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Fターム[4M112BA01]の内容

圧力センサ (26,807) | 素子の種類 (2,020) | 抵抗体に基づくもの (823)

Fターム[4M112BA01]に分類される特許

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【課題】温度補償型の圧力センサモジュールにおいて、温度測定部および温度補償部を備えた温度補償装置と、圧力検出部を備えた圧力センサ装置とが互いに別々の半導体基板に形成された場合であっても、温度測定部が圧力センサ装置の温度を正確に測定することができ、適切に温度補償された圧力値を出力することが可能な圧力センサモジュールを提供する。
【解決手段】本発明の圧力センサモジュールは、圧力を検出する圧力検出部を有する圧力センサ装置と、温度測定部を有し前記温度測定部の出力値に基づいて前記圧力センサ装置の出力値を補償する温度補償装置と、を少なくとも備えてなる圧力センサモジュールであって、前記圧力センサ装置は、前記温度補償装置の前記温度測定部と重なる領域に配置されていること、を特徴とする。 (もっと読む)


【課題】異なる厚さを有する少なくとも2つの領域を備える活性部を備え、これらの領域の少なくとも一つが単結晶半導体材料からなる構造を製造する、コストを減少させ欠点を有しない方法を提案すること。
【解決手段】第1の基板と異なる厚さの第1及び第2の懸架領域を備える活性部を備える構造を製造する方法であって、前記方法は、以下の、a)第1の基板の前面を加工して第1の基板よりも薄い第1の厚さの少なくとも1つの第1の懸架領域の水平方向の輪郭を画定し、b)懸架領域下部の第1の懸架領域のエッチング停止層を形成し、これが第1の懸架領域下部に配置された半導体材料を除去する段階に先立って行われ、c)第1の基板の前面上に犠牲層を形成し、d)第1の基板の背面から加工して犠牲層をリリースし、少なくとも1つの第2の懸架領域を形成し、第1の懸架領域の停止層に到達させ、e)第1及び第2の懸架領域をリリースする段階を備える。 (もっと読む)


【課題】流体の大気導入口への干渉を効果的に防止した半導体圧力センサを提供する。
【解決手段】半導体圧力センサは、ケース10と、ケース10内に被測定対象の流体を導入する圧力導入口11と、大気を導入する大気導入口12と、大気圧に対する流体の圧力を測定するセンサチップ20と、を備えている。圧力導入口11及び大気導入口12は、ケース10の同一面側に配設されており、圧力導入口11はケース10の表面に立設された管状の圧力導入部10bに連通しており、大気導入口12は圧力導入部10bに並置された管状の大気圧導入部10cおよびケース10内に連通している。そして、大気圧導入部10cにおける大気導入口12から離間した位置に複数の凹部16が形成されている。 (もっと読む)


【課題】接続部材の耐久性が損なわれることが抑制された半導体装置、及び、その製造方法を提供する。
【解決手段】チップ(10)と台座(30)とが接続部材(50)を介して機械的に接続された半導体装置であって、チップ(10)と台座(30)との間に接続部材(50)が介在され、チップ(10)の上面(10c)の全面、及び、側面(10b)の全面の少なくとも一方に、応力緩和部材(70)が機械的に接続されており、台座(30)は、接続部材(50)よりも線膨張係数が高く、台座(30)、接続部材(50)、及び、応力緩和部材(70)は、チップ(10)よりも線膨張係数が高い。 (もっと読む)


【課題】製造コストを抑制することができ、かつ圧力測定精度を向上することができる半導体圧力センサおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】半導体圧力センサは、主表面1aに凹部3およびアライメントマーク4を有する第1の基板1と、第1の基板1の主表面1a上に形成されており、第1の基板1の凹部3内の空間IS上を覆うように設けられたダイヤフラム5およびダイヤフラム5上に設けられたゲージ抵抗6を有する第2の基板2とを備えている。アライメントマーク4は第2の基板2から露出するように設けられている。 (もっと読む)


【課題】傾斜ベースの傾斜面における物理量センサチップの実装面への接着剤の浸入をより抑制することのできる半導体物理量センサを得る。
【解決手段】パッケージ5の内底部5bに傾斜ベース4を実装するとともに、半導体を用いた物理量センサチップ2を、当該物理量センサチップ2の検出軸が内底部5bに対して傾斜するように傾斜ベース4の傾斜面4aに実装する半導体物理量センサ1において、傾斜ベース4の肉薄側に、接着剤9の這い上がりを規制する規制部10を設ける。 (もっと読む)


【課題】表面粗さやゴミがセンサウェハとパッケージウェハとの接合界面に存在しても、気密信頼性の高い気密空間を形成できる力学量センサの製造方法を提供する。
【解決手段】センサウェハ100にセンシング部1を複数形成するとともに、センサウェハ100とパッケージウェハ200の一方のウェハに凹部2を形成する工程と、凹部2の側面に封止用材料30を配置する工程と、センサウェハ100とパッケージウェハ200とを接合する工程と、封止用材料30を加熱して溶かし、溶けた封止用材料30をセンサウェハ100とパッケージウェハ200の接合界面の端部に流動させる工程と、封止用材料30を硬化させて、接合界面の端部を封止用材料30で覆う工程とを行う。 (もっと読む)


【課題】基板の裏面側からエッチングすることにより、基板裏面における開口面積が基板表面における開口面積よりも小さな空洞を基板に形成することができる音響センサを提供する。
【解決手段】基板42には、その表面から裏面へ貫通するように空洞44を設ける。空洞44の上方において、基板42の上方には音響振動を感知する薄膜のダイアフラム43を設ける。空洞44の少なくとも1つの壁面は、基板42の表面とその厚み方向中間部との間において、基板42の表面から前記中間部へ向かうにつれて次第に基板42の外側へ向かって広がった第1の斜面47aと、前記中間部と基板42の裏面との間において、前記中間部から基板42の裏面へ向かうにつれて次第に基板42の内側へ向かって狭まった第2の斜面47bとで構成される。また、空洞44の裏面開口幅が表面開口幅よりも小さくなっている。 (もっと読む)


【課題】測定精度が高く、製作が容易で、安価に出来る振動式差圧センサを実現する。
【解決手段】ダイアフラムに設けられた振動子形歪ゲージを具備する振動式差圧センサにおいて、一方の面に振動子形歪ゲージ素子が設けられ他方の面がダイアフラムに相当する厚さに研磨されて形成されシリコンよりなるセンサ基板と、センサ基板の他方の面に一方の面が直接に接合されたシリコンよりなるベース基板と、ベース基板のセンサ基板との接合部に設けられセンサ基板に実質的にダイアフラムを形成し、異物の混入によりダイアフラムの可動範囲が制限されることなく且つ振動子形歪ゲージ素子の振動によって励起されるダイアフラムの振動に対して制動作用をなすための所定の隙間を有する凹部と、凹部に測定圧を導入する導入孔と、凹部に導入孔を介して圧力を伝搬しダイアフラムを制動するための流体とを具備したことを特徴とする振動式差圧センサである。 (もっと読む)


【課題】センサチップの一端側をモールド樹脂で封止してモールド樹脂で片持ち支持するようにしたモールドパッケージの製造方法において、モールド樹脂による封止前におけるセンサチップのぐらつきを防止して、工程中のワークの取り扱い性に優れた製造方法を実現する。
【解決手段】センサチップ20の一端23側をモールド樹脂50で封止してモールド樹脂50で片持ち支持するようにしたモールドパッケージS1の製造方法においてリードフレーム30として、センサチップ20の他端24側を支持する支持部33を有するものを用意し、センサチップ20の他端23側を支持部33で受けて支持するようにし、支持部33による支持を維持した状態にてモールド樹脂50による封止を行った後に、リードフレーム30から支持部33をカットして、センサチップ20の他端24側から支持部33を除去する。 (もっと読む)


【課題】最適化された感度を有するMEMSおよび/またはNEMS圧力測定デバイスを提供する。
【解決手段】基板2上で懸架された変形可能な膜4であって、膜の面の1つが測定される圧力を受けるように意図された膜と、歪みゲージを備え、膜4の変形を検出する手段であって、基板2上に形成される検出手段6と、膜4の変形を増幅された形で検出手段6に伝達する変形不能なアーム14とを備え、アーム14が、膜4の面にほぼ平行な軸線Yの周りで回転可能に基板2にヒンジ留めされ、膜4の変形を増幅された形で検出手段6に伝達するように膜と一体である。 (もっと読む)


【課題】圧力センサと高精度の力学量センサとが最適にモジュール化されて、各力学量センサの性能がモジュール化に伴い低下することのない安価な力学量センサ装置およびその製造方法を提供する。
【解決手段】圧力を検出する第1力学量センサR1の第1力学量検出部M1と第2力学量センサR2の第2力学量検出部M2とが、第1の基板10に変位可能な状態に形成され、第2の基板20が貼り合わされて第1空間K1と第2空間K2が互いに連通せずに形成されてなり、第1の基板10がSOI基板からなり、SOI層3からなる一部の半導体領域Sで第1力学量検出部M1と第2力学量検出部M2がそれぞれ構成されてなり、第2力学量検出部M2が、第2可動半導体領域S2aと第2固定半導体領域S2bの対向する面の静電容量の変化を測定して、第2力学量を検出する力学量センサ装置100とする。 (もっと読む)


【課題】検出精度が低下することを抑制することができ、時間効率を向上させることのできるセンサ装置を提供する。
【解決手段】物理量に応じた信号を出力する検出部11を備え、IDが割り振られているセンシング部10と、センシング部10の一端部または/および他端部と接続され、IDに対応したパルス信号を出力する制御部30と、センシング部10に接続され、センシング部10の出力を外部回路に出力する出力端子60とを備える。そして、制御部30は、外部回路からID要求信号を受信したとき、当該制御部30とセンシング部10とを接続すると共にパルス信号をセンシング部10に印加するものとする。 (もっと読む)


【課題】比較的簡単な方法で、電子デバイスを構成する部材間の接合強度をより高めることが可能な電子デバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】半導体基体2と、半導体基体2を実装する基体1と、半導体基体2を基体1側に接合する接合部3とを備えた電子デバイス10の製造方法であって、接合部3がAuを含む接合材料からなり、半導体基体2の接合部3側が接合材料を構成する元素以外から構成される母材材料からなり、基体1に設けた接合部3を溶融する温度以上に加熱して液相状態にした接合材料と固相状態の母材材料とを接触させる接触工程と、接触工程後に、Auと母材材料を構成する元素との合金の融点の温度以上に加熱して、半導体基体2を基体1側に接合する接合工程とを有する。 (もっと読む)


【課題】特性が安定で、ローコスト化が可能な圧力センサを実現する。
【解決手段】測定ダイアフラムに歪センサが形成されている圧力センサにおいて、第1の半導体基板の一方の面に形成された半導体歪ゲージと、第1の半導体基板の一方の面に一方の面が接合された第2の半導体基板と、半導体歪ゲージを挟んで第1の半導体基板と第2の半導体基板の一方の面に直交して互いに対向して設けられ半導体歪ゲージを含む測定ダイアフラムを形成する第1,第2の測定室と、第1の半導体基板の他方の面に一面が接して設けられた支持基板と、支持基板の他方の面に低融点ガラスを介して一面が接する金属よりなる支持台と、一端が第1の測定室に連通し一端側が支持基板に設けられ他端側が支持台に設けられた他端が外部に開口する第1の導圧孔と、一端が第2の測定室に連通し一端側が支持基板に設けられ他端側が支持台に設けられた他端が外部に開口する第2の導圧孔とを具備したことを特徴とする圧力センサである。 (もっと読む)


【課題】圧力センサなどのデバイスの製造工程中に空洞内の上下のシリコン面の固着がない半導体基板およびその製造方法を提供する。また、精度良い小型のダイアグラムを有する半導体装置を提供する。
【解決手段】SON構造101のダイアフラム100を有するシリコン基板1およびその製造方法において、SON構造101を構成する空洞2内の下側のシリコン面3に凸状の島4を形成する。半導体基板の表面に深さの異なるホール群を形成し、高温アニール処理することにより一つの大きな空洞を形成する。 (もっと読む)


【課題】圧力センサーの小型化を可能とする。
【解決手段】圧力センサーの製造方法は、基板の一つの面の一部の上方に、第1の膜を形成する工程(a)と、第1の膜の上方と基板の第1の膜を囲む領域の上方とにまたがる第2の膜を形成する工程(b)と、第2の膜に貫通孔を形成することにより、第1の膜の一部を露出させる工程(c)と、第1の膜をエッチングする工程(d)と、第2の膜の貫通孔を封止する工程(e)と、基板の第1の膜がエッチングされた領域の上方に位置する第2の膜の上方に、歪みセンサー膜を形成する工程(f)と、を含む。 (もっと読む)


【課題】差圧測定器を効率的に校正可能な差圧測定器の校正システムを提供する。
【解決手段】差圧測定器3の校正システム40であって、圧力発生装置4によって複数の設定値の圧力を加えられた第1の圧力測定器1が検出した圧力の複数の検出値、及び圧力発生装置4によって複数の設定値の圧力を加えられた第2の圧力測定器2が検出した圧力の複数の検出値を収集する収集回路41と、複数の設定値と、第1の圧力測定器1が検出した複数の検出値と、の差に基づき、第1の圧力測定器1が検出する圧力の検出値の第1の補正式を決定する第1の補正式決定部45aと、複数の設定値と、第2の圧力測定器2が検出した複数の検出値と、の差に基づき、第2の圧力測定器2が検出する圧力の検出値の第2の補正式を決定する第2の補正式決定部45bと、を備える、差圧測定器の校正システム。 (もっと読む)


【課題】撓み部に発生する浅いクラックを感知する感知基板およびそれを用いた加速度センサを提供する。
【解決手段】フレーム部11と、フレーム部11の内側に設けられた錘部12と、フレーム部11と錘部12との間をつなぎ錘部12が変位することで撓む撓み部13と、撓み部13に形成され錘部12の揺動に応じて抵抗値が変化するピエゾ抵抗14と、フレーム部11に配置されピエゾ抵抗14からの信号を取り出すピエゾ抵抗用電極パッド15aと、ピエゾ抵抗14とピエゾ抵抗用電極パッド15aとの間をつなぐ拡散配線による拡散配線部16と、を備える感知基板20である。撓み部13の表面には、金属でなる金属配線部17を備え、金属配線部17は、フレーム部11に配置され金属配線部17からの信号を取り出す金属配線部用電極パッドにつながっている。 (もっと読む)


【課題】可動部を有するMEMS素子に対する外部からの静電気の影響を低減して信頼性を向上することができるMEMSデバイスを提供する。
【解決手段】固定部及び可動部を有するMEMS素子と、所定の間隔をもって可動部を覆い、固定部でMEMS素子と固定された第1キャップと、第1キャップと導電部材により電気的に接続され、固定部上に配置され、且つグランド電位が供給される第1グランドパッドとを備えたMEMSデバイス。 (もっと読む)


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