【課題】プラズマディスプレイパネルの製造に際して、真空排気時に除去された不純物ガスが放電ガス導入時に再びパネル内へ混入してしまうことを防止する。
【解決手段】プラズマディスプレイパネル１のパネル内を真空排気する際に、パネルと真空排気装置１０を接続する第１の配管３と第３の配管５を加熱してパネル内から除去された不純物ガスが配管の内壁に吸着することを防止し、パネル内に放電ガスを導入する際にはパネルとガスボンベ９を接続する第１の配管３と第２の配管４を冷却してパネル内に導入される放電ガスの純度を高める。 （もっと読む）

【課題】簡単な構成で欠陥部を迅速に修正することが可能な塗布ユニットおよびパターン修正装置を提供する。
【解決手段】このパターン修正装置においては、待機時には塗布針固定板２５を所定位置に位置決めして、塗布針先端部１４ａを修正液１３の中に浸漬させる。塗布時には、塗布針固定板２５を下降させて塗布針先端部１４ａを容器１９の底の孔１９ａから突出させ、塗布針先端部１４ａに修正液１３ａを付着させる。次に、塗布ユニット５を下降させ、塗布針先端部１４ａを基板１５の欠陥部１５ａに接触させて、欠陥部１５ａに修正液１３ａを塗布する。したがって、従来のように塗布針を欠陥部とインクタンクとの間を往復させる工程が省略される。 （もっと読む）

【課題】基板への表示電極および引出電極の形成を確実かつ安価に行える表示パネルを提供する。
【解決手段】引出電極１１Ｘ１（１１Ｙ１）はバス電極１１から分岐されるとともにバス電極１１の線幅の±３０％の範囲の線幅を有する複数の狭幅電極部１５１〜１５３を備えて構成される。そのため、印刷される凹状の溝に形成された電極パターンの幅はバス電極１１に対して引出電極１１Ｘ１（１１Ｙ１）が±３０％の範囲内であるから、ブランケットローラを基板上で転がし、ブランケットローラに転写されたインクを基板に転写する際に、全てのパターンでインク受理量が略同一となり、良好な転写が行われてバス電極１１および引出電極１１Ｘ１（１１Ｙ１）の形成を確実に行える。 （もっと読む）

【課題】 大型のガラス基板であっても、簡易な構成で、搬送トレイに対する受け渡しを確実なものとする、インライン式真空蒸着装置に例示されるインライン式処理装置におけるガラス基板のハンドリング機構を提供すること。
【解決手段】 少なくとも仕込／取出室と処理室の２室または仕込室と処理室と取出室の３室を有し、処理室で搬送トレイに載置したガラス基板の表面処理を行うインライン式処理装置におけるガラス基板のハンドリング機構であって、ガラス基板の被処理領域外の領域を静電チャックで吸着させてハンドリングするようにしてなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 セル配列の高精細化に対応できる蛍光体層形成技術を提供する。
【解決手段】 帯電性平面部材の表面にセルの選択された配列パターンに対応する帯電パターンを形成する工程Ｓ１、帯電性基材中に蛍光体粒子を分散させて形成された粉体粒子からなる蛍光体層形成材を一極性に帯電させて、該蛍光体層形成材によって帯電パターンを現像することにより、帯電性平面部材の表面にセルの選択された配列パターンに対応する蛍光体層形成材の現像パターンを形成する工程Ｓ２、基板と帯電性平面部材の表面を対面させて、現像パターンを基板上に非接触で転写することによって、選択された配列パターンに係るセル内に現像パターンを形成した蛍光体層形成材を充填させる工程Ｓ３を有し、その後、焼成処理ＳＬによってセル内に蛍光体層を形成する。 （もっと読む）

【課題】 セル配列の高精細化に対応できる蛍光体層形成技術を提供する。
【解決手段】 基板１０を導電性支持部材１１上に設置し、基板１０上に、セル１０Ａの選択された配列パターンに対応する開口パターン１２Ａを有する導電性マスク１２を非接触且つ近接配置し、セル１０Ａの選択された配列パターンと開口パターン１２Ａが平面的に重なるように位置決めする。その後、導電性支持部材１１と導電性マスク１２間に電圧を印加して、セル１０Ａと導電性マスク１２間に一様電界を形成すると共に、帯電性基材中に蛍光体粒子を分散させて形成された粉体粒子１からなる蛍光体層形成材を一極性に帯電させ、電圧を印加した状態で、導電性マスク１２を介して、帯電した蛍光体層形成材をセル１０Ａ内に充填する。 （もっと読む）

【課題】異物量が少なく、分散性の優れたペーストを製造するためのペースト分散装置を提供する。
【解決手段】円筒容器中に、該円筒容器と同軸上に回転可能なローターと、ローター外周部に配した自公転可能なローラーを配したころ式分散装置において、ローラーを構成する部材のビッカース硬度が、円筒容器およびローターを構成する部材のビッカース硬度より低いことを特徴とするペースト分散装置、およびその装置を用いたペースト製造方法。 （もっと読む）

【課題】分散不十分なペーストを低減し、高分散処理が可能なペーストの分散装置およびそれを用いたペースト製造方法を提供する。
【解決手段】円筒容器中に、該円筒容器と同軸上に回転可能なローターと、ローターの外周部に配した溝部内に自公転可能なローラーを配したコロ式分散装置であって、ローターの溝部が円周方向に４個以上配置されており、該ローターおよびローラーが円筒容器の軸方向に複数に分割され、隣接するローターの溝部が位相のずれた状態で配置されていることを特徴とするペースト分散装置、およびそれを用いたペースト製造方法。 （もっと読む）

【課題】 検査箇所を変更する際の移動時間とともに検査時間を短縮でき、検査効率を向上させることができる基板検査システム及び基板検査方法を提供すること。
【解決手段】 ガラス基板３を浮上させる基板浮上機構と、浮上したガラス基板３の端部を保持して一方向に搬送する基板搬送機構と、ガラス基板３の表面を光学的に拡大して観察する検査部Ｅと、ガラス基板３と平行で、かつ、ガラス基板３の搬送方向Ｃに直交する方向Ｖに検査部Ｅを移動する門型アーム１４と、基板搬送機構よりも精度よく搬送方向Ｃに検査部Ｅを移動する微動機構４９とを備えている。 （もっと読む）

【課題】 硫化アルミニウムを含有する硫化物成膜材料を保管する際に、水分による表面の酸化を防ぎ、保管後の良好な成膜が可能な保管方法を提供する。
【解決手段】 硫化アルミニウムを含有する硫化物成膜材料を、フッ素系液体中に保存する。フッ素系液体は０〜４０℃で液体であり、且つ沸点が７５℃以上１６０℃以下であることが好ましい。好ましいフッ素系液体としては、パーフルオロコンパウンド又はハイドロフルオロエーテルを用いることができる。 （もっと読む）

【課題】 高価なＮｉ基合金製のクリップと同等以上の特性を有した安価なクリップを提供する。
【解決手段】 被加熱部材を固定保持するクリップにおいて、該クリップは一枚の金属板で形成される底辺部と、該底辺部の両端から延びて弾性力によって近接する第１の側面部と第２の側面部を少なくとも有し、前記金属板は、ＭｏとＷの１種又は２種を含み、金属組織中に分散した平均粒径１００ｎｍ以下の金属間化合物粒子を有するＦｅ基合金でなるクリップ。Ｆｅ基合金の好ましい組成は、Ｃ０．２０％以下、Ｓｉ１．０％以下、Ｍｎ２．０％以下、Ｐ０．０４％以下、Ｓ０．０３％以下、Ｎｉ２０．０〜６０．０％、Ｃｒ１０〜２０．０％、ＭｏとＷの１種又は２種がＭｏ＋Ｗ／２で０．０５〜５．０％、Ｖ１．０％以下（０％含む）、Ａｌ０．０５〜３．０％、Ｔｉ１．５〜４．０％、Ｎｂ２．０％以下（０％含む）、Ｂ０．０１５％以下（０％含む）、残部は実質的にＦｅである。 （もっと読む）

【課題】塗布ヘッドの吐出口周辺のペーストを確実に拭き取り、塗布基板の優れた品位を確保することが可能な塗布ヘッド清掃方法及び装置、それを用いたペースト塗布方法及び装置、並びにプラズマディスプレイ部材の製造方法及び装置を提供する。
【解決手段】塗布ヘッドの吐出口周辺部に、拭き取り部材を弾性体を介して押し当て、塗布ヘッド又は拭き取り部材の少なくとも一方を相対的に移動させて拭き取る方法において、拭き取り液で湿潤させた拭き取り部材でのウェット拭きを行った後、乾燥させた拭き取り部材でのドライ拭きを行うことを特徴とする塗布ヘッド清掃方法及び装置、それを用いたペースト塗布方法及び装置、並びにプラズマディスプレイ部材の製造方法及び装置。 （もっと読む）

【課題】塗布抜けを無くし、塗液塗布製品の品位を向上し、生産性の向上を図る。
【解決手段】塗液を溜めるマニホールド部５２と、マニホールド部の内側から外側に開口する吐出開口部５３と、マニホールド部に塗液を供給するための塗液供給口５４を有し、吐出開口部の開口方向と塗液供給口の開口方向のなす角度が９０°〜１８０°である口金９。 （もっと読む）

【課題】 欠陥部を迅速に修正することが可能な作業性のよいパターン修正装置およびパターン修正方法を提供する。
【解決手段】 このパターン修正装置では、画素ＰＩＸ＿Ｂの着色層１３にある白抜け欠陥部１３ａに、シャッタ３１を開きながら塗布ノズル３０から霧状の修正液２０を噴出する。白抜け欠陥部１３ａ全体に適切な量の修正液２０ａが行きわたったら、シャッタ３１を閉じる。このため、従来の針方式のように１回塗布するごとに針にインクを付け直す作業を必要とせず、白抜け欠陥部に連続して修正液を堆積させることができる。したがって、欠陥修正にかかるタクトタイムの短縮が可能となる。 （もっと読む）

【課題】マスク材を容易に所望の状態に付与することが可能な、塗液の塗布方法及びプラズマディスプレイ部材の製造方法を提供する。
【解決手段】基板への塗布の開始、終了端近傍にマスク材を事前に付与し、塗液の塗布後、マスク材を剥離する塗液の塗布方法において、マスク材が液状で乾燥後固化する塗材であり、予め基板に塗布したマスク材の上から塗液を吐出し、終了端側のマスク材上で吐出を停止し、塗布終了後該マスク材を剥離することを特徴とする塗液の塗布方法、及びプラズマディスプレイ部材の製造方法。 （もっと読む）

【課題】誘電体層の塗布工程にかかる時間を短縮する誘電体層の形成装置及びそれを用いた短い工程時間によるＰＤＰの製造方法を提供する。
【解決手段】電極が形成された基板６０を石定盤３００に設けて固定する段階（ａ）と、所定の粘性を有する素材を噴射するコータを用いて所定の厚さに基板６０上に誘電体を塗布して誘電体層８０を形成する段階（ｂ）と、誘電体層８０を焼成する段階（ｃ）と、を含むディスプレイパネルの製造方法を提供する。また本発明では、基板６０が置かれる石定盤３００と、石定盤３００上で２次元運動可能に設けられたスロットダイ２００と、スロットダイ２００の端部に設けられて石定盤３００上に置かれた基板６０にコーティング液８０aを塗布するノズル２１０と、スロットダイ２００に供給されるコーティング液８０aを保管するコーティング液タンク２３０と、コーティング液タンク２３０からスロットダイ２００にコーティング液８０aを供給するコーティング液ポンプ２２０と、を備える誘電体層の形成装置である。 （もっと読む）

【課題】 微小クラックの発生を防止することが可能な微細パターン修正方法を提供する。
【解決手段】 ガラス基板８０の表面に形成されたリブ８３に発生したリブ欠け欠陥８５に修正ペースト２１を塗布し、塗布した修正ペースト２１からなる修正部３０の長さ方向に沿ってレーザスポット３１を移動させて修正部３０を焼成する。したがって、修正部３０において、レーザ光が照射された部分で発生した応力が照射されていない部分に開放され、大きな応力は発生しない。 （もっと読む）

【課題】 前面基板と背面基板との位置ずれ防止等を図る。
【解決手段】 上基板テーブル２により吸着保持されている背面基板ＲＳに対して下基板テーブルにより吸着保持されている前面基板ＦＳをずれ防止機構６の吸着テーブル２０による真空保持を行いつつ、前面基板ＦＳを上昇させて押し付けて前面基板ＦＳに反りが無い状態で、両基板を位置合わせした後、背面基板ＲＳの周端面と前面基板ＦＳの周端面とを固定用クリップ３２でクランプする。 （もっと読む）

【課題】
運用の初期から安定した状態で薄膜が形成される成膜装置を提供する。
【解決手段】成膜室７１にて薄膜被形成物の表面に電子ビームを用いて薄膜が蒸着されて形成され、このとき、成膜室７１内に水蒸気が導入され、同成膜室７１内の水分が同電子ビームによって酸素と水素とに解離され、同成膜室７１内の水素分圧が所定の制限範囲に保たれるように水蒸気の流量が制御される。このため、水素分圧に所定の制限範囲が設定される成膜が、成膜装置の稼動初期から終了まで安定して行われる。また、水蒸気発生装置７２や質量分析器７６など、成膜室７１に容易に後付けできる部品を用いて水素発生量を制御するようにしたので、真空室などを設けることなく、成膜装置が容易に改造される。 （もっと読む）

【課題】塗布される蛍光体の供給重量又はドット・サイズを精度良く調整する。
【解決手段】噴射システムは、プラズマ・パネル６６に対する相対運動のため取り付けられた噴射ディスペンサ７０を有する。制御装置は、噴射ディスペンサに、パネルのセルに塗布される蛍光体の液体粒子６４を噴射させるよう動作可能である。ドットの位置及びサイズを示すフィードバック信号が、制御装置に通信される。引き続き塗布される蛍光体のドットのサイズ、速度オフセット及び／又は位置が、フィードバック信号に応答して、加熱又は冷却し、又は噴射ディスペンサのピストンのストロークを調整することにより制御される。 （もっと読む）