【課題】２重極要素に静電４重極および静電６重極励起が追加された多要素静電シケイン・エネルギー・フィルタを提供すること。
【解決手段】絞りの位置に線焦点を形成することができる２重極、４重極および６重極要素の組合せを備える本発明に基づく荷電粒子エネルギー・フィルタは、空間電荷効果および絞りの損傷を低減させる。好ましい一実施形態は、このフィルタが、共役ブランキング・システムの役目を果たすことを可能にする。このエネルギー・フィルタは、エネルギー幅を狭くし、その結果としてビームをより小さくすることができる。 （もっと読む）

【課題】高密度の荷電粒子小ビームを用い、高精度で荷電粒子小ビームを操作することのできる粒子光学システムを提供する。
【解決手段】粒子光学装置であって、荷電粒子ビームを発生させる少なくとも１つの荷電粒子源３０１と、複数の開孔を有し、その下流側で荷電粒子ビーム３０９から複数の荷電粒子小ビーム３が形成され、その集束領域に荷電粒子小ビームのそれぞれが焦点３２３を有する少なくとも１つの多孔プレート３１３と、荷電粒子小ビームの焦点が形成される多孔プレートの集束領域で視野レンズの効果を有する焦点レンズ装置３０７と、粒子光学装置の物体面内に位置決め可能な物体上に多孔プレートの集束領域をおおむね結像させるための対物レンズ１０２とを備える。 （もっと読む）

【課題】 本願の目的は、ゲッタポンプを用いて荷電粒子源周辺を排気する構成において、荷電粒子源駆動中の排気性能の低下を抑制する。
【解決手段】 荷電粒子線の成形を行うアパーチャであって、前記アパーチャは表面に非蒸発型ゲッタポンプを有し、前記非蒸発型ゲッタポンプが前記荷電粒子線の照射を受ける位置に設置される。 （もっと読む）

【課題】位相差像におけるアーティファクトを低減することが可能な位相板を提供する。
【解決手段】位相板１００は、第１面１０ａと、第１面１０ａとは反対側の第２面１０ｂと、を有する第１電極層１０と、第２面１０ｂと対向する第３面１２ａと、第３面１２ａとは反対側の第４面１２ｂと、を有する第２電極層１２と、第４面１２ｂと対向する第５面１４ａと、第５面１４ａとは反対側の第６面１４ｂと、を有する第３電極層１４と、少なくとも第１電極層１０の第１面１０ａに形成された被覆層２０と、を含み、第１電極層１０、第２電極層１２、および第３電極層１４は、透過波W１の上流側から第１電極層１０、第２電極層１２、第３電極層１４の順に配置され、貫通孔２を有する積層体として形成され、被覆層２０の材質は、タンタル、タングステン、レニウム、またはモリブデンである。 （もっと読む）

【課題】電子ビーム装置において正確な絞り位置調整を行う。
【解決手段】電子銃111から試料に照射する電子ビームを通過させるための複数の絞り穴を備える絞り板113と、電子ビームの通過経路で前記絞り板を駆動する絞り駆動部170と、前記絞り板により遮断される前記電子ビームを電流として検出する電流検出部160と、前記電子ビームの照射と前記絞り駆動部による前記絞り板の駆動状態を制御する制御部101と、を備えた電子ビーム装置で電子ビームを絞る際に、電子ビームの通過経路中で複数の絞り穴が設けられた絞り板113を所定方向に移動させつつ、電流検出部160で検出される電流により絞り板113の駆動位置を算出する。 （もっと読む）

【課題】検査精度を向上させ、５〜３０ｎｍのデザインルールにも適用できる検査方法及び検査装置を提供すること。
【解決手段】本発明の検査装置は、荷電粒子又は電磁波の何れか一つをビームとして発生させるビーム発生手段と、ワーキングチャンバ内に保持した検査対象に前記ビームを導き照射する１次光学系と、可動式のニューメリカルアパーチャ、および前記検査対象から発生して当該ニューメリカルアパーチャを通過した二次荷電粒子を検出する第１検出器を有する２次光学系と、前記第１検出器によって検出された二次荷電粒子に基づいて画像を形成する画像処理系と、前記可動式のニューメリカルアパーチャと前記第１検出器の間に設けられ、前記検査対象から発生する二次荷電粒子のクロスオーバ位置における位置及び形状を検出する第２検出器とを備える。 （もっと読む）

【課題】一次電子ビームのエネルギー幅を低減し、低電圧ＳＥＭの解像度を改善するモノクロメーターを実現する。
【解決手段】光軸Ｚに添って、標準エネルギー及びエネルギー偏差を有する荷電粒子ビームを偏向させるための第１の分散ユニット２００、第２の分散ユニット４００、それらの中間面３１０に配置されたエネルギー制限アパーチャ３００及び荷電粒子ビームの焦点を調整するためのビーム調整素子１００を備えるモノクロメーター５００を形成し、荷電粒子ビームの仮想的なクロスオーバーＳ６を第１の分散ユニット２００とエネルギー制限アパーチャ３００との間に形成する。 （もっと読む）

【課題】
絞りホルダの絞りを隔壁の電子ビーム通過口に密着させると共に、絞りホルダ移動による微粉末発生を抑える。
【解決手段】
本発明の電子顕微鏡用絞り機構は、絞りを保持する絞りベースと、該絞りベースを保持すると共に絞りが電子ビーム通過口に一致する位置と外れる位置とに選択的に配置されるよう、隔壁に沿って移動可能に設けられる絞りホルダと、該絞りホルダの周囲に移動方向に沿って配置される凹凸部を有するレールとから構成される。前記絞りベースは前記レールと接する上下ローラを備え、前記絞りホルダは、前記絞りホルダに対して独立に前記絞りベースが前記電子ビーム通過口との距離が変わる方向に移動可能に前記絞りベースを支持し且つ前記絞りベースを前記電子ビーム通過口から離れる方向に付勢する絞りベース付勢手段を備える。前記レールは、絞りが電子ビーム通過口に一致する位置で電子ビーム通過口を塞ぐように前記ローラに力を与える凹凸部を有する。 （もっと読む）

【課題】ＴＥＭの回折平面における使用のためのブロッキング部材を提供する。
【解決手段】発明は、ＴＥＭの回折平面に置かれるものであるブロッキング部材に関係する。それは、シングルサイドバンドのイメージングのために使用されたナイフエッジに似るが、しかし小さい角度にわたって偏向させられた電子のみをブロックする。結果として、この発明に従ったＴＥＭのコントラスト伝達関数は、低い周波数でシングルサイドバンドの顕微鏡のもの及び高い周波数については正常な顕微鏡のものに等しいことになる。好ましいことは、ブロッキング部材によってブロックされた最も高い周波数が、ブロッキング部材無しの顕微鏡が０．５のＣＴＦを示すと思われるようなものであることである。 （もっと読む）

【課題】大型試料も観察可能で、しかも小型試料の観察を行う場合にあっては、試料観察開始の待ち時間の短縮をはかることができる走査電子顕微鏡を提供する。
【解決手段】対物レンズ下部に小型試料観察用の空間制限機構３０を設けて、小型試料又は大型試料の試料観察に対応して、試料室４内で空間制限機構３０の内部空間３６を狭小空間として画成して空間制限機構３０の周囲の試料室４内の空間に対して密閉し、排気シーケンスを切り替えて試料室４内の空間制限機構３０の内部空間３６だけを真空排気する。 （もっと読む）

【課題】純粋な透過情報を得ながら、観察領域に自由度を与え、さらに最適化した照射条件により、精度の高い干渉像を高い倍率で得ることを目的とする。
【解決手段】電子源１から発せられた電子線は収束レンズ3の下に配備されたバイプリズム１１によって分離され、試料を透過する電子線６、真空を通過する電子線７として対物レンズ４に入る。電子線は、対物レンズ４の前磁場で曲げられ、試料位置と真空をそれぞれ適当な距離はなれた状態で、平行ビームにて照射する。 （もっと読む）

【課題】電子顕微鏡装置の所望の結像解像度を維持しながら、一度に形成される一次電子ビームスポットの数や、密度を高める。
【解決手段】荷電粒子源と、ビーム経路中に配置された多孔プレートとを備えた粒子光学装置である。前記多孔プレートは、所定の第１のアレイパターン状に形成された複数の開孔を有し、下流側で前記荷電粒子ビームから複数の荷電粒子小ビームが形成され、前記複数の小ビームにより、第２のアレイパターン状に配置された複数のビームスポットが前記粒子光学装置の像平面に形成される。前記粒子光学装置は、前記荷電粒子ビーム及び／又は前記複数の小ビームを操作するための粒子光学素子をさらに備える。前記第１のアレイパターンは、第１の方向に第１のパターン規則性を有し、前記第２のアレイパターンは、前記第１の方向に電子光学的に対応する第２の方向に第２のパターン規則性を有し、前記第１のパターン規則性よりも高い。 （もっと読む）

透過型電子顕微鏡は、電子ビームを生成する電子ビーム源(20)を有する。前記電子ビームを収束させるようにビーム光学系が供されている。収差補正装置(90)は、少なくとも球面収差について前記電子ビームを補正する。前記電子ビームのビーム路中に試料(40)を保持する試料ホルダが供される。検出器(80)は、前記試料を透過する前記電子ビームを検出するのに用いられる。当該透過型電子顕微鏡は、前記電子ビームのゼロ次ビームが検出されない暗視野モードで動作する。当該透過型電子顕微鏡はまた、インコヒーレントな照射モードで動作することもできる。
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【課題】ウェハなどの試料の欠陥を検出する検査速度を向上させる。
【解決手段】電子ビームを検査試料に照射する一次電子光学系と、ウェハから放出された二次ビームを検出器に入射する二次光学系と、検出器と、検出器を制御するための制御装置とを備えた、電子線検査装置において、電子線検査装置は、一次コラム、二次コラムおよびチャンバーを有し、一次コラムには、電子銃、一次電子光学系が配置されており、チャンバーには、ステージが設置され、その上に試料が載置されており、二次コラムには、光軸上に、カソードレンズ、ニューメニカルアパーチャ、ウィーンフィルタ、第２レンズ、フィールドアパーチャ、第３レンズ、第４レンズおよび検出器が配置されており、開口部が電子ビームの集束位置およびカソードレンズの焦点位置になるように配置されて、カソードレンズと前記ニューメニカルアパーチャとは、テレセントリックな電子光学系を構成している。 （もっと読む）

【課題】本発明は電子顕微鏡の可動絞り位置制御方法及び装置に関し、絞りを移動させる場合に直感的な操作を行なうことができるようにした電子顕微鏡の可動絞り位置制御方法及び装置を提供することを目的としている。
【解決手段】電子顕微鏡の可動絞りの位置を制御する装置であって、絞りの移動方向を指定する操作部１０と、該操作部１０からの指定に基づいて絞りの移動方向の補正制御を行なうＣＰＵ１２と、絞りの移動方向データと絞りの移動方向に対する位置ずれを補正するための補正データが記憶された光学系条件テーブル１１よりなり、前記ＣＰＵ１２は前記操作部１０からの移動方向の指定に応じて前記光学系条件テーブル１１を参照して、可動絞り１４の位置が前記操作部１０で指定した移動方向になるように補正演算を行ない、該補正演算の結果の駆動データで可動絞り用モータ１３を駆動するように構成する。 （もっと読む）

【課題】電子レンズの球面収差による制約を受けることなく高散乱角の散乱電子を検出し、深さ分解能を向上させることができる透過型電子顕微鏡及び試料観察方法を提供する。
【解決手段】試料５に電子線２を照射する電子銃１と、試料５を透過して散乱する散乱電子を検出する電子検出器１３と、この電子検出器１３と試料５との間に位置し試料５からの散乱電子の通過範囲の内径及び外径を制限するリング状のスリットを有する第１の検出側環状絞り１５と、この第１の検出側環状絞り１５と電子検出器１３との間に位置し第１の検出側環状絞り１５を通過した散乱電子の通過範囲の内径及び外径をさらに制限するリング状のスリットを有する第２の検出側環状絞り１６とを備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

一実施形態は、基板の欠陥検査及び／又は点検、或いは基板上の特徴部の限界寸法を測定する電子ビーム装置に関する。この装置は、電子銃及び電子柱を含む。電子銃は電子源及び調整可能なビーム制限開口部を含み、電子源は、電子ビーム用の電子を発生させるように構成されており、調整可能なビーム制限開口部は、多様な開口部サイズから１つの開口部サイズを選択して使用するように構成されている。別の実施形態は、装置に電子ビームを供給することに関する。高感度と高処理能力の両方を得るように大きいビーム電流を維持しながら、本開示の装置及び方法はスポットのぼやけを有利に低減する。 （もっと読む）

【課題】粒子ビームのビーム電流の正確な調整を良好に行い、粒子ビームのモジュールとは無関係のビーム経路を限定する絞りユニットおよび絞りユニットを備える粒子ビーム装置を提案する。
【解決手段】粒子ビーム装置は、粒子を生成する粒子ビーム発生器（２）と、試料（１６）に粒子ビームを集束する対物レンズ（１０）と、第１コンデンサレンズ（６，６ａ，６ｂ，６ｃ）および第２コンデンサレンズ（７，７ａ，７ｂ，７ｃ）と、粒子ビーム発生器（２）と第１コンデンサレンズとの間に配置した第１絞りユニット（８）と、第１コンデンサレンズと第２コンデンサレンズとの間に配置した第２絞りユニット（９）とを備える。第１コンデンサレンズ（６）は、相互に無関係に第２絞りユニットに対して調整可能な第１極および第２極片（６ａ，６ｂ）を備え、第２絞りユニットは、第１圧力を有する真空の第１領域と、第２圧力を有する真空の第２領域とを相互に分離する圧力段階絞りである。 （もっと読む）

【課題】 プローブ電流の大小に拘わらず、差動排気絞りの汚染を抑止できる電子線装置を提供する。
【解決手段】 電子線装置１０１は、内部空間が超高真空に保たれ一次電子ビーム３を発生する電子銃部３１と、内部空間が電子銃部３１よりも低い真空度に保たれ、電子銃部３１で発生した一次電子ビーム３を試料１２上に集束させた電子プローブにより試料１２の走査を行う鏡体部３２と、電子銃部３１と鏡体部３２との内部空間を連通させるとともに、一次電子ビーム３を通過させる差動排気絞り３３と、電子線装置１０１内の各部を制御するための制御部４０とを具備している。さらに、第二陽極４と第一収束レンズ６の間には、相異なる複数の開口径の絞りを持った絞り機構３４が配置され、この絞りによって、第一収束レンズ６方向へ進行する一次電子ビーム３のプローブ電流Ｉｐの最大値が決定される。 （もっと読む）

【課題】微細なパターンを観察できる試料観察方法及び装置を提供する。
【解決手段】試料観察方法は、電子ビームを用いて試料のパターンを観察する。この方法は、試料に電子ビームを照射し、電子ビームの照射によって生じるミラー電子を検出し、検出されたミラー電子から試料の画像を生成する。電子ビームを照射するステップは、両側にエッジを有する凹パターンに電子ビームが照射されたときに照射電子が凹パターンにてＵターンしてミラー電子になるようにランディングエネルギーＬＥが調整された電子ビームを試料に照射する。好適な条件は、ＬＥＡ≦ＬＥ≦ＬＥＢ＋５[ｅＶ]である。 （もっと読む）