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Fターム[4M109GA01]の内容

Fターム[4M109GA01]に分類される特許

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【課題】 紫外領域から可視領域において反射率が低下することなく、且つ耐熱性・耐光性・耐候性に優れる発光ダイオード用リフレクター及びこれを有するハウジングを提供する。
【解決手段】 平均粒径1μm未満の充填材を含むフッ素樹脂組成物を成形して得られ、波長240nm〜700nmにおける反射率の最大値と最小値の差が25%以内である発光ダイオード用リフレクター。 (もっと読む)


【課題】良好な光透過性はもちろん、耐光性に優れた光半導体装置用エポキシ樹脂組成物を提供する。
【解決手段】エポキシ樹脂(A)、酸無水物系硬化剤(B)、硬化促進剤(C)とともに、下記の(D)および多価アルコール(E)を含有する光半導体装置用エポキシ樹脂組成物である。(D)シリコーン樹脂を構成するシロキサン単位が下記の一般式(1)で表され、一分子中に少なくとも一個のケイ素原子に結合した水酸基またはアルコキシ基を有し、ケイ素原子に結合した一価の炭化水素基(R)中、10モル%以上が置換または未置換の芳香族炭化水素基であるシリコーン樹脂。
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【課題】優れた耐熱性、耐熱変色性、及び透明性を有し、かつ、比較的低温環境下であっても硬化性に優れた封止材を提供する。
【解決手段】本発明の封止材は、下記一般式(I)で示される構造を有する(メタ)アクリロイル基含有ポリウレタン(A)とラジカル重合性不飽和単量体(B)とを含有することを特徴とする。一般式(I)中、Zは、分子量65〜265の脂肪族環式構造含有アルキレン基を表し、Tは、脂肪族環式構造含有アルキレン基又は鎖状アルキレン基を表し、前記Mは、(メタ)アクリロイル基を含む原子団を表す。
[化1]
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【課題】硬化後の、可視光から近紫外光の反射率が高く、耐熱劣化性やタブレット成型性に優れ、なおかつトランスファー成型時にバリが生じ難い熱硬化性光反射用樹脂組成物及びその製造方法、並びに当該樹脂組成物を用いた光半導体素子搭載用基板及び光半導体装置を提供する。
【解決手段】熱硬化性成分と白色顔料とを含む熱硬化性光反射用樹脂組成物110であって、成型温度100℃〜200℃、成型圧力20MPa以下、成型時間60〜120秒の条件下でトランスファー成型した時に生じるバリ長さが5mm以下であり、かつ熱硬化後の、波長350nm〜800nmにおける光反射率が80%以上であることを特徴とする熱硬化性光反射用樹脂組成物110を調製し、そのような樹脂組成物を使用して光半導体素子搭載用基板および光半導体装置を構成する。 (もっと読む)


【課題】製造時の工数がかからず、電子基板およびこれに搭載される各種の電子素子、発光ダイオード等の周囲を該電子基板を含めて直接熱可塑性樹脂で成形、封止するようにした電子部品実装基板の樹脂封止方法および樹脂封止基板を有する電子機器並びに照明機器の提供。
【解決手段】ファインセラミック基板5に電子部品を実装した後、射出成形用金型1内に設置し、このファインセラミック基板5を包囲するように熱可塑性樹脂材で射出成形する。また、電子部品が実装されたファインセラミック基板と、電子部品を囲包するようにファインセラミック基板の外側に射出成形された熱可塑性樹脂部とを有する電子機器、および発光ダイオード素子61,62が実装されたファインセラミック基板1および発光ダイオード素子を囲包するようにファインセラミック基板の外側に射出成形する。 (もっと読む)


【課題】適度な粘度(吐出性)と、非流動性(加熱硬化時の形状安定性)及び光の反射性に優れ、特にLED用光反射材に使用される自己接着性を有する付加硬化型シリコーン組成物及びそれを用いた光半導体装置を提供する。
【解決手段】(A)一分子中に珪素原子に結合するアルケニル基を少なくとも2個有するオルガノポリシロキサン:100質量部、
(B)一分子中に少なくとも2個の珪素原子に結合する水素原子と少なくとも1個のアルコキシ基を有するオルガノハイドロジェンポリシロキサン:上記(A)成分の総アルケニル基数に対して総Si−H基数が1.4〜5.0倍となる量、
(C)煙霧質シリカ:(A)、(B)成分の合計100質量部に対し8〜30質量部、
(D)白色顔料、
(E)硬化触媒
を含有する光半導体装置に対する自己接着性付加硬化型シリコーン組成物。 (もっと読む)


【課題】誤った方向でコネクタと嵌合することを確実に防止できる半導体装置を提供する。
【解決手段】回路基板1と、回路基板1上に設けられる光半導体素子3と、回路基板1上に形成され、光半導体素子3を被覆する直方体または立方体状の被覆樹脂7と、を備え、被覆樹脂7の外面に、少なくとも1つの切り欠き部10が形成されており、切り欠き部10が1つ形成される場合、切り欠き部10は被覆樹脂7の上面の中心を除く位置に形成され、切り欠き部10が複数形成される場合、切り欠き部10は被覆樹脂7の上面の中心に対して、非点対称である位置に形成される。 (もっと読む)


【課題】従来のシルセスキオキサンに比較して、低温で流動性を有し、成形が容易なシロキサン化合物を提供する。
【解決手段】一般式(1)


(式(1)中、Xはそれぞれ独立にX1またはX2で表わされ、Xのうち少なくとも1個はX2であり、R〜Rはそれぞれ独立に水素原子、又は有機基。m、nはそれぞれ独立に1〜10の整数であり、Yは特定の架橋基である。)で表されるシロキサン化合物。 (もっと読む)


【課題】透明性に優れ、さらには、機械強度および熱伝導性に優れる透明熱伝導性組成物を提供する。
【解決手段】23℃において半固形状態または固形状態である樹脂と、熱伝導性フィラーとを含有する透明熱伝導性組成物において、樹脂の屈折率と、熱伝導性フィラーの屈折率との差の絶対値を、0.05未満とし、熱伝導率を、2W/m・K以上とする。この透明熱伝導性組成物によれば、優れた透明性を確保するとともに、優れた機械強度および熱伝導性を確保することができる。そのため、この透明熱伝導性組成物は、透明性、機械強度および熱伝導性が要求される種々の放熱用途に用いることができる。 (もっと読む)


【課題】透明性および熱伝導性に優れ、種々の用途に対応することのできる透明熱伝導性組成物を提供する。
【解決手段】樹脂と、フィラーとを含有する透明熱伝導性組成物において、フィラーに、
平均粒子径が1〜100μmであり、熱伝導率が2W/m・K以上である熱伝導性フィラーと、平均粒子径が1〜100nmであり、屈折率が1.8以上である高屈折率フィラーとを含有させる。このような透明熱伝導性組成物によれば、目的および用途に応じて種々の樹脂およびフィラーを用いることができるとともに、優れた透明性および熱伝導性を確保することができる。そのため、このような透明熱伝導性組成物は、透明性および熱伝導性が要求される種々の放熱用途に用いることができる。 (もっと読む)


【課題】半導体パッケージの製造歩留まりを向上する。
【解決手段】トランスファモールドによるレンズ86を含むワークWから、ワークWで接続された成形品ランナ91などの不要樹脂を分離するディゲート方法であって、(a)成形品ランナ91などの不要樹脂が接続されている箇所を除いてワークWを上下からクランプして、成形品ランナ91などの不要樹脂を浮かせた状態とする工程と、(b)上下方向の一方から他方へ浮いた状態の成形品ランナ91などの不要樹脂を押し続けて、ワークWから成形品ランナ91などの不要樹脂を引き千切る工程と、を含む。 (もっと読む)


【課題】トランスファー成型性などの成型加工性が良好であり、高い耐光性および耐熱性を有する半導体のパッケージ用硬化性樹脂組成物を提供することである。
【解決手段】(A)SiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を1分子中に少なくとも2個含有する有機化合物、(B)1分子中に少なくとも2個のSiH基を含有する化合物、(C)ヒドロシリル化触媒を必須成分として含有することを特徴とする硬化性樹脂組成物からなる半導体のパッケージ用硬化性樹脂組成物に関する。 (もっと読む)


【課題】可視光から近紫外光領域において高い反射率を有する高放熱性の光反射用熱硬化性樹脂組成物及びその樹脂組成物を用いた光半導体搭載用基板及び光半導体搭載用基板の製造方法を提供する。
【解決手段】光反射用熱硬化性樹脂組成物が(A)エポキシ樹脂、(B)硬化剤、(C)硬化触媒、(D)充填剤(E)カップリング剤を含有する樹脂組成物であって、熱硬化後の、波長800nm〜350nmにおける光反射率が80%以上であり、かつ熱伝導率が1〜10W/mKの範囲であり、熱硬化前には室温において加圧成形可能である、ことを特徴とする光反射用熱硬化性樹脂組成物を提供することにより高光反射率、高放熱性の光半導体搭載用基板を作製することが可能となった。 (もっと読む)


【課題】発光効率及び歩留りを向上できる発光装置用パッケージ及びそれを用いた発光装置を提供する。
【解決手段】セラミックシート12を積層して形成されるとともに発光素子2が設置される設置面11aを有する基体11と、設置面11a上に形成して発光素子2に接続される端子部13と、基体11の設置面11aの対向面11bに配される素子素子電極17と、基体11を貫通して端子部13と素子素子電極17とを導通する素子用ビア19と、一部のセラミックシート12を貫通してバリスタ20の素材が充填されるバリスタ用ビア21と、バリスタ用ビア21の端面と素子用ビア19とを接続するバリスタ電極22とを備えた。 (もっと読む)


【課題】外部端子がパッケージ底面に配置されている半導体装置を実装する際に、半田不良の有無を外観上で確認できるようにし、それによって、実装信頼性を向上させる。
【解決手段】半導体装置10は、ダイパッド4と、ダイパッド4の上面に搭載された半導体素子5と、ダイパッド4の周囲に配置され且つ半導体素子5と電気的に接続された外部端子3と、外部端子3の上に形成された保護層2とを備えている。外部端子3には第1の貫通穴11Aが形成されていると共に、保護層2には、第1の貫通穴11Aと少なくとも一部が重なる第2の貫通穴11Bが形成されている。 (もっと読む)


【課題】本発明は、硬化後の、可視光から近紫外光の反射率が高く、耐熱劣化性やタブレット成型性に優れ、なおかつトランスファー成型時にバリが生じ難い熱硬化性光反射用樹脂組成物及びその製造方法、並びに当該樹脂組成物を用いた光半導体素子搭載用基板及び光半導体装置を提供することを目的とする。
【解決手段】熱硬化性成分と白色顔料とを含む熱硬化性光反射用樹脂組成物であって、成型温度100℃〜200℃、成型圧力20MPa以下、成型時間60〜120秒の条件下でトランスファー成型した時に生じるバリ長さが5mm以下であり、かつ熱硬化後の、波長350nm〜800nmにおける光反射率が80%以上であることを特徴とする熱硬化性光反射用樹脂組成物を調製し、そのような樹脂組成物を使用して光半導体素子搭載用基板および光半導体装置を構成する。 (もっと読む)


【課題】発光ダイオードに対する封止性を向上させながら、色度のばらつきを低減することのできる封止シート、発光ダイオード装置およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】発光ダイオード11が実装される基板14に貼着され、発光ダイオード11を封止するための封止シート1であって、発光ダイオード11を下面から埋設するダイオード埋設領域20が区画される封止材層2と、封止材層2の上面に積層される第1蛍光体層4と、封止材層2の下面に、ダイオード埋設領域20と間隔を隔てて配置されるように、積層される第2蛍光体層5とを備える。 (もっと読む)


【課題】色度が調整された発光装置を効率的に生産する装置、方法を提供する。
【解決手段】塗布装置201は、基板と、基板に実装された発光素子と、発光素子を覆う蛍光体を含む封止樹脂とを備える発光装置の製造において封止樹脂を塗布する装置である。制御装置250は、発光素子の色度測定結果に基づき、目標色度を達成する蛍光体配合、蛍光体濃度を決定する。制御装置250は、決定した蛍光体配合、蛍光体濃度となるように、蛍光体を含む封止樹脂が入れられた吐出用容器311〜313及び蛍光体を含まない封止樹脂が入れられた吐出用容器320を対象として、使用すべき容器を選択すると共に使用すべき容器に入れられた封止樹脂の混合比を計算する。制御装置250は、計算した混合比に従って、選択した容器から所定量の封止樹脂を攪拌機270へ送出させ、攪拌された封止樹脂を、吐出装置280によって封止樹脂の塗布前の発光装置に塗布させる。 (もっと読む)


【課題】長時間の通電においても光度低下が非常に小さい光半導体装置を提供する。
【解決手段】光半導体素子4の周囲が、脂環式エポキシ化合物(A)と、モノアリルジグリシジルイソシアヌレート化合物(B)と、ポリカーボネートポリオール(C)と、アクリルブロック共重合体(D)と、硬化剤(E)と、硬化促進剤(F)とを含む第1の硬化性エポキシ樹脂組成物の硬化物6により封止され、且つ前記硬化物6の周囲が、分子内に複数のエポキシ基を有するエポキシ化合物(G)と、脂環式ポリエステル樹脂(H)と、硬化剤(I)と、硬化促進剤(J)とを含む第2の硬化性エポキシ樹脂組成物の硬化物7により封止されていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】低ガス透過性で光半導体封止に適するシリコーン樹脂組成物。
【解決手段】(A)平均組成式(1)で示され、2個以上のアルケニル基を有するオルガノポリシロキサン(RSiO3/2(RSiO)(RSiO1/2)(RSiO3/2(1)(式中、Rはアリール基、Rは一価炭化水素基であり、Rはアリール基以外の一価炭化水素基であり、aは0.3〜0.9であり、但しa+b+c=1.0)(B)両末端及び片末端にSiH基を有するオルガノハイドロジェンポリシロキサンが10:90〜90:10のモル比でなるオルガノハイドロジェンポリシロキサン、成分中のSiH/アルケニル基のモル比が0.4〜4.0となる量(C)付加反応用触媒を含有するシリコーン樹脂組成物。 (もっと読む)


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