【課題】 アルミニウムイオンを含むイオンビームを発生させるイオン源において、部品点数の削減および構造の簡素化を可能にする。
【解決手段】 このイオン源は、フッ素を含むイオン化ガス８が導入されるプラズマ生成容器２と、この容器２内の一方側に設けられた熱陰極１２と、プラズマ生成容器２内の他方側に設けられていて、バイアス電源２４から当該容器２に対して負電圧Ｖ_B が印加されて電子を反射する対向反射電極２０と、プラズマ生成容器２内に、熱陰極１２と対向反射電極２０とを結ぶ線に沿う磁界２８を発生させる磁石３０とを備えている。対向反射電極２０はアルミニウム含有物質から成る。 （もっと読む）

【課題】絶縁不良が生じにくく、メンテナンスの頻度を低減することのできるイオン発生装置を提供すること。
【解決手段】本発明にかかるイオン発生装置１００は、カソード孔１２、リペラ孔１４、ガス入口１６、およびイオン取出口１８を備えたアークチャンバ１０と、フィラメント２２およびサーマルブレイク２４を備え、カソード孔１２を介してアークチャンバ１０内に突出して設けられたカソード２０と、支柱３２および支柱３２の先端に設けられた反射板３４を備え、リペラ孔１４を介してアークチャンバ１０内に突出して設けられたリペラ３０と、を有し、サーマルブレイク２４および反射板３４は、アークチャンバ１０内で互いに対向しており、アークチャンバ１０は、カソード２０およびリペラ３０と電気的に絶縁されており、平面視において、リペラ孔１２は、反射板３４の輪郭の内側に形成される。 （もっと読む）

１以上のヘリコンプラズマソースを利用して高密度のワイドリボンイオンビームを生成することのできるイオンソースを開示する。イオンソースは、ヘリコンプラズマソースに加えて、拡散チャンバも含む。拡散チャンバは、ヘリコンプラズマソースの誘電体シリンダの軸と同じ軸に沿った方向に向けられた抽出開口を有する。一実施形態において、拡散チャンバの向かい合う両端に位置する２つのヘリコンプラズマソースが設けられ、より均一なイオンビームが抽出される。また、他の実施形態において、マルチカスプ磁場を使用することにより、抽出されたイオンビームの不均一性を改善する。 （もっと読む）

本発明は、長軸(ＡＡ')に沿う軸方向の対称性を持つ真空気密チェンバー(２)、
軸(ＡＡ')に関して回転対称性を持つ磁場を発生させるための手段(３、４、５、６)、そ
して高周波を伝搬するための手段からなるＥＣＲイオン・ゼネレータ(１)に関する。チェンバー(２)は、イオンが生成されるイオン化ゾーン(１０)を持つチェンバー(２)の一端にイオン化第一ステージ(７)、ゾーン(１０)内で軸(ＡＡ')にほぼ平行な磁場、そして伝搬
手段から来る第一の高周波を使用する生成されたイオンを磁気的に閉じ込めるための第二のステージ(８)を持つ。磁場が、ゾーン(１０)と第二のステージ(８)との間で軸(ＡＡ')
にほぼ平行であるため、ゾーン(１０)内で生成されたイオンは、第二のステージ(８)の方へ移動する。また、第一および第二のステージ(７、８)は、同じＤＣプラズマを含む。 （もっと読む）

イオンソースチャンバのクリーニング工程において、イオンソースチャンバの外部に位置する電極は抑制プラグを備える。ソースチャンバにクリーニングガスを導入する場合、抑制プラグがソースチャンバの引出し用アパーチャと係合してチャンバ内のガス圧を調整し、プラズマ助長化学反応によるチャンバクリーニング効果を高める。ソースチャンバアパーチャと抑制プラグとの間のガスの導入量は、最適なクリーニング条件を提供し、望ましくない堆積物を排出するように、クリーニング工程の間調整することができる。 （もっと読む）

マルチモードイオン源を提供する技術を開示する。本発明のある例示的態様においては、例えば、第１モードがアーク放電モードであり、第２モードがＲＦモードであるという複数モードで動作するイオン源を含むイオン注入装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】従来の供給材料種とクラスター供給材料をイオン化するためのマルチモードイオン源、およびアーク放電モードと非アーク放電モードで使用できるマルチモードイオン源を提供する。
【解決手段】第１と第２のイオン化チャンバ（イオン化容積）１１０、１２０をタンデム式に配置する。チャンバ１１０は従来の供給材料種に用い、アーク放電モードで使用するように構成される。チャンバ１２０はクラスター供給材料に用い、直接電子衝突モードのような非アーク放電モードで使用するように構成される。チャンバ１１０では、入口ポート１１５からガスまたは蒸気が供給され、間接加熱カソード１４０とチャンバとの間にアーク電圧が印加されアークプラズマが形成される。チャンバ１２０では、入口ポート１２５から分子供給材料のガスまたは蒸気が供給され、電子銃２００から打ち込まれた電子によってイオン化される。イオンビームは軸１３０に沿って引き出される。 （もっと読む）

本発明は、医療用同位体産生および核廃棄物の変換を含む他の用途に有用な小型高エネルギー陽子源を提供する。本発明は、燃料種を変化させることによって、高同位体中性子束を発生させるために使用可能なデバイスをさらに提供する。本発明は、^１８Ｆ、^１１Ｃ、^１５Ｏ、^６３Ｚｎ、^１２４Ｉ、^１３３Ｘｅ、^１１１Ｉｎ、^１２５Ｉ、^１３１Ｉ、^９９Ｍｏ、および^１３Ｎを含むが、それらに限定されない、同位体の発生のための装置をさらに提供する。一実施形態において、核子を発生させる方法は、イオン源を作動させてイオンビームを産生することと、該イオンビームを好適なエネルギーまで加速して加速イオンビームを産出することと、該加速イオンビームを該ビームと反応する選択された核子導出標的材料を含む標的システムに向けて核子を産出することとを含む。
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【課題】プラズマ生成容器に複数の被加熱体が設けられるイオン源において、安定した熱電子の放出が可能であり、被加熱体を交換するまでのイオン源の運用時間を長くする。
【解決手段】イオン源は、ガスが供給されてプラズマを生成する、導体面を有する内部空間を備えたプラズマ容器と、このプラズマ容器と電気絶縁され、内部空間の内壁面から突出し、通電することにより前記内部空間に熱電子を放出する一対の熱電子放出素子と、 一対の熱電子放出素子のそれぞれに電流を流す電源と、を有する。プラズマ容器内のプラズマに曝される内壁面の材料と、一対の熱電子放出素子の、プラズマに曝され、熱電子を放出する部分の材料が、同じ金属を主成分とする材料で構成される。 （もっと読む）

内壁が設けられるとともにイオン化されるガスを含むように構成されたイオン化チャンバ（３）と、イオン化チャンバ（３）内に配置されたフィラメント（１３）と、フィラメントへの電圧印加用の電源（１９）とを含むフィラメント放電イオン源（１）であって、フィラメント（１３）は実質的に互いに平行に配置されるとともに内壁を介して電源（１９）に接続され、少なくとも１つの第１のフィラメントが第１の内壁を介して電源に接続されるとともに少なくとも１つの第２のフィラメントが第１の内壁と対向する第２の内壁を介して電源に接続される、イオン源である。 （もっと読む）

【課題】イオン照射対象物品のイオン照射対象部分に全体的に均一に、効率よくイオン照射処理を施すことができる寿命の長いイオン照射装置を提供する。
【解決手段】電子源20A を物品Ｗのイオン照射対象部分の全体に臨むように設け、電子源20A におけるフィラメント2a、2a’、2a”は、電子源20A の全体にわたり不連続に複数段に分散並列配置する。フィラメントは、互いに逆向きの電流が流れるように平行又は略平行に接近する対部分をフィラメントの各端部寄りに含むように屈曲配置し、或いは、少なくとも一組の互いに隣り合うフィラメントについて、互いに逆向きの電流が流れるように相互に平行又は略平行に接近して対向する部分からなる対部分をフィラメントの両端部寄りに含ませる。かかる電子源から放出させた電子をチャンバ１内へ導入したガスに衝突させてプラズマを生成し、該プラズマ中のイオンを物品Ｗに照射する。 （もっと読む）

【課題】より高い電流密度を得ることを可能とすることにより、プロセスの高速化を図ることが可能なイオンガン及び成膜装置を提供する。
【解決手段】本発明のイオンガン１は、スリット状の開口部１１が形成された陰極２と、開口部１１の幅方向に磁場を発生させる磁石３と、この磁場に対して略垂直方向に電界を生じさせるように陰極２の裏面から離間して配置された陽極４と、を備え、陰極２の表面の開口部１１からイオンビームＢが引き出されるもので、陽極４を構成する材料が強磁性材、または非磁性のステンレス鋼を熱処理により弱磁性材化した弱磁性材である。 （もっと読む）

【課題】 組立てが容易であり、カソードの加熱効率を高めることができ、振動が加わってもカソードの少なくとも下方への位置ずれや脱落を防止することができ、かつねじ加工を使わずに済み、構造が簡単なカソード保持構造を提供する。
【解決手段】 このカソード保持構造は、熱電子を放出させるための前部２２、その背後の後部２４およびその側壁の周囲に形成された溝２６を有しているカソード２０と、筒状のものであってその先端部付近内にカソード２０の後部２４が通る貫通穴３４を有する棚部３２を備えているカソードホルダー３０と、平面形状がＣ形、断面形状が円形をしているロックワイヤ４０とを備えていて、カソード２０の後部２４を貫通穴３４に挿通し、溝２６にロックワイヤ４０を嵌めて、ロックワイヤ４０でカソード２０をカソードホルダー３０の棚部３２に係止している。 （もっと読む）

【課題】 異常放電を抑制し、安定してプラズマ発振が可能なイオンビーム処理装置を提供する。
【解決手段】 プラズマ生成空間を規定するプラズマ室１０と、プラズマ生成空間にプラズマを生成するための誘導電磁界を誘起するアンテナコイル１２と、アンテナコイル１２とプラズマ生成空間との間に、プラズマ室と大気との圧力隔壁として設けられた誘電体窓２２と、誘電体窓２２とプラズマ生成空間の間に配置される誘電体板２４と、プラズマ生成空間を挟んでアンテナコイル１２に対向する位置に配置され、プラズマ中のイオンを加速するための２枚以上の多孔引出電極３０とを含むイオンビーム源を備える。また、誘電体窓２２と誘電体板２４の間に配置され、互いに孤立した複数の第１導電配線と複数の第１導電配線の全てと一箇所で接続された第２導電配線を有するシールド電極２０を有する。 （もっと読む）

【課題】放電容器内におけるプラズマ密度分布を均一化できるイオン源の提供。
【解決手段】イオン源２は、開口２１ａが形成された放電容器２１と、放電容器２１外に設けられたコイル２２と、コイル２２に高周波電力を供給する高周波電源６１と、放電容器２１内に生成されたプラズマ中のイオンを開口２１ａから引出す引出電極２５と、を備えている。コイル２２は、放電容器２１外に設けられ、放電容器２１内に軸心が位置するように設けられている。コイル２２には、整合器６２を介して高周波電源６１が接続されている。放電容器２１内には、コイル２２の軸心上に位置する中心電極２３と、中心電極２３を囲むように配置される外周電極２４が設けられている。中心電極２３及び外周電極２４は、少なくとも一部がコイル２２内に位置するように設けられている。 （もっと読む）

イオンソース１００は、プラズマ生成部１０４と、第１ガスを受け取る第１ガス注入口１２２とを有する第１プラズマ室１０２であって、プラズマ生成部１０４および当該第１ガスが協働して上記第１プラズマ室１０４内に第１プラズマを生成し、上記第１プラズマ室１０２が、上記第１プラズマから電子を取り出す開口部１１４をさらに規定した第１プラズマ室１０２、および、第２ガスを受け取る第２ガス注入口１２４を有する第２プラズマ室１１６であって、第２プラズマ室１１６が、第１プラズマ室１０２の開口部１１４と合う位置に開口部１１７を規定し、当該開口部から取り出された電子を受け取り、電子および第２ガスが協働して第２プラズマ室１１６内に第２プラズマを生成し、第２プラズマ室１１６が、第２プラズマから各イオンを取り出す取り出し開口部１２０をさらに規定した第２プラズマ室１１６を有する。
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本発明は、処理ゾーン２を有する真空チャンバを実質的に連続的に移動して通過する金属基板又は絶縁基板３をプラズマ処理するための方法及びデバイスに関し、プラズマは、無線周波発生器に接続されるインダクタ４による処理ゾーン２内での無線周波誘導結合によって維持され、インダクタ４は、プラズマとインダクタ４の間に配置されるファラデー・ケージ７によって、基板３の表面によって放出される物質によるあらゆる汚染から保護され、ファラデー・ケージ７は、平均すると、プラズマ中に存在する基板３に対して、或いは対電極に対して電気的に正にバイアスされる。
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【課題】超小型のイオン源を用いることによりイオン源を駆動するための不要な電力を削減し、異なるプロセスを同一の真空装置で同時に行うことを可能とし、多品種・少量のＭＥＭＳ製品の製造を簡便・安価に行える経済性に優れた超小型イオン源装置および集積型超小型イオン源装置を提供する
【解決手段】対向する二つのカソード電極６，７が、どちらかまたは両方にイオン引き出し用のメッシュ状の孔をシリコン基板１，３上に有している。アノード電極８が、各カソード電極６，７の中間部に配置され、中心部に開口があるシリコン基板２を有する。絶縁性のパイレックスガラス基板４，５が、各カソード電極６，７とアノード電極８間を絶縁する。 （もっと読む）

【課題】イオン注入システムに使用されるイオン源を、一つの出力モードから他の出力モードへ、一つのイオン源材料から他のイオン源材料へ、移行可能とする。
【解決手段】イオン源アッセンブリ本体２２０は、フィラメント２０４と反射板２０６間の領域、及びＲＦアンテナ１２８のアーム間で、固体材料２２８、２３２からイオン化材料１１６及び１２０が供給され、イオン・プラズマ２１４を創り出すイオン源室２１２を備える。ＲＦアンテナ１２８は、セラミックチューブ２２５、サファイアによって囲まれた銅等から作り、ウオータジャケット２１６を使用して水冷にできる。イオン源室２１２は、その中に低出力直流放電要素１２６と、高出力放電要素であるＲＦアンテナ１２８の双方を含む。低出力放電要素である１２６は、カソードヒータフィラメント２０４、第１反射板２０６及び第２反射板２０８を含む。 （もっと読む）

イオン注入機システムのイオン源のための、電子生成及び集束用溝を有する陰極、イオン源及び関連方法を開示する。一実施形態において、陰極は作業面に設けられた複数の電子生成及び集束用溝を有する。イオン源の反射電極も同様の構造にすることができる。
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