【課題】イオンビーム照射開始直後から、安定した成膜を可能にした、プラズマ発生装置、成膜装置、該成膜装置に用いた液晶装置の製造方法、及ぶ該液晶装置を備えた電子機器を提供する。
【解決手段】放電室６内に所定のガスを導入すると共に放電室６の外周に設置したコイル７に高周波を通電してガスを放電させてプラズマを形成するプラズマ発生装置５である。放電室６の外側に、放電室６の内部を加熱する加熱手段Ｈを備えている。 （もっと読む）

【課題】クラスターを効率的に生成しかつ所望する極性を有するクラスターを選択的に回収する方法と装置を提供する。
【解決手段】マグネトロンスパッタ法によるクラスター生成装置のクラスター生成室を構成する筒状体の少なくとも一部を電気的に浮かせることにより、その内壁面の全部または一部を、得ようとする極性を有するクラスターと同じ極性に帯電させる。 （もっと読む）

【課題】ビーム径を細く絞ることができ、しかも、イオンビーム電流を広い範囲にわたって変える。
【解決手段】内部にプラズマを維持して流すプラズマトーチ２をもったプラズマ発生器３と、プラズマトーチにトーチオリフィス４を介して連通され、トーチオリフィスから流れ出たプラズマを断熱膨張させて超音速流にする差動排気チャンバ５と、差動排気チャンバのトーチオリフィスとの対向位置に設けられ、超音速流とされたプラズマからイオンを引き出す引出しオリフィス６と、引出しオリフィスを通過したイオンを静電的に加速してさらに引き出す引出し電極７と、引出し電極から引き出したイオンを、イオン光学的操作を加えることで集束させて試料１５に入射させるイオン光学系１３と、を備える。 （もっと読む）

中央磁極と電気的アノードとの両方として作用するアノードを備える、クローズドドリフトイオン源を提供する。前記アノードは、前記源の電気インピーダンスをさらに増大させるために、クローズドドリフト領域を生成する絶縁材料キャップを備える。前記イオン源は、宇宙スラスタへの応用のための円形の従来のイオン源、または広範囲の基板を均一に処理するための長い線状のイオン源として構成されることができる。特に有用な実施では、本発明を、マグネトロンスパッタプロセスのためのアノードとして使用する。
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イオン源および制御可能なイオン電流密度分布を有するイオンビームを発生させるためにイオン源の電磁石を動作させる方法。イオン源（１０）は、放電チャンバ（１６）および放電チャンバ（１６）の内側でプラズマ密度分布を変化させるために磁界（７５）を発生させるようになっている電磁石（４２；４２ａ−ｄ）を含む。方法は、放電空間（２４）内でプラズマ（１７）を発生させること、電流を電磁石（４２；４２ａ−ｄ）に印加することによって、プラズマ密度分布を規定するのに有効である磁界（７５）を放電空間（２４）内に発生し形作ること、プラズマ（１７）からイオンビーム（１５）を抽出すること、イオンビーム密度について分布プロファイルを測定すること、および、イオンビーム密度について実際の分布プロファイルを所望の分布プロファイルと比較することを含んでもよい。
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【課題】金属皮膜の付着を低減して、イオン源性能の低下を減少できる高周波イオン源を提供することにある。
【解決手段】高周波イオン源は、石英円筒管４の外周に配置され、高周波電流が流されるコイル３と、石英円筒室にガスを流すことにより生成されたプラズマからイオンビームを引き出す多孔型引出電極２とを有する。石英円筒管４の内面に近接して第２の石英円筒管１３が配置される。第２の石英円筒管１３は、石英製の短冊状部材１３Ｃが周方向に間隔をおいて配列されることにより、軸方向に長いスリット１３Ｄが周方向に複数個形成されている。 （もっと読む）

【課題】 カソード近傍に発生する異常放電を防止してパーティクルやスプラッシュの発生を抑制するためのイオンビーム源及びこれを備えた成膜装置を提供する。
【解決手段】 金属製の筐体に、カソードと、磁気ギャップと、前記筐体内に磁場を生じさせる磁場発生手段と、前記筐体内に反応性ガスを導入するための反応性ガス導入手段と、前記磁気ギャップの近傍に配置されるアノードとを備えるイオンビーム源であって、前記カソード表面に膜厚が１００μｍ〜２００μｍとなるように絶縁被膜を形成したことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】放電管の内部表面でのプラズマ損失を低減できるプラズマ源，それを用いた高周波イオン源，負イオン源，イオンビーム処理装置，核融合用中性粒子ビーム入射装置を提供することにある。
【解決手段】絶縁物で構成された放電管５と、放電管５の周囲に配置されたコイル３とを有する。コイル３に高周波を印加することで、放電管５の内部にプラズマを生成する。導体であるファラデーシールド４は、放電管５とコイル３の間に設置されるとともに、複数のスリット４Ｓを有する。複数の永久磁石６は、複数のスリットの間であって、ファラデーシールド４の外側に設置され、放電管５の内部に多極磁場Ｂを生成する。 （もっと読む）

本発明は、アンテナ１１、高周波源１２を利用するプラズマ発生器１３の形をしているプラズマ源に関する。発生したプラズマはチャンバー１４に流入し、イオンはグリッド１５によりチャンバー１４から加速される。部材１６は、局所的な損失を生じさせ、局所的なプラズマ密度を減少させるためにチャンバー内に位置する。
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イオンストリームを作り出す好適なイオンソース１２は、アークチャンバのイオン化領域Ｒを少なくとも部分的に制限するアルミニウム合金のアークチャンバの筐体７６を備えている。アークチャンバの筐体は、熱フィラメントのアークチャンバのハウジングであって、電子がアークチャンバのイオン化領域を流れるのに十分な温度にカソード１２４を直接的又は間接的に加熱するハウジングとともに使用される。温度センサは、アークチャンバ７６の内部の温度を監視するとともに、感知温度に関する信号を供給する。コントローラは、センサにより測定された感知温度を監視するとともに、感知温度を範囲内に維持するように温度を調節する。
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【課題】アーク放電装置のチャンバの内部に堆積する不要堆積物がアーク放電に影響を及ぼさないようにする。
【解決手段】アークチャンバ本体１Ａと、該アークチャンバ本体１Ａの内部に設けられ、導入される気体をアーク放電するためのフィラメント９と、アークチャンバ本体１Ａの内部にフィラメント９と対向して設けられたカソード６と、アークチャンバ本体１Ａの内部における上面、底面及び壁面のうちの少なくとも壁面上に設けられたライナベースとを備え、ライナベースの表面は平坦で且つその表面には格子状の溝部１００が少なくともフィラメントと隣接する部分に形成されている。 （もっと読む）

本発明は、イオン注入機に適しているイオン源用前板（２７）に関する。本発明による前板は、表側（７０）および裏側（７２）と、表側と裏側との間の前板を実質的に真っすぐに通って延びるイオン源からのイオンの脱出を可能にするための出口アパーチャー（２８）と、前板をその深さの少なくとも一部に対して斜めに表側から裏側へと貫通するスロット（８０）であって、前板の側面（８２）から出口アパーチャー（２８）と結合するように延びるスロットと、を備える。スロットは、前から見た場合にイオン源への視線をふさぐように斜めであるが、熱応力を緩和するために膨張ギャップを提供する。 （もっと読む）

【課題】 平行性の良いイオンビームを引き出すことができるイオン源を提供する。
【解決手段】 このイオン源は、プラズマ生成容器３０と、フィラメント４２と、電子を反射させると共にイオン５２を引き出す反射電極４８と、プラズマ生成容器３０と同電位に保たれる制御電極４６と、イオン５２を減速する減速電極５０とを備えている。これらは、ｙｚ平面に平行な面状をしている。更に、プラズマ生成容器３０内にｘ軸に平行な磁界を発生させる第１コイル５４と、イオン５２を加速してイオンビーム９０として引き出す引出し電極系７６と、引出し電極系７６付近にｘ軸に平行な磁界を発生させると共に、第１コイル５４と協働して、減速電極５０と引出し電極系７６間の領域に、イオン５２の進行方向に向けて減衰している磁界を発生させる第２コイル８６とを備えている。 （もっと読む）

【課題】一つのイオン源を用いて、分子イオンも、原子イオンも効率よく発生させることのできるプラズマ発生装置を提供する。
【解決手段】プラズマ源のプラズマ室を形成する壁の１部もしくは全部に冷媒を通すチャネルと加熱するためのヒータとを設け、またはプラズマ室近傍にプラズマ室に密着もしくは近接できる温度コントロールプレートを設けることによってｉｎ ｓｉｔｕでプラズマ室内のガスの温度を調整し、プラズマ源を取出さずに分子や原子などの異なるイオン種を高い効率で生成する。 （もっと読む）

【課題】低エネルギー拡がりで、現在実現可能な輝度よりも明るい輝度の実現が可能な気体イオン源が備えられた粒子光学装置を提供する。
【解決手段】高輝度は、一の空間から小さなイオン化容積（1μm未満から数十μmの大きさ）に電子を注入し、他方の空間からのイオンを引き出すことによって実現される。注入される電子は、電界放出型放出体又はショットキー型放出体のような高輝度電子源３で生成される。 本発明の一の実施例では、高電子密度は、電界放出型放出体をイオン化容積の近くに設けて、電子源とイオン化容積との間に光学系を設けることなく実現される。本発明の他の実施例では、電子源はMEMS構造上で結像される。50nmの2つの小さな絞りは1μmの間隔を空けて設けられている。電子は1の絞り２から入り込み、イオンはもう一方の絞り７を介してイオン化容積から出て行く。 （もっと読む）

【課題】 カソードの着脱が容易であり、しかもカソードからカソードホルダーへの伝熱損失を低減してカソードの加熱効率を高めることができるイオン源を提供する。
【解決手段】 このイオン源は、前部２２、後部２４および両者をつなぐ連結部２６、２７を有しておりかつ後部２４が二つの張出し部２４ａを有しているカソード２０と、先端部が鉛直方向Ｇの下に向くように配置されていてその先端部付近内に、カソードの後部２４が通る貫通穴３４を有する棚部３２を備えている筒状のカソードホルダー３０と、カソードの後部２４に対応した形状をしていて後部２４が通る貫通穴４４を有しているロック板４０とを備えている。そして、カソードの後部２４を、カソードホルダーの貫通穴３４およびカソードホルダー内に入れたロック板の貫通穴４４に通し、カソード２０とロック板４０を相対的に回転させてカソードの後部２４とロック板４０とを係合させて、ロック板４０を介してカソード２０を棚部３２で支持している。 （もっと読む）

【課題】安定したイオンビームの均一性を確保できるイオンドーピング装置を提供する。
【解決手段】イオン生成室２とプラズマ電極21との間に熱抵抗27を設置した。プラズマ電極21とイオン生成室２との間の温度差によるプラズマ電極21内の熱流を抑制できる。プラズマ電極21に堆積する堆積膜での電荷量の差を抑制できる。プラズマ電極21に印加される電圧分布を抑制できる。プラズマ電極21に冷却路を設けて冷却液を通液する。プラズマ電極21を均一に冷却できる。プラズマ電極21への堆積膜の形成を抑制できる。イオンドーピング室11内でのイオンビームの均一性の時間の経過に伴う低下を防止できる。 （もっと読む）

【課題】誘導結合された高周波プラズマフラッドガンを提供する技術を開示する。
【解決手段】一実施形態例によると、当該技術はイオン注入システムのプラズマフラッドガンとして実現され得る。当該プラズマフラッドガンは、１以上の開口を有するプラズマチャンバと、プラズマチャンバに対して少なくとも１種類のガス状物質を供給できるガス源と、プラズマを発生させることを目的として少なくとも１種類のガス状物質を励起するべく、プラズマチャンバに高周波電力を誘導結合することができる電源とを備える。プラズマチャンバの内面は全面にわたって金属含有材料がなく、プラズマはプラズマチャンバ内において金属含有素子にさらされることがない。また、１以上の開口は、プラズマから発生する荷電粒子の少なくとも一部が通り抜けるだけの幅を持つ。 （もっと読む）

イオン源の内部表面から堆積物を除去する堆積物クリーニングシステムは、フッ素源、絞り機構、および、コントローラを備える。フッ素源は、クリーニング材料としてフッ素をイオン源に供給する。絞り機構は、ソースアパーチャを少なくとも部分的に覆うことによって、イオン源のソースアパーチャを介したフッ素の損失を軽減する。コントローラは、フッ素源からイオン源までの供給と流量とを制御すると共に、絞り機構の位置合わせも制御する。
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【課題】イオン化室内でのクラスター崩壊を防ぎ、大電流化を可能にする。
【解決手段】ガスを電離して電子を生成するＲＦプラズマ電子源５によって中性粒子のクラスターをイオン化してガスクラスターイオンビーム１８を発生させる。イオン化室３がクラスターを加速するための電位を保ち、イオン化室３の壁に設けられた穴３ａの一部（電子導入用開口）から、イオン化室３内のクラスターにＲＦプラズマ電子源５からの電子が照射され、クラスターをイオン化する。イオン化室３の壁に設けられた穴３ａのうちで、電子導入用開口として用いるもの以外は、イオン化室３内の拡散粒子を外部へ放出する拡散粒子放出用開口となる。 （もっと読む）