〜5質量部である、シリコーン樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】安価でありながら成形加工性が良好であり、光線反射率が高く、耐熱耐光性が良好な硬化物を与える硬化性組成物を提供すること。
【解決手段】(A)SiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を1分子中に少なくとも2個含有する有機化合物、(B)1分子中に少なくとも2個のSiH基を含有するポリオルガノシロキサン、(C)ヒドロシリル化触媒、(D)白色顔料、(E)無機充填材、を必須成分として含有することを特徴とする熱硬化性樹脂組成物であって、(D)成分と(E)成分の合計の含有量が70〜95重量%であることを特徴とする熱硬化性樹脂組成物。 (もっと読む)


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